RU2001119066A - Рентгеновский измерительно-испытательный комплекс - Google Patents
Рентгеновский измерительно-испытательный комплексInfo
- Publication number
- RU2001119066A RU2001119066A RU2001119066/09A RU2001119066A RU2001119066A RU 2001119066 A RU2001119066 A RU 2001119066A RU 2001119066/09 A RU2001119066/09 A RU 2001119066/09A RU 2001119066 A RU2001119066 A RU 2001119066A RU 2001119066 A RU2001119066 A RU 2001119066A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- radiation
- ray
- quasi
- detector
- complex according
- Prior art date
Links
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 claims 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 claims 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
Claims (27)
1. Измерительно-испытательный комплекс для исследований в рентгеновском диапазоне излучения одновременно на нескольких аналитических установках, содержащий источник излучения, каналы транспортировки излучения к аналитическим установкам и аппаратуру аналитических установок (5), отличающийся тем, что в качестве источника излучения он содержит источник (1) расходящегося рентгеновского излучения, по меньшей мере один канал транспортировки излучения к аналитическим установкам (5) содержит рентгеновскую линзу (2) в виде совокупности изогнутых каналов (10) с использованием многократного полного внешнего отражения рентгеновского излучения от их стенок (11), установленную и выполненную с возможностью захвата части (3) расходящегося рентгеновского излучения источника (1) и преобразования его в квазипараллельный пучок (4).
2. Комплекс по п.1, отличающийся тем, что он дополнительно содержит рентгеновскую линзу (6) в виде совокупности изогнутых каналов с использованием многократного полного внешнего отражения рентгеновского излучения от их стенок, установленную и выполненную с возможностью захвата части расходящегося рентгеновского излучения источника (1) и его фокусирования, а также аналитическую установку (8), размещенную со стороны выходной фокусной области (22) указанной рентгеновской линзы (6) и выполненную с возможностью позиционирования объекта (18) исследования для совмещения требуемой его части с выходной фокусной областью (22) указанной рентгеновской линзы (6).
3. Комплекс по п.2, отличающийся тем, что аналитическая установка (8), размещенная со стороны выходной фокусной области (22) указанной рентгеновской линзы (6), предназначена для проведения спектрометрических исследований и содержит детектор (19) излучения, возбужденного в исследуемом образце (18), подключенный к выходу детектора спектрометрический тракт (20) и подключенное к выходу последнего средство (21) обработки и отображения информации.
4. Комплекс по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что он в качестве источника расходящегося рентгеновского излучения содержит рентгеновскую трубку (1).
5. Комплекс по п.4, отличающийся тем, что рентгеновская трубка (1) выполнена с микрофокусным анодом.
6. Комплекс по п.4, отличающийся тем, что рентгеновская трубка (1) выполнена с прострельным анодом.
7. Комплекс по п.4, отличающийся тем, что рентгеновская трубка (1) выполнена с вращающимся анодом.
8. Комплекс по п.4, отличающийся тем, что рентгеновская трубка (1) выполнена со сложным анодом.
9. Комплекс по п.4, отличающийся тем, что рентгеновская трубка (1) выполнена с вольфрамовым анодом.
10. Комплекс по любому из пп.7-9, отличающийся тем, что он дополнительно содержит, по меньшей мере, один монохроматор (33), установленный с возможностью выделения и отражения в направлении аналитической установки части (34,35) квазипараллельного пучка (4), формируемого рентгеновской линзой (2), установленной с возможностью захвата части расходящегося рентгеновского излучения источника и выполненной с возможностью преобразования его в квазипараллельный пучок.
11. Комплекс по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что он в качестве источника расходящегося рентгеновского излучения содержит плазменный или лазерный рентгеновский источник.
12. Комплекс по любому из пп.1-3 и 5-9, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для проведения дифрактометричсских исследований и содержит средство (17) для размещения исследуемого образца (18) и ориентации его относительно направления распространения квазипараллельного пучка (4), детектор (19) излучения, дифрагированного на исследуемом образце, и средство (25) для взаимного позиционирования детектора и исследуемого образца, а также подключенное к выходу детектора (19) средство (26) обработки и отображения информации.
13. Комплекс по любому из пп.1-3 и 5-9, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для получения изображения внутренней структуры объекта и содержит средство (17) для позиционирования объекта (18) и детектор (27) прошедшего через объект излучения со средствами визуализации и регистрации изображения.
