JP4334339B2 - 処理ゲル表面処理方法および処理ゲル - Google Patents
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Description
処理は、例えば、エッチングや表面脱脂処理などの放射性または有機汚染除去処理であってもよい。
本方法は、金属表面、プラスチック表面、ガラス質の材料表面などのような処理される全ての種類の表面に使用できる。
特許文献1、特許文献2、特許文献3には、表面汚染除去のためのゲルが開示されている。これらのゲルは、シリカまたはアルミナを主成分としている。これらの文書には、乾燥時間、表面からの乾燥ゲル残留物の剥離およびこれら残留物のサイズが制御されるいかなるゲルも記述されていない。
− 処理すべき表面上に処理ゲルを塗布する段階
− ゲルが乾燥し、かつ乾燥した固形残留物を形成する前に表面を処理する時間を有するような温度と相対湿度とで、処理ゲルを処理すべき表面上に保持する段階、および
− 処理された表面から乾燥した固形残留物を取り除く段階
を有することを特徴とする。
− ゲルの重量に基づいて5〜25重量%の無機粘性剤または無機粘性剤の混合物、
− 0.1〜7mol/リットル、好ましくは0.5〜4mol/リットルの活性処理剤、および
− 随意で、強酸性媒体において1.4Vより大きい標準酸化還元電位E0を有する0.05〜1mol/リットルの酸化剤またはこの酸化剤の還元体
を含む。
これら添付図面において、Teは開始時の溶媒の量の割合として示された蒸発率を、tsは分単位で時間を、Tは各曲線について℃で示された温度を、およびHrは異なる実験中の相対湿度をパーセントで、それぞれ表す。
3種類の温度、30℃、25℃および20℃について、相対湿度のいくつかの値に対して図1ないし図3に表すグラフを作成した。
20℃での全乾燥時間については、実験結果を考慮し、35%の相対湿度で約7時間、42%の相対湿度で約8時間と推定された。
添付図4は、20℃および42%の相対湿度でのゲルの3つの堆積量に対して達成された曲線をまとめたものである。
湿度の影響を評価するため、一定温度で実施された前述の実験の間に観測された、ゲルの定速乾燥段階の特徴点から曲線を描いた。これらの曲線を添付図5に示す。この図において、「L」は、対応する複数の曲線の平均値から作成された、30℃で120分間の乾燥線を表している。この線は、方程式y=−1.6039x+110.27を有し、xは相対湿度(%)、yは蒸発率(溶媒の初期量の%)である。
42%の相対湿度で実行された実験では、異なる温度で動力学を比較した。その結果を図6に示す。
Claims (18)
- 処理ゲルによる表面を浄化、汚染除去、エッチング又は脱脂する処理方法であって、順に、
− 処理すべき表面上に、ゲルの重量を基準として、5〜25重量%の焼成シリカと沈降シリカの混合物と、0.5〜4mol/リットルの無機酸、無機酸の混合物又は無機塩基から選択される活性処理剤と、随意で、強酸性媒体にCe(IV)、Co(III)またはAg(II)から選択される1.4Vより大きい標準酸化還元電位E0を有する0.05〜1mol/リットルの酸化剤またはこの酸化剤の還元体とを含むコロイド溶液からなる処理ゲルを塗布するステップ、
− 乾燥した固形残留物が形成されるまで、20〜30℃の間の乾燥温度および20〜70%の間の相対湿度において、処理ゲルを処理すべき表面上に維持するステップ、および
− 処理表面から乾燥した固形残留物を除去するステップ
を含む処理方法。 - 前記焼成シリカと沈降シリカの混合物がゲルの5〜15重量%である、請求項1に記載の処理方法。
- 前記焼成シリカと沈降シリカの混合物がゲルの5〜10重量%である、請求項1に記載の処理方法。
- 前記沈降シリカがゲルの0.5重量%であり、前記焼成シリカがゲルの8重量%である、請求項1に記載の処理方法。
- 前記無機酸が、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、またはそれらの混合物の中から選択される、請求項1に記載の処理方法。
- 前記処理ゲルが、ゲル1リットル当たり0.5〜2molの濃度を有する無機塩基である活性処理剤からなる、請求項1ないし5のいずれか1項に記載の処理方法。
- 前記無機塩基が、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、またはそれらの混合物から選択される、請求項6に記載の処理方法。
- 前記処理ゲルが、ゲル1リットル当たり、5〜15重量%の焼成シリカと沈降シリカの混合物、0.5〜2mol/リットルの硝酸、および0.1〜0.5molのCe(NO3)4または(NH4)2Ce(NO3)6からなる、請求項1に記載の処理方法。
- 前記処理ゲルを、表面1平方メートル当たり100〜2000gの重量で、処理すべき表面上に塗布する、請求項1に記載の処理方法。
- 前記乾燥した固形残留物を、ブラッシングおよび/または吸引によって処理表面から除去する、請求項1に記載の処理方法。
- 金属面から酸化物層を除去するための、請求項1ないし10のいずれか1項に記載の処理方法。
- 処理すべき設備からの粉塵を除去した後に、請求項1ないし10のいずれか1項に記載の方法による設備の処理を行う、設備汚染除去方法。
- 前記設備が核施設の換気シャフトである、請求項12に記載の方法。
- ゲルの重量に基づき、5〜25重量%の焼成シリカと沈降シリカとの混合物と、0.5〜4mol/リットルの無機酸、無機酸の混合物又は無機塩基から選択される活性処理剤と、随意で強酸性媒体にCe(IV)、Co(III)またはAg(II)から選択される1.4Vより大きい標準酸化還元電位E0を有する0.05〜1mol/リットルの酸化剤またはこの酸化剤の還元体とを含むコロイド溶液からなる、表面を処理するための処理ゲル。
- 前記焼成シリカと沈降シリカの混合物が、ゲルの5〜15重量%である、請求項14に記載の処理ゲル。
- 前記焼成シリカと沈降シリカの混合物が、ゲルの5〜10重量%である、請求項14に記載の処理ゲル。
- 前記沈降シリカがゲルの0.5重量%であり、前記焼成シリカがゲルの8重量%である、請求項14に記載の処理ゲル。
- 前記無機酸が、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸またはそれらの混合物から選択される、請求項14に記載の処理ゲル。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0109520A FR2827530B1 (fr) | 2001-07-17 | 2001-07-17 | Procede de traitement d'une surface par un gel de traitement, et gel de traitement |
