RU2003131340A - Способ плазменной обработки поверхности и устройство для реализации способа - Google Patents
Способ плазменной обработки поверхности и устройство для реализации способа Download PDFInfo
- Publication number
- RU2003131340A RU2003131340A RU2003131340/28A RU2003131340A RU2003131340A RU 2003131340 A RU2003131340 A RU 2003131340A RU 2003131340/28 A RU2003131340/28 A RU 2003131340/28A RU 2003131340 A RU2003131340 A RU 2003131340A RU 2003131340 A RU2003131340 A RU 2003131340A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- plasma
- treated
- processed
- paragraphs
- process gas
- Prior art date
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32321—Discharge generated by other radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32623—Mechanical discharge control means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Claims (60)
1. Способ плазменной обработки поверхности подлежащего обработке объекта, включающий создание плазмы и приложение плазмы к подлежащей обработке поверхности, отличающийся тем, что возбуждают подлежащую обработке поверхность или плазму акустически приводят в колебания, так что создается относительное волновое движение между подлежащей обработке поверхностью и плазмой, при этом энергию для возбуждения подлежащей обработке поверхности получают от процесса создания плазмы.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что возбуждение подлежащей обработке поверхности или акустическое приведение в колебания плазмы осуществляют с помощью внешнего генератора колебаний в комбинации с энергией, получаемой в процессе создания плазмы.
3. Способ по любому из п.1 или 2, отличающийся тем, что генерируют ультразвук.
4. Способ по любому из п.2 или 3, отличающийся тем, что частоту колебаний генератора настраивают на частоту, близкую или равную одной из собственных частот подлежащего обработке объекта.
5. Способ по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что частоту и амплитуду колебаний подлежащего обработке объекта измеряют с помощью датчика вибраций для определения собственных частот колебания подлежащего обработке объекта и/или управления возбуждением подлежащей обработке поверхности.
6. Способ по любому из пп.1-5, отличающийся тем, что подлежащую обработке поверхность возбуждают с помощью ударной волны, создаваемой в процессе образования плазмы.
7. Способ по любому из пп.1-6, отличающийся тем, что возбуждение подлежащей обработке поверхности выполняют непосредственно, и/или во время, и/или непосредственно после приложения плазмы к подлежащей обработке поверхности.
8. Способ по любому из пп.1-7, отличающийся тем, что плазму создают в газовой среде, содержащей технологический газ, который может быть активирован плазменно-химическим методом, при этом технологический газ находится в контакте с подлежащей обработке поверхностью.
9. Способ по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что плазму генерируют импульсами, при этом срок существования генерированной плазмы больше периода волнового движения подлежащей обработке поверхности.
10. Способ по п.9, отличающийся тем, что импульсы плазмы генерируют с помощью, по существу, адиабатического и изоэнтропического сжатия газовой среды, содержащей технологический газ, который может быть активирован плазменно-химическим методом.
11. Способ по п.9, отличающийся тем, что импульсы генерируют с помощью падающих ударных волн и ударных волн, отраженных от подлежащей обработке поверхности.
12. Способ по п.9, отличающийся тем, что импульсы генерируют с помощью униполярных или высокочастотных импульсов электрического тока.
13. Способ по любому из пп.1-12, отличающийся тем, что время нарастания (t1) амплитуды электрического тока импульса короче отношения d/ν диаметра d созданного плазменного канала к скорости ν звука в газовой среде, окружающей плазменный канал.
14. Способ по любому из п.12 или 13, отличающийся тем, что звуковые ударные волны создают с помощью электрического пробоя во время создания плазменного канала или шнура.
15. Способ по любому из пп.12-14, отличающийся тем, что длительность (t2) электрического импульса регулируют так, чтобы избежать поверхностного нагревания подлежащей обработке поверхности свыше критической температуры нестабильности материала.
16. Способ по любому из пп.12-15, отличающийся тем, что обеспечивают интервал между импульсами (t3) большим послеразрядного времени (t4) для достижения большинством частиц подлежащей обработке поверхности стабильного или метастабильного состояния.
17. Способ по любому из пп.12-16, отличающийся тем, что плазму создают в виде разветвленной сети плазменных шнуров, генерирующих ударные волны.