14. Комплекс по любому из пп.1-3 и 5-9, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для осуществления рентгеновской литографии и содержит средство (28) для размещения маски (29) и установленное за ним средство (30) для размещения подложки (31) с нанесенным на ее поверхность слоем резиста (32).
15. Комплекс по любому из пп.1-3 и 5-9, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для проведения спектрометрических исследований и содержит рентгеновскую линзу (23) в виде совокупности изогнутых каналов с использованием многократного полного внешнего отражения рентгеновского излучения от их стенок, установленную и выполненную с возможностью фокусирования квазипараллельного пучка излучения, средство (17) позиционирования исследуемого образца (18) для совмещения требуемой его части с областью (24) фокусирования рентгеновского излучения, детектор (19) возбужденного в исследуемом образце (18) излучения, подключенный к выходу детектора (19) спектрометрический тракт (20) и подключенное к выходу последнего средство (21) обработки и отображения информации.
16. Комплекс по п.4, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для проведения дифрактометрических исследований и содержит средство (17) для размещения исследуемого образца (18) и ориентации его относительно направления распространения квазипараллельного пучка (4), детектор (19) излучения, дифрагированного на исследуемом образце, и средство (25) для взаимного позиционирования детектора и исследуемого образца, а также подключенное к выходу детектора (19) средство (26) обработки и отображения информации.
17. Комплекс по п.4, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для получения изображения внутренней структуры объекта и содержит средство (17) для позиционирования объекта (18) и детектор (27) прошедшего через объект излучения со средствами визуализации и регистрации изображения.
18. Комплекс по п.4, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для осуществления рентгеновской литографии и содержит средство (28) для размещения маски (29) и установленное за ним средство (30) для размещения подложки (31) с нанесенным на ее поверхность слоем резиста (32).
19. Комплекс по п.4, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для проведения спектрометрических исследований и содержит рентгеновскую линзу (23) в виде совокупности изогнутых каналов с использованием многократного полного внешнего отражения рентгеновского излучения от их стенок, установленную и выполненную с возможностью фокусирования квазипараллельного пучка излучения, средство (17) позиционирования исследуемого образца (18) для совмещения требуемой его части с областью (24) фокусирования рентгеновского излучения, детектор (19) возбужденного в исследуемом образце (18) излучения, подключенный к выходу детектора (19) спектрометрический тракт (20) и подключенное к выходу последнего средство (21) обработки и отображения информации.
20. Комплекс по п.10, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для проведения дифрактометрических исследований и содержит средство (17) для размещения исследуемого образца (18) и ориентации его относительно направления распространения квазипараллельного пучка (4), детектор (19) излучения, дифрагированного на исследуемом образце, и средство (25) для взаимного позиционирования детектора и исследуемого образца, а также подключенное к выходу детектора (19) средство (26) обработки и отображения информации.
21. Комплекс по п.10, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для получения изображения внутренней структуры объекта и содержит средство (17) для позиционирования объекта (18) и детектор (27) прошедшего через объект излучения со средствами визуализации и регистрации изображения.
22. Комплекс по п.10, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для осуществления рентгеновской литографии и содержит средство (28) для размещения маски (29) и установленное за ним средство (30) для размещения подложки (31) с нанесенным на ее поверхность слоем резиста (32).
23. Комплекс по п.10, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для проведения спектрометрических исследований и содержит рентгеновскую линзу (23) в виде совокупности изогнутых каналов с использованием многократного полного внешнего отражения рентгеновского излучения от их стенок, установленную и выполненную с возможностью фокусирования квазипараллельного пучка излучения, средство (17) позиционирования исследуемого образца (18) для совмещения требуемой его части с областью (24) фокусирования рентгеновского излучения, детектор (19) возбужденного в исследуемом образце (18) излучения, подключенный к выходу детектора (19) спектрометрический тракт (20) и подключенное к выходу последнего средство (21) обработки и отображения информации.
24. Комплекс по п.11, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для проведения дифрактометрических исследований и содержит средство (17) для размещения исследуемого образца (18) и ориентации его относительно направления распространения квазипараллельного пучка (4), детектор (19) излучения, дифрагированного на исследуемом образце, и средство (25) для взаимного позиционирования детектора и исследуемого образца, а также подключенное к выходу детектора (19) средство (26) обработки и отображения информации.
25. Комплекс по п.11, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для получения изображения внутренней структуры объекта и содержит средство (17) для позиционирования объекта (18) и детектор (27) прошедшего через объект излучения со средствами визуализации и регистрации изображения.
26. Комплекс по п.11, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для осуществления рентгеновской литографии и содержит средство (28) для размещения маски (29) и установленное за ним средство (30) для размещения подложки (31) с нанесенным на ее поверхность слоем резиста (32).
27. Комплекс по п.11, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одна из аналитических установок (5), к которой транспортируется квазипараллельный пучок (4) излучения, предназначена для проведения спектрометрических исследований и содержит рентгеновскую линзу (23) в виде совокупности изогнутых каналов с использованием многократного полного внешнего отражения рентгеновского излучения от их стенок, установленную и выполненную с возможностью фокусирования квазипараллельного пучка излучения, средство (17) позиционирования исследуемого образца (18) для совмещения требуемой его части с областью (24) фокусирования рентгеновского излучения, детектор (19) возбужденного в исследуемом образце (18) излучения, подключенный к выходу детектора (19) спектрометрический тракт (20) и подключенное к выходу последнего средство (21) обработки и отображения информации.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/RU2000/000324 WO2002012871A1 (fr) | 2000-08-07 | 2000-08-07 | Complexe de mesure et d'essai a rayons x |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2001119066A true RU2001119066A (ru) | 2003-06-27 |
| RU2208227C2 RU2208227C2 (ru) | 2003-07-10 |
Family
ID=20129538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2001119066/09A RU2208227C2 (ru) | 2000-08-07 | 2000-08-07 | Рентгеновский измерительно-испытательный комплекс |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7110503B1 (ru) |
| EP (1) | EP1308717A4 (ru) |
| JP (1) | JP3734254B2 (ru) |
| KR (1) | KR100690457B1 (ru) |
| CN (1) | CN1230674C (ru) |
| AU (2) | AU1315101A (ru) |
| CA (1) | CA2397070C (ru) |
| HK (1) | HK1059645A1 (ru) |
| RU (1) | RU2208227C2 (ru) |
| UA (1) | UA59495C2 (ru) |
| WO (1) | WO2002012871A1 (ru) |
Families Citing this family (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7248672B2 (en) * | 2005-04-21 | 2007-07-24 | Bruker Axs, Inc. | Multiple-position x-ray tube for diffractometer |
| CN101278360B (zh) * | 2005-08-04 | 2011-07-27 | X射线光学系统公司 | 用于痕量元素制图的单色x射线微束 |
| AU2007208311A1 (en) * | 2006-01-24 | 2007-08-02 | Brookhaven Science Associates | Systems and methods for detecting an image of an object by use of an X-ray beam having a polychromatic distribution |
| JP2009236633A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Ｘ線異物検査装置 |
| EP2370807A4 (en) * | 2008-12-01 | 2015-11-11 | Univ North Carolina | SYSTEM AND METHOD FOR IMAGING AN OBJECT BY MEANS OF MULTI-RAY IMAGING FROM A X-RAY WITH POLYCHROMATIC DISTRIBUTION |
| JP5347559B2 (ja) * | 2009-02-25 | 2013-11-20 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線分析装置 |
| US8369674B2 (en) * | 2009-05-20 | 2013-02-05 | General Electric Company | Optimizing total internal reflection multilayer optics through material selection |
| CA2763367C (en) | 2009-06-04 | 2016-09-13 | Nextray, Inc. | Strain matching of crystals and horizontally-spaced monochromator and analyzer crystal arrays in diffraction enhanced imaging systems and related methods |
| US8204174B2 (en) | 2009-06-04 | 2012-06-19 | Nextray, Inc. | Systems and methods for detecting an image of an object by use of X-ray beams generated by multiple small area sources and by use of facing sides of adjacent monochromator crystals |
| US8548123B2 (en) * | 2010-04-29 | 2013-10-01 | Bruker Axs, Inc. | Method and apparatus for using an area X-ray detector as a point detector in an X-ray diffractometer |
| US20150117599A1 (en) | 2013-10-31 | 2015-04-30 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
| JP2013221882A (ja) * | 2012-04-18 | 2013-10-28 | Hitachi Ltd | 測定装置 |
| RU2524792C1 (ru) * | 2013-01-09 | 2014-08-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики микроструктур Российской академии наук (ИФМ РАН) | Устройство для осуществления контроля шероховатости поверхности |
| US9989758B2 (en) | 2013-04-10 | 2018-06-05 | Kla-Tencor Corporation | Debris protection system for reflective optic utilizing gas flow |
| US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
| US10416099B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-09-17 | Sigray, Inc. | Method of performing X-ray spectroscopy and X-ray absorption spectrometer system |
| US10269528B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-04-23 | Sigray, Inc. | Diverging X-ray sources using linear accumulation |
| US10297359B2 (en) * | 2013-09-19 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray illumination system with multiple target microstructures |
| US10304580B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-05-28 | Sigray, Inc. | Talbot X-ray microscope |
| USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
| US10401309B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-09-03 | Sigray, Inc. | X-ray techniques using structured illumination |
| JP6397690B2 (ja) * | 2014-08-11 | 2018-09-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Ｘ線透過検査装置及び異物検出方法 |
| US10352880B2 (en) | 2015-04-29 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | Method and apparatus for x-ray microscopy |
| CN104865050B (zh) * | 2015-05-13 | 2017-05-31 | 北京控制工程研究所 | 基于x射线光学仿真的掠入射光学系统聚焦性能分析方法 |
| US10295486B2 (en) | 2015-08-18 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution |
| DE102016014213A1 (de) * | 2015-12-08 | 2017-07-06 | Shimadzu Corporation | Röntgenspektroskopische analysevorrichtung und elementaranalyseverfahren |
| US10247683B2 (en) | 2016-12-03 | 2019-04-02 | Sigray, Inc. | Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams |
| US10578566B2 (en) | 2018-04-03 | 2020-03-03 | Sigray, Inc. | X-ray emission spectrometer system |
| US10989822B2 (en) | 2018-06-04 | 2021-04-27 | Sigray, Inc. | Wavelength dispersive x-ray spectrometer |
| US10658145B2 (en) | 2018-07-26 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | High brightness x-ray reflection source |
| US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
| CN112638261A (zh) | 2018-09-04 | 2021-04-09 | 斯格瑞公司 | 利用滤波的x射线荧光的系统和方法 |
| US11056308B2 (en) | 2018-09-07 | 2021-07-06 | Sigray, Inc. | System and method for depth-selectable x-ray analysis |
| EP3633360B1 (en) * | 2018-10-01 | 2022-07-13 | Scienta Omicron AB | Hard x-ray photoelectron spectroscopy arrangement and system |
| US11217357B2 (en) | 2020-02-10 | 2022-01-04 | Sigray, Inc. | X-ray mirror optics with multiple hyperboloidal/hyperbolic surface profiles |
| CN116099135B (zh) * | 2023-04-13 | 2023-06-27 | 智维精准(北京)医疗科技有限公司 | 一种检测装置和使用该检测装置的直线加速器 |
Family Cites Families (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3980568A (en) * | 1975-10-17 | 1976-09-14 | Hankison Corporation | Radiation detection system |
| NL7806330A (nl) | 1978-06-12 | 1979-12-14 | Philips Nv | Roentgenspektrometer. |
| GB2133208B (en) | 1982-11-18 | 1986-02-19 | Kratos Ltd | X-ray sources |
| DE3330806A1 (de) * | 1983-08-26 | 1985-03-14 | Feinfocus Röntgensysteme GmbH, 3050 Wunstorf | Roentgenlithographiegeraet |
| US4631743A (en) * | 1983-09-22 | 1986-12-23 | Agency Of Industrial Science & Technology | X-ray generating apparatus |
| US4719645A (en) * | 1985-08-12 | 1988-01-12 | Fujitsu Limited | Rotary anode assembly for an X-ray source |
| US5204506A (en) * | 1987-12-07 | 1993-04-20 | The Regents Of The University Of California | Plasma pinch surface treating apparatus and method of using same |
| US5073913A (en) * | 1988-04-26 | 1991-12-17 | Acctek Associates, Inc. | Apparatus for acceleration and application of negative ions and electrons |
| JP2627543B2 (ja) * | 1988-09-05 | 1997-07-09 | キヤノン株式会社 | Ｓｏｒ露光システム |
| US5031199A (en) * | 1990-06-05 | 1991-07-09 | Wisconsin Alumni Research Foundation | X-ray lithography beamline method and apparatus |
| US5192869A (en) * | 1990-10-31 | 1993-03-09 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Device for controlling beams of particles, X-ray and gamma quanta |
| US5497008A (en) * | 1990-10-31 | 1996-03-05 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Use of a Kumakhov lens in analytic instruments |
| US5175755A (en) * | 1990-10-31 | 1992-12-29 | X-Ray Optical System, Inc. | Use of a kumakhov lens for x-ray lithography |
| US5394451A (en) * | 1991-10-08 | 1995-02-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical arrangement for exposure apparatus |
| EP0583844B1 (en) * | 1992-08-18 | 1999-07-28 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | X-ray examination apparatus with light concentration means and plural image sensors |
| JP3167074B2 (ja) * | 1993-06-30 | 2001-05-14 | キヤノン株式会社 | Ｓｏｒ露光システム及びこれを用いて製造されたマスク |
| US5459771A (en) * | 1994-04-01 | 1995-10-17 | University Of Central Florida | Water laser plasma x-ray point source and apparatus |
| GB2288961B (en) | 1994-04-22 | 1998-10-14 | Rolls Royce Plc | An apparatus and a method for inspecting a crystal |
| US5570408A (en) * | 1995-02-28 | 1996-10-29 | X-Ray Optical Systems, Inc. | High intensity, small diameter x-ray beam, capillary optic system |
| DE19509516C1 (de) | 1995-03-20 | 1996-09-26 | Medixtec Gmbh Medizinische Ger | Mikrofokus-Röntgeneinrichtung |
| EP1207407A2 (en) * | 1995-04-07 | 2002-05-22 | Rikagaku Kenkyusho | Radiation beam position monitor and position measurement method |
| US5512759A (en) * | 1995-06-06 | 1996-04-30 | Sweatt; William C. | Condenser for illuminating a ringfield camera with synchrotron emission light |
| US5745547A (en) * | 1995-08-04 | 1998-04-28 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Multiple channel optic |
| GB9519687D0 (en) * | 1995-09-27 | 1995-11-29 | Schlumberger Ltd | Method of determining earth formation characteristics |
| US5682415A (en) * | 1995-10-13 | 1997-10-28 | O'hara; David B. | Collimator for x-ray spectroscopy |
| CN1069136C (zh) * | 1996-02-17 | 2001-08-01 | 北京师范大学 | 整体x光透镜及其制造方法及使用整体x光透镜的设备 |
| US5784430A (en) * | 1996-04-16 | 1998-07-21 | Northrop Grumman Corporation | Multiple station gamma ray absorption contraband detection system |
| RU2112290C1 (ru) | 1996-07-26 | 1998-05-27 | Мурадин Абубекирович Кумахов | Устройство для преобразования пучков нейтральных или заряженных частиц и способ его изготовления (варианты) |
| RU2115943C1 (ru) | 1997-01-16 | 1998-07-20 | Виктор Натанович Ингал | Способ фазовой рентгенографии объектов и устройство для его осуществления (варианты) |
| US6041098A (en) * | 1997-02-03 | 2000-03-21 | Touryanski; Alexander G. | X-ray reflectometer |
| US6049588A (en) * | 1997-07-10 | 2000-04-11 | Focused X-Rays | X-ray collimator for lithography |
| JP3817848B2 (ja) * | 1997-07-18 | 2006-09-06 | 株式会社ニコン | 照明装置 |
| RU2129698C1 (ru) | 1998-04-29 | 1999-04-27 | Турьянский Александр Георгиевич | Рентгеновский рефлектометр |
| DE19820861B4 (de) * | 1998-05-09 | 2004-09-16 | Bruker Axs Gmbh | Simultanes Röntgenfluoreszenz-Spektrometer |
| US6324255B1 (en) * | 1998-08-13 | 2001-11-27 | Nikon Technologies, Inc. | X-ray irradiation apparatus and x-ray exposure apparatus |
| RU2161843C2 (ru) | 1999-02-17 | 2001-01-10 | Кванта Вижн, Инк. | Точечный высокоинтенсивный источник рентгеновского излучения |
| JP2000306533A (ja) * | 1999-02-19 | 2000-11-02 | Toshiba Corp | 透過放射型ｘ線管およびその製造方法 |
| RU2164361C1 (ru) * | 1999-10-18 | 2001-03-20 | Кумахов Мурадин Абубекирович | Линза для управления излучением в виде потока нейтральных или заряженных частиц, способ изготовления таких линз и содержащее такие линзы аналитическое устройство, устройство для лучевой терапии и устройства для контактной и проекционной литографии |
| RU2180439C2 (ru) * | 2000-02-11 | 2002-03-10 | Кумахов Мурадин Абубекирович | Способ получения изображения внутренней структуры объекта с использованием рентгеновского излучения и устройство для его осуществления |
| JP2002299221A (ja) * | 2001-04-02 | 2002-10-11 | Canon Inc | Ｘ線露光装置 |
| US6949748B2 (en) * | 2002-04-16 | 2005-09-27 | The Regents Of The University Of California | Biomedical nuclear and X-ray imager using high-energy grazing incidence mirrors |
-
2000
- 2000-07-08 UA UA2002032039A patent/UA59495C2/ru unknown
- 2000-08-07 US US10/181,561 patent/US7110503B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-07 JP JP2002517505A patent/JP3734254B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-07 CA CA002397070A patent/CA2397070C/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-07 RU RU2001119066/09A patent/RU2208227C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2000-08-07 EP EP00975043A patent/EP1308717A4/en not_active Withdrawn
- 2000-08-07 AU AU1315101A patent/AU1315101A/xx active Pending
- 2000-08-07 KR KR1020027004425A patent/KR100690457B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-08-07 CN CNB008199469A patent/CN1230674C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-07 WO PCT/RU2000/000324 patent/WO2002012871A1/ru active Search and Examination
- 2000-08-07 AU AU2001213151A patent/AU2001213151B2/en not_active Ceased
-
2004
- 2004-03-24 HK HK04102162A patent/HK1059645A1/xx not_active IP Right Cessation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2001119066A (ru) | Рентгеновский измерительно-испытательный комплекс | |
| KR100690457B1 (ko) | Ｘ선 측정 및 검사용 복합체 | |
| US7245696B2 (en) | Element-specific X-ray fluorescence microscope and method of operation | |
| US6359964B1 (en) | X-ray analysis apparatus including a parabolic X-ray mirror and a crystal monochromator | |
| US9291578B2 (en) | X-ray photoemission microscope for integrated devices | |
| JP3135920B2 (ja) | 表面分析方法および装置 | |
| US20150110249A1 (en) | Small-angle scattering x-ray metrology systems and methods | |
| JP5116014B2 (ja) | 小角広角ｘ線測定装置 | |
| JPH11502025A (ja) | 同時ｘ線回折及びｘ線蛍光測定のための装置 | |
| EP0968409A2 (en) | Soft x-ray microfluoroscope | |
| CN110621986B (zh) | 执行x射线光谱分析的方法和x射线吸收光谱仪系统 | |
| KR100703819B1 (ko) | 형광 엑스-레이 분석장치 | |
| JP4257034B2 (ja) | グレージング出射条件におけるｘ線解析装置 | |
| Hoffmann et al. | Applications of single tapered glass capillaries: submicrometer x-ray imaging and Laue diffraction | |
| WO2003081605A1 (fr) | Dispositif d'agrandissement d'image de rayons x | |
| Blue et al. | Improved pinhole-apertured point-projection backlighter geometry | |
| JPH11281597A (ja) | 光電子分光装置及び表面分析法 | |
| JP2005106547A (ja) | 光電子顕微鏡及び該顕微鏡を用いた測定方法 | |
| JP5646147B2 (ja) | 二次元分布を測定する方法及び装置 | |
| US7194067B2 (en) | X-ray optical system | |
| JP4728116B2 (ja) | Ｘ線吸収分光装置および方法 | |
| Michette et al. | Status of the King's College laboratory x-ray microscopes | |
| Kantsyrev et al. | New methods of high sensitivity, high resolution instrumentation for spectroscopic, angular and polarization measurements in the EUV, SXR and x-ray ranges | |
| Ragozin et al. | Spectroscopic characterization of soft x-ray multilayer optics using a broadband laser-plasma radiation source | |
| JP3368643B2 (ja) | 光電子分光器 |