PCT/FR2002/002509 WO2003008529A1 (fr) | 2001-07-17 | 2002-07-15 | Procede de traitement d'une surface par un gel de traitement, et gel de traitement |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004535510A JP2004535510A (ja) | 2004-11-25 |
JP2004535510A5 JP2004535510A5 (ja) | 2009-05-07 |
JP4334339B2 true JP4334339B2 (ja) | 2009-09-30 |
Family
ID=8865598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003514073A Expired - Lifetime JP4334339B2 (ja) | 2001-07-17 | 2002-07-15 | 処理ゲル表面処理方法および処理ゲル |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7713357B2 (ja) |
EP (1) | EP1421165B1 (ja) |
JP (1) | JP4334339B2 (ja) |
CN (1) | CN1273578C (ja) |
AT (1) | ATE338806T1 (ja) |
DE (1) | DE60214567T2 (ja) |
ES (1) | ES2271318T3 (ja) |
FR (1) | FR2827530B1 (ja) |
RU (1) | RU2291895C2 (ja) |
UA (1) | UA82465C2 (ja) |
WO (1) | WO2003008529A1 (ja) |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3914721B2 (ja) * | 2001-06-25 | 2007-05-16 | 株式会社平間理化研究所 | 非水系レジスト剥離液管理装置及び非水系レジスト剥離液管理方法 |
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FR2990364B1 (fr) | 2012-05-11 | 2014-06-13 | Commissariat Energie Atomique | Procede de decontamination radioactive d'une terre par mousse de flottation a air disperse et ladite mousse |
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2001
- 2001-07-17 FR FR0109520A patent/FR2827530B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-07-15 RU RU2004104467/15A patent/RU2291895C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2002-07-15 CN CNB028181379A patent/CN1273578C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2002-07-15 US US10/483,839 patent/US7713357B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-15 EP EP02760387A patent/EP1421165B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2002-07-15 WO PCT/FR2002/002509 patent/WO2003008529A1/fr active IP Right Grant
- 2002-07-15 UA UA2004010352A patent/UA82465C2/uk unknown
- 2002-07-15 DE DE60214567T patent/DE60214567T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-07-15 ES ES02760387T patent/ES2271318T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-07-15 AT AT02760387T patent/ATE338806T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-07-15 JP JP2003514073A patent/JP4334339B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-08-09 US US11/200,700 patent/US7718010B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060032518A1 (en) | 2006-02-16 |
JP2004535510A (ja) | 2004-11-25 |
ES2271318T3 (es) | 2007-04-16 |
DE60214567T2 (de) | 2007-09-13 |
US7718010B2 (en) | 2010-05-18 |
EP1421165B1 (fr) | 2006-09-06 |
ATE338806T1 (de) | 2006-09-15 |
DE60214567D1 (de) | 2006-10-19 |
US7713357B2 (en) | 2010-05-11 |
UA82465C2 (uk) | 2008-04-25 |
EP1421165A1 (fr) | 2004-05-26 |
FR2827530A1 (fr) | 2003-01-24 |
CN1592778A (zh) | 2005-03-09 |
US20040175505A1 (en) | 2004-09-09 |
RU2004104467A (ru) | 2005-05-10 |
CN1273578C (zh) | 2006-09-06 |
RU2291895C2 (ru) | 2007-01-20 |
FR2827530B1 (fr) | 2004-05-21 |
WO2003008529A1 (fr) | 2003-01-30 |
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