18. Способ по любому из пп.12-17, отличающийся тем, что плазму перемещают над подлежащей обработке поверхностью посредством относительного перемещения электрода и подлежащего обработке объекта, и/или с помощью движущегося магнитного поля, и/или с помощью гидродинамического действия технологического газа, в котором создают плазму.
19. Способ по п.18, отличающийся тем, что длительность импульса (t2) меньше отношения между шириной плазменного шнура, приложенного к подлежащей обработке поверхности, и скоростью движения подлежащей обработке поверхности относительно плазмы.
20. Способ по любому из пп.12-19, отличающийся тем, что множество разветвленных плазменных шнуров, распределенных по подлежащей обработке поверхности, создают и прикладывают одновременно.
21. Способ по любому из пп.1-20, отличающийся тем, что плазму подают последовательно с технологическими газами, имеющими разный состав для разной последовательной обработки подлежащей обработке поверхности.
22. Способ по п.21, отличающийся тем, что технологические газы включают аргон, органо-металлические пары, такие как кремний и кислород, и углеводороды.
23. Способ по любому из пп.2-4, отличающийся тем, что в случае обработки бутылок или других глубоких контейнеров колебания создают под дном контейнера, противоположным горловине, так, чтобы усилить эффективность обработки на дне.
24. Способ по любому из пп.2-5, отличающийся тем, что анизотропное травление подлежащей обработке поверхности осуществляют посредством генерирования колебаний в соответствующем направлении относительно подлежащей обработке поверхности.
25. Способ по п.24, отличающийся тем, что при обработке травлением полупроводниковой поверхности колебания возбуждают перемещением в направлении, по существу, перпендикулярном указанной поверхности.
26. Способ по любому из пп.1-16, отличающийся тем, что плазменная обработка является обработкой травлением, и волновое движение подлежащей обработке поверхности, такой как поверхность монокристаллической кремниевой пластины, на которую нанесена микроэлектронная структура и частично защищена масками из фоторезистивного материала, осуществляют в выбранном направлении, таком как перпендикулярное поверхности пластины, что обеспечивает возможность выполнения обработки изотропным травлением, при этом степень анизотропии зависит от амплитуды и частоты волнового движения, приложенного к подлежащей обработке поверхности.
27. Способ по любому из пп.1-16, отличающийся тем, что подлежащий обработке объект является листом металла, или пластмассы, или текстиля, подвергаемым одновременному воздействию плазменного потока и колебательного движения опоры, которая фиксирует положение листа относительно плазменного потока.
28. Способ по любому из пп.1-16, отличающийся тем, что плазму генерируют одновременно в двух местах внутренней поверхности подлежащего обработке объекта большого объема и сложной конфигурации с помощью двух высокочастотных разрядов в виде сети разветвленных плазменных шнуров между двумя емкостными электродами, которые приводят в качающееся движение вдоль наружной поверхности подлежащего обработке объекта.
29. Способ по любому из пп.1-28, отличающийся тем, что плотность энергии, сообщаемая подлежащему обработке объекту с помощью волнового движения, больше одной тысячной увеличения плотности тепловой энергии, сообщаемой объекту перед или после обработки.
30. Способ по любому из пп.1-29, отличающийся тем, что плотность энергии, сообщаемая подлежащему обработке объекту с помощью волнового движения, больше одного процента увеличения плотности тепловой энергии, сообщаемой объекту перед или после обработки
31. Способ по любому из пп.1-30, отличающийся тем, что амплитуду волнового движения обеспечивают существенно большей толщины пограничного слоя, который образуется между плазмой и поверхностью объекта во время плазменной обработки, при этом эффект сопровождается турбулентностью плазмы.
32. Устройство для реализации способа обработки поверхности по любому из пп.1-31, отличающееся тем, что оно содержит устройство для генерирования плазмы и датчик колебаний, расположенный с возможностью измерения колебаний, излучаемых подлежащим обработке объектом, во время процесса плазменной обработки поверхности.
33. Устройство для реализации способа обработки поверхности по любому из пп.1-31, отличающееся тем, что оно содержит устройство для генерирования плазмы и лазерную систему, способную излучать лазерный луч через стенку подлежащего обработке объекта, и датчик отраженных лазерных лучей или лазерных лучей, проходящих через стенку, для обнаружения числа фотонов, излучаемых за счет нелинейных эффектов во время прохождения лазерного луча через обрабатываемую поверхность, или уменьшения потока первичных фотонов, вызываемого их рекомбинацией вследствие нелинейных эффектов.
34. Устройство для реализации способа обработки поверхности по любому из пп.1-31, отличающееся тем, что оно содержит жидкую ванну для погружения подлежащих обработке объектов во время плазменной обработки поверхности.
35. Устройство для реализации способа обработки поверхности по п.10, отличающееся тем, что оно содержит кожух с частью, предназначенной для размещения подлежащих обработке объектов, и частью камеры для поршня, при этом части разделены поршнем, поршень установлен с возможностью быстрого перемещения внутри кожуха в направлении подлежащих обработке объектов с обеспечением сжатия технологического газа, окружающего подлежащие обработке объекты до давления, превышающего критическое давление образования плазмы в данном технологическом газе.
36. Устройство для реализации способа обработки поверхности по п.11, отличающееся тем, что оно содержит кожух с частью, предназначенной для размещения подлежащих обработке объектов, и частью камеры сжатия, содержащей сжатый технологический газ, при этом части кожуха разделены стенкой, выполненной с возможностью удаления или разрушения.
37. Устройство по любому из пп.33-36, отличающееся тем, что датчик колебаний установлен с возможностью измерения колебаний, излучаемых подлежащим обработке объектом во время процесса плазменной обработки поверхности.
38. Устройство по любому из пп.32, 33, 35-37, отличающееся тем, что лазерная система, способная излучать лазерный луч через стенку подлежащего обработке объекта, содержит датчик для отраженных лазерных лучей или лазерных лучей, проходящих через стенку, с целью обнаружения числа фотонов, излучаемых за счет нелинейных эффектов во время прохождения лазерного луча через подлежащую обработке поверхность, или уменьшения потока первичных фотонов, вызванного рекомбинацией вследствие нелинейных эффектов.
39. Устройство по любому из п.32 или 33, отличающееся тем, что оно содержит устройство для охлаждения подлежащего обработке объекта с помощью потока или струи текучей среды, направляемой на подлежащий обработке объект.
40. Устройство по п.39, отличающееся тем, что охлаждающее устройство выполнено с возможностью направления потока воздуха или другого газа на подлежащий обработке объект во время или непосредственно после приложения плазмы к подлежащей обработке поверхности.
41. Устройство по любому из пп.37-40, отличающееся тем, что устройство для генерирования плазмы содержит электрод, выполненный с возможностью перемещения относительно подлежащего обработке объекта.
42. Устройство по любому из пп.32-34, 39-41, отличающееся тем, что устройство для генерирования плазмы включает электрод, содержащий канал для подачи газа.
43. Устройство по п.42, отличающееся тем, что электрод содержит несколько каналов подачи газа.
44. Устройство по любому из п.42 или 43, отличающееся тем, что электрод содержит вращающую подающую головку, на которой установлены канал или каналы подачи технологического газа для обработки, по существу, осесиммметричных контейнеров.
45. Устройство по любому из пп.41-44, отличающееся тем, что каналы подачи технологического газа выполнены с возможностью регулирования угла их наклона и соответственно регулирования угла падения струи технологического газа относительно подлежащей обработке поверхности.
46. Устройство по любому из пп.41-44, отличающееся тем, что каналы подачи технологического газа для обработки, по существу, осесимметричных контейнеров расположены, по существу, по поверхности конуса для распределения технологического газа, по существу, осесимметричным образом.
47. Устройство по п.32, отличающееся тем, что устройство для генерирования плазмы выполнено с возможностью генерирования плазмы с помощью электрического разряда содержит электрод в виде струи проводящей жидкости, которую можно направлять на стенку подлежащего обработке объекта со стороны, противоположной подлежащей обработке поверхности.
48. Устройство по п.47, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит признаки одного или нескольких пп.32-34.
49. Устройство по любому из пп.32-48, отличающееся тем, что оно содержит средства для регистрации и контроля параметров плазмы во время обработки.
