Przedmiotem wynalazku jest uchwyt ustalajacy prostokatne podloza ukladów scalonych w stosunku do maski mechanicznej w procesie prózniowego selektywnego nanoszenia cienkich warstw na podlozu ukladów scalonych.W produkcji ukladów scalonych stosowane sa metody prózniowego nanoszenia warstw cienkich na podlo¬ za, przy czym dla uzyskania warstwy tylko w okreslonych obszarach podloza stosuje sie selektywne nanoszenie warstw przez mechaniczne maskowanie podloza za pomoca metalowych folii z wycietymi wzorami struktur.Proces ten wymaga zabezpieczenia wzajemnego ustawienia podloza i maski z odpowiednia dokladnoscia, a czyn¬ nikiem decydujacym o wydajnosci i ekonomicznosci procesu jest ilosc podlozy umieszczonych na nosniku w sta¬ nowisku prózniowym.W znanych rozwiazaniach konstrukcyjnych dla spelnienia wymagan dokladnosci ustawienia maski wzgle¬ dem podloza konieczne jest stosowanie skomplikowanych, kosztownych i zajmujacych duzo miejsca na nosniku podlozy uchwytów. Powoduje to zwiekszenie kosztu wytwarzania mikroukladów, poniewaz umieszczenie w sta¬ nowisku prózniowym malej ilosci jednoczesnie preparowanych podlozy zwieksza jednostkowe zuzycie drogich substancji stosowanych na warstwy cienkie (zloto, platyna, pallad itp).Stosowane dotychczas uchwyty sa wyposazone w kolki ustalajace majace w przekroju ksztalt kola czy kwadratu. Kolki sa wykonane o wymiarach z tolerancja wynikajaca z zasad pasowania w odniesieniu do wspólpracujacych otworów. W uchwytach tych sa mocowane pojedyncze plytki podlozy bazowane na odpo¬ wiednio rozmieszczonych otworach.Niedogodnoscia przy ustalaniu maski wzgledem uchwytu jest stosowanie zazwyczaj wspólpracy dwóch otworów okraglych lub kwadratowych w masce mechanicznej (wykonanej z bardzo cienkiej blachy metalowej) i dwóch kolków cylindrycznych w uchwycie. Przy istnieniu niedokladnosci wykonania srednicy i wzajemnego rozstawienia kolków bazujacych w uchwycie i niedokladnosci wykonywanych metoda trawienia otworów w masce mechanicznej, ten rodzaj pasowania powoduje powstanie stosunkowo duzego luzu, co prowadzi do duzych przesuniec naniesionego na podloze wzoru.2 97 664 Uchwyt ustalajacy wedlug wynalazku ma wzajemnie prostopadle plaszczyzny bazujace, tworzace dwa katowniki rozmieszczone symetrycznie wzgledem srodka obrotu wyznaczajace zarys litery zet o prostopadlych ramionach. Plaszczyzny wewnetrzne jednego ramienia stanowia baze dla pierwszego podloza a plaszczyzny wewnetrzne drugiego ramienia stanowia analogiczna baze dla drugiego podloza. Natomiast ustalajace maske kolki sa wykonane w ksztalcie walca zakonczonego powierzchnia stozkowa o kacie wierzcholkowym mniejszym od 30°. Srednica czesci walcowej jest wieksza o 10 do 100 mikrometrów od srednicy otworów znajdujacych sie w masce.Korzystne skutki wynalazku polegaja na tym, ze podczas montazu maski do uchwytu na czesci stozkowej kolka powstaje, na skutek róznicy srednic kolka i otworu, odksztalcenie otworu w masce w postaci kolnierza, dzieki czemu nastepuje scisle, bezluzowe umiejscowienie maski w stosunku do uchwytu. Zastosowanie jednego uchwytu do ustalania dwóch podlozy zmniejsza dwukrotnie ilosc uchwytów, a wiec umozliwia znaczne zwiek¬ szenie ilosci jednoczesnie preparowanych w stanowisku prózniowym podlozy ukladów scalonych. Stosowanie uchwytu wedlug wynalazku umozliwia znaczne zmniejszanie jