RU2002123315A - Фотовольтаически активный р-или n-допированный полупроводниковый материал, фотовольтаическая ячейка, содержащая его, способ получения указанного материала, способ комбинаторного получения и испытания указанного материала, способ получения фотовольтаических ячеек и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате - Google Patents

Фотовольтаически активный р-или n-допированный полупроводниковый материал, фотовольтаическая ячейка, содержащая его, способ получения указанного материала, способ комбинаторного получения и испытания указанного материала, способ получения фотовольтаических ячеек и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате Download PDF

Info

Publication number
RU2002123315A
RU2002123315A RU2002123315/28A RU2002123315A RU2002123315A RU 2002123315 A RU2002123315 A RU 2002123315A RU 2002123315/28 A RU2002123315/28 A RU 2002123315/28A RU 2002123315 A RU2002123315 A RU 2002123315A RU 2002123315 A RU2002123315 A RU 2002123315A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
semiconductor material
photovoltaic
photovoltaic cell
cell according
matrix
Prior art date
Application number
RU2002123315/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Ханс-Йозеф ШТЕРЦЕЛЬ (DE)
Ханс-Йозеф ШТЕРЦЕЛЬ
Клаус КЮЛИНГ (DE)
Клаус Кюлинг
Original Assignee
БАСФ Акциенгезельшафт (DE)
Басф Акциенгезельшафт
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE2001142632 external-priority patent/DE10142632A1/de
Priority claimed from DE2002123744 external-priority patent/DE10223744A1/de
Application filed by БАСФ Акциенгезельшафт (DE), Басф Акциенгезельшафт filed Critical БАСФ Акциенгезельшафт (DE)
Publication of RU2002123315A publication Critical patent/RU2002123315A/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/032Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Claims (13)

1. Фотовольтаически активный р- или n-допированный полупроводниковый материал, состоящий из тройного соединения общей формулы (I)
Figure 00000001
где Me означает Al, Ti, Zr, V, Nb, Та, Cr, Мо, W, Mn, Fe, Co, Ni, Cu или Ag;
SA, SB означает В, С, Si, Ge, Sb, Se или Те, где SA и SB, соответственно, являются различными группами Периодической таблицы;
х, у, z независимо от друг друга имеют значения от 0,01 до 1, и где доля по массе SA и SB вместе составляет не более 30%, будучи выраженной относительно всего полупроводникового материала, или из смешанного оксида общей формулы (II)
Figure 00000002
где Me является Fe, Cu, V, Mn, Sn, Ti, Мо, W;
n=целое число от 1 до 6;
а=1 или 2;
f=число от 0,2 до 5;
k=число от 0,01 до 2;
u+v+w+x=1,
за исключением тройных соединений, состоящих из AlB12 и SiB6.
2. Способ получения полупроводникового материала по п.1 спеканием или совместным плавлением с последующим спеканием смесей порошков элементов, либо спеканием смесей порошков оксидов, экструдированием с формированием ленты и, возможно, вытягиванием ленты в течение последующего охлаждения ниже точки плавления материала.
3. Фотовольтаическая ячейка, имеющая фотовольтаически активный полупроводниковый материал, состоящий из множества металлов или оксидов металлов, где фотовольтаически активный материал выбран из р- или n-допированного полупроводникового материала, состоящего из тройного соединения формулы (I)
Figure 00000003
где Me является Al, Ti, Zr, V, Nb, Та, Cr, Mo, W, Mn, Fe, Co, Ni, Cu или Ag;
SA, SB являются В, С, Si, Ge, Sb, Se или Те, где SA и SB соответственно, явдяются различными группами Периодической таблицы;
х, у, z независимо от друг друга имеют значения от 0,01 до 1, и где доля по массе SA и SB вместе составляет не более 30%, будучи выраженной относительно всего полупроводникового материала, или из смешанного оксида общей формулы (II)
Figure 00000004
где Me является Fe, Cu, V, Mn, Sn, Ti, Mo, W;
n=целое число от 1 до 6;
а=1 или 2;
f=число от 0,2 до 5;
k=число от 0,01 до 2;
u+v+w+x=1.
4. Фотовольтаическая ячейка по п.1, где в полупроводниковом материале SA и SB выбирают из В, С, Ge, Sb, Se или Те.
5. Фотовольтаическая ячейка по п.3 или 4, где в полупроводниковом материале Me выбирают из Al, Ti и Zr.
6. Фотовольтаическая ячейка по п.3 или 4, где в полупроводниковом материале Me выбирают из V, Mb и Та.
7. Фотовольтаическая ячейка по п.3 или 4, где в полупроводниковом материале Me выбирают из Cr, Мо или W.
8. Фотовольтаическая ячейка по п.3 или 4, где в полупроводниковом материале Me выбирают из Mn, Fe, Со и Ni.
9. Фотовольтаическая ячейка по п.3 или 4, где в полупроводниковом материале Me выбирают из Cu и Ag.
10. Фотовольтаическая ячейка по п.3, где для смешанного оксида f имеет величину в интервале от 0,2 до 0,9 или 1, либо от 1,01 до 2, либо от 2,01 до 5.
11. Способ получения фотовольтаических ячеек по одному из пп.3-10 нанесением слоев полупроводникового материала на проводящие субстраты посредством трафаретной печати.
12. Способ комбинаторного получения и испытания полупроводниковых материалов для фотовольтаических ячеек по п.1, в котором матрицу тонкопленочных точек полупроводниковых материалов с различным составом получают на проводящем двумерном субстрате, субстрат подвергают тепловой обработке с доведением матрицы до желательной температуры измерения, и точки, соответственно, приводят в контакт с измерительной иглой, причем измеряют при освещении напряжение без нагрузки, ток и напряжение с уменьшением нагрузочного сопротивления и/или при коротком замыкании с последующим сохранением и оценкой.
13. Матрица из, по меньшей мере, 10 различных полупроводниковых материалов по п.1 на проводящем субстрате.
RU2002123315/28A 2001-08-31 2002-08-30 Фотовольтаически активный р-или n-допированный полупроводниковый материал, фотовольтаическая ячейка, содержащая его, способ получения указанного материала, способ комбинаторного получения и испытания указанного материала, способ получения фотовольтаических ячеек и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате RU2002123315A (ru)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10142632.1 2001-08-31
DE2001142632 DE10142632A1 (de) 2001-08-31 2001-08-31 Photovoltaisch aktive Materialien und diese enthaltende Zellen
DE2002123744 DE10223744A1 (de) 2002-05-28 2002-05-28 Photovoltaisch aktive Materialien und diese enthaltende Zellen
DE10223744.1 2002-05-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2002123315A true RU2002123315A (ru) 2004-03-27

Family

ID=26010037

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2002123315/28A RU2002123315A (ru) 2001-08-31 2002-08-30 Фотовольтаически активный р-или n-допированный полупроводниковый материал, фотовольтаическая ячейка, содержащая его, способ получения указанного материала, способ комбинаторного получения и испытания указанного материала, способ получения фотовольтаических ячеек и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7026543B2 (ru)
EP (1) EP1291927A3 (ru)
JP (1) JP2003179243A (ru)
RU (1) RU2002123315A (ru)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004052012A1 (de) * 2004-10-26 2006-04-27 Basf Ag Photovoltaische Zelle mit einem photovoltaisch aktiven Halbleitermaterial
DE102004052014A1 (de) * 2004-10-26 2006-05-04 Basf Ag Photovoltaische Zelle
DE102005047907A1 (de) * 2005-10-06 2007-04-12 Basf Ag Photovoltaische Zelle mit einem darin enthaltenen photovoltaisch aktiven Halbleitermaterial
EP1972014A1 (de) * 2006-01-03 2008-09-24 Basf Se Photovoltaisch aktives halbleitermaterial und photovoltaische zelle
KR101160269B1 (ko) 2011-04-15 2012-06-27 포항공과대학교 산학협력단 삼성분계 반도체 복합체를 이용한 광전환 소재 및 이의 제조 방법
KR101626933B1 (ko) 2013-11-29 2016-06-02 주식회사 엘지화학 신규한 화합물 반도체 및 그 활용

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3008797A (en) * 1957-10-10 1961-11-14 Du Pont Ternary selenides and tellurides of silver and antimony and their preparation
GB970980A (en) * 1960-09-06 1964-09-23 Gen Electric Co Ltd Improvements in or relating to methods of preparing crystalline compounds
US3762960A (en) * 1965-11-24 1973-10-02 Teledyne Inc Thermoelectric alloys
US3390090A (en) * 1966-09-12 1968-06-25 Merck & Co Inc Metallic selenides and tellurides and process for making same
US4062706A (en) * 1976-04-12 1977-12-13 Robert Arthur Ruehrwein Process for III-V compound epitaxial crystals utilizing inert carrier gas
US4101923A (en) * 1977-03-22 1978-07-18 Gulko Arnold G Solar cells
JPS5457434A (en) * 1977-10-18 1979-05-09 Stanley Electric Co Ltd Vacuum depositing method for selenium
US4782377A (en) * 1986-09-30 1988-11-01 Colorado State University Research Foundation Semiconducting metal silicide radiation detectors and source
US4710588A (en) * 1986-10-06 1987-12-01 Hughes Aircraft Company Combined photovoltaic-thermoelectric solar cell and solar cell array
US5242505A (en) * 1991-12-03 1993-09-07 Electric Power Research Institute Amorphous silicon-based photovoltaic semiconductor materials free from Staebler-Wronski effects
DE4313866A1 (de) * 1993-04-28 1994-11-03 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von Silicium-Bor-Legierungen sowie Verwendung der Legierungen
JP3348924B2 (ja) * 1993-08-04 2002-11-20 株式会社テクノバ 熱電半導体材料
US5641362A (en) * 1995-11-22 1997-06-24 Ebara Solar, Inc. Structure and fabrication process for an aluminum alloy junction self-aligned back contact silicon solar cell
US6013872A (en) * 1997-04-25 2000-01-11 Bayer Ag Directionally solidified, multicrystalline silicon, a process for the production thereof and its use, and solar cells containing this silicon and a process for the production thereof
DE19834236A1 (de) * 1998-07-29 2000-02-03 Basf Ag Carbonyleisensilizid-Pulver
US6312617B1 (en) * 1998-10-13 2001-11-06 Board Of Trustees Operating Michigan State University Conductive isostructural compounds
DE19910816A1 (de) * 1999-03-11 2000-10-05 Merck Patent Gmbh Dotierpasten zur Erzeugung von p,p+ und n,n+ Bereichen in Halbleitern
EP1074512B1 (en) * 1999-08-03 2017-02-15 IHI Corporation Clathrate compounds, manufacture thereof, and thermoelectric materials, thermoelectric modules, semiconductor materials and hard materials based thereon
EP1087412B1 (en) * 1999-09-24 2008-10-01 Kabushiki Kaisha Toshiba Electrolyte composition, photosensitized solar cell using said electrolyte composition, and method of manufacturing photosensitized solar cell
DE19955788A1 (de) * 1999-11-19 2001-05-23 Basf Ag Thermoelektrisch aktive Materialien und diese enthaltende Generatoren
DE10142634A1 (de) * 2001-08-31 2003-03-20 Basf Ag Thermoelektrisch aktive Materialien und diese enthaltende Generatoren und Peltier-Anordnungen

Also Published As

Publication number Publication date
EP1291927A3 (de) 2005-03-30
EP1291927A2 (de) 2003-03-12
JP2003179243A (ja) 2003-06-27
US7026543B2 (en) 2006-04-11
US20030051752A1 (en) 2003-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Kanade et al. Composition dependent resistivity of thick film Ni (1− x) CoxMn2O4:(0≤ x≤ 1) NTC thermistors
US6744110B2 (en) Thermoelectrically active materials and generators and Peltier arrangements containing them
US9595652B2 (en) Thermoelectric material and thermoelectric element including the same
He et al. Thermoelectric properties of La1− xAxCoO3 (A= Pb, Na)
JP4035572B2 (ja) 熱電変換材料、その製造方法及び熱電変換素子
RU2002123315A (ru) Фотовольтаически активный р-или n-допированный полупроводниковый материал, фотовольтаическая ячейка, содержащая его, способ получения указанного материала, способ комбинаторного получения и испытания указанного материала, способ получения фотовольтаических ячеек и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате
US20050081906A1 (en) Thermoelectric conversion material, thermoelectric conversion element using the material, cooling device and electric apparatus using the element, and electric power generation method and cooling method using the element
Banerjee et al. Smart technique for fabrication of zinc oxide varistor
Kusy On the structure and conduction mechanism of thick resistive films
CN110372335A (zh) 一种锰镍铝钴基ntc热敏电阻材料及其制备方法
JPWO2007083576A1 (ja) 熱電変換材料とこれを用いた熱電変換素子ならびにこの素子を備える電子機器および冷却装置
RU2002123316A (ru) Термоэлектрически активный р- или n-допированный полупроводник, термоэлектрический генератор или устройство пельтье, содержащие его, способ комбинаторного получения и испытания полупроводниковых материалов для термоэлектрических генераторов или устройства пельтье и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате
CA1092251A (en) Ceramic electrical resistor with nonlinear voltage characteristic
JP2571789B2 (ja) 超電導材料及びその製造方法
JP3771756B2 (ja) 圧電磁器組成物
JP5949347B2 (ja) n型熱電変換性能を有する金属材料
JPWO2006129459A1 (ja) 熱電変換材料とこれを用いた熱電変換素子ならびにこの素子を備える電子機器および冷却装置
Yong et al. Hall effect in single phase Ba2YCu3O7− δ
CN1967734B (zh) 层叠型片状可变电阻的制作方法
Mazumdar et al. Superconductivity in the ternary nickel silicide Lu 2 Ni 3 Si 5
JPH07235405A (ja) サーミスタ焼結体
Kulawik et al. Fabrication and characterization of bulk and thick film perovskite NTC thermistors
Bhushan et al. Novel nonohmic binary composite
EP0974983A1 (de) Thermistor
KR102036555B1 (ko) 열전소재 및 이의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20050831