50. Устройство по п.49, отличающееся тем, что средства для регистрации и контроля параметров способны регистрировать и/или сверять фронт нарастания импульса электрического напряжения и/или электрического тока.
51. Устройство по любому из п.49 или 50, отличающееся тем, что устройства для регистрации и контроля параметров способны регистрировать и/или проверять амплитуду и длительность импульсов, а также перерыв между импульсами.
52. Устройство по любому из пп.49, 50 или 51, отличающееся тем, что средства для регистрации и контроля параметров способны также регистрировать и/или сверять амплитуду и частоту акустических колебаний, излучаемых подлежащим обработке объектом.
53. Устройство по любому из пп.49, 50, 51 или 52, отличающееся тем, что средства для регистрации и контроля параметров способны также регистрировать и/или сверять температуру подлежащего обработке объекта.
54. Способ получения порошка, включающий генерирование импульсной плазмы в камере, содержащей химические газы, и одновременное генерирование акустических колебаний в камере, при этом газы разлагаются плазмой с образованием скоплений, степень структуризации которых определяется одновременным действием плазмы и акустических колебаний.
55. Способ по п.54, отличающийся тем, что плазму приводят в режим акустических колебаний с помощью внешнего генератора колебаний.
56. Способ по любому из п.54 или 55, отличающийся тем, что генерируют ультразвук.
57. Способ по любому из пп.54, 55 или 56, отличающийся тем, что частоту и амплитуду колебаний измеряют с помощью датчика вибраций.
58. Способ по любому из пп.54-57, отличающийся тем, что плазму приводят в режим колебаний с помощью ударных волн, возникающих в процессе создания плазмы.
59. Способ по любому из пп.54-58, отличающийся тем, что длительность каждого импульса плазмы больше периода цикла колебаний.
60. Способ по любому из пп.54-59, отличающийся тем, что импульсы генерируют с помощью импульсов электрического тока, которые являются униполярными или высокочастотными.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP01810318.4 | 2001-03-27 | ||
| EP01810318 | 2001-03-27 | ||
| EP01120974.9 | 2001-08-31 | ||
| EP01810915 | 2001-09-20 | ||
| EP01810915.7 | 2001-09-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2003131340A true RU2003131340A (ru) | 2005-02-27 |
| RU2283667C2 RU2283667C2 (ru) | 2006-09-20 |
Family
ID=26077361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2003131340/28A RU2283667C2 (ru) | 2001-03-27 | 2002-03-26 | Способ плазменной обработки поверхности и устройство для реализации способа |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020182101A1 (ru) |
| RU (1) | RU2283667C2 (ru) |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1619266B1 (en) * | 2003-03-12 | 2010-05-12 | Toyo Seikan Kaisya, Ltd. | Method and apparatus for chemical plasma processing of plastic containers |
| BRPI0514309B1 (pt) | 2004-08-13 | 2016-03-29 | Force Technology | método para melhoria de um processo envolvendo um objeto sólido e um gás |
| JP5438325B2 (ja) * | 2006-02-14 | 2014-03-12 | 日立造船株式会社 | ボトルの内部を照射する方法 |
| NO2153704T3 (ru) * | 2007-05-11 | 2018-07-14 | ||
| FR2930121B1 (fr) * | 2008-04-18 | 2010-05-21 | Shiseido Int France | Flacon de parfum |
| WO2013170052A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
| PL2251453T3 (pl) | 2009-05-13 | 2014-05-30 | Sio2 Medical Products Inc | Uchwyt na pojemnik |
| US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
| US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
| US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
| US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
| US9554968B2 (en) | 2013-03-11 | 2017-01-31 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging |
| US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
| EP2776603B1 (en) | 2011-11-11 | 2019-03-06 | SiO2 Medical Products, Inc. | PASSIVATION, pH PROTECTIVE OR LUBRICITY COATING FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE, COATING PROCESS AND APPARATUS |
| US20130264309A1 (en) * | 2012-04-05 | 2013-10-10 | Ian J. Kenworthy | Acoustic energy utilization in plasma processing |
| CN104854257B (zh) | 2012-11-01 | 2018-04-13 | Sio2医药产品公司 | 涂层检查方法 |
| US9903782B2 (en) | 2012-11-16 | 2018-02-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
| BR112015012470B1 (pt) | 2012-11-30 | 2022-08-02 | Sio2 Medical Products, Inc | Método de produção de um tambor médico para um cartucho ou seringa médica |
| US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
| US9662450B2 (en) | 2013-03-01 | 2017-05-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus |
| US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
| US9863042B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-01-09 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD lubricity vessel coating, coating process and apparatus providing different power levels in two phases |
| EP3693493A1 (en) | 2014-03-28 | 2020-08-12 | SiO2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
| KR20180048694A (ko) | 2015-08-18 | 2018-05-10 | 에스아이오2 메디컬 프로덕츠, 인크. | 산소 전달률이 낮은, 의약품 및 다른 제품의 포장용기 |
| US10194672B2 (en) | 2015-10-23 | 2019-02-05 | NanoGuard Technologies, LLC | Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas |
| RU175916U1 (ru) * | 2017-02-27 | 2017-12-22 | Артем Анатольевич Миронов | Устройство очистки и предупреждения образования отложений |
| FR3091875B1 (fr) * | 2019-01-17 | 2021-09-24 | Innovative Systems Et Tech Isytech | Procédé et dispositif de traitement pour le dépôt d’un revêtement à effet barrière |
| US10925144B2 (en) | 2019-06-14 | 2021-02-16 | NanoGuard Technologies, LLC | Electrode assembly, dielectric barrier discharge system and use thereof |
| US11122790B2 (en) * | 2019-12-30 | 2021-09-21 | Nbs Tek Llc | Cold plasma method and apparatus for eradication of the taxonomic class insecta |
| US11896731B2 (en) | 2020-04-03 | 2024-02-13 | NanoGuard Technologies, LLC | Methods of disarming viruses using reactive gas |
| DE102020215102A1 (de) * | 2020-12-01 | 2022-06-02 | BSH Hausgeräte GmbH | Verfahren zum Ansteuern einer Plasmaquelle eines Geräts und Gerät |
-
2002
- 2002-02-22 US US10/080,495 patent/US20020182101A1/en not_active Abandoned
- 2002-03-26 RU RU2003131340/28A patent/RU2283667C2/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2283667C2 (ru) | 2006-09-20 |
| US20020182101A1 (en) | 2002-12-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2003131340A (ru) | Способ плазменной обработки поверхности и устройство для реализации способа | |
| EP2153705B1 (en) | Enhancing gas-phase reaction in a plasma using high intensity and high power ultrasonic acoustic waves | |
| US7288293B2 (en) | Process for plasma surface treatment and device for realizing the process | |
| Lepoint et al. | What exactly is cavitation chemistry? | |
| JP4092937B2 (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
| JP5183382B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| EP0661090B1 (en) | Liquid treating method and liquid treating apparatus | |
| KR101125352B1 (ko) | 캐비테이션 임계값 분석-제어 방법 및 장치 | |
| JP5974009B2 (ja) | 改良超音波洗浄方法および装置 | |
| JP2004527077A5 (ru) | ||
| RU2447926C2 (ru) | Способ коагуляции инородных частиц в газовых потоках | |
| CA3084868A1 (en) | Apparatus and method for prevention and treatment of marine biofouling | |
| ES2294112T3 (es) | Procedimiento para el tratamiento de superficie por plasma y dispositivo para la realizacion de dicho procedimiento. | |
| RU102197U1 (ru) | Ультразвуковая коагуляционная камера | |
| JPH05317820A (ja) | 超音波洗浄方法及び装置 | |
| JPS61141955A (ja) | 液体噴射装置 | |
| Al-Suleimani et al. | How orderly is ultrasonic atomization | |
| JP2010219119A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP4321308B2 (ja) | プラズマ発生方法及び装置 | |
| EP2515323B1 (en) | Method and apparatus for cleaning semiconductor substrates | |
| RU2816893C1 (ru) | Способ диспергирования пузырьков газа в жидкости | |
| Lepoint et al. | Theoretical bases | |
| Sato et al. | Oscillation mode conversion and energy confinement of acoustically agitated bubbles | |
| JP2003033735A (ja) | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄装置用治具 | |
| Kozuka et al. | 1J1-5 Evaluation of the sound field in ultrasonic atomization using a horn |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20140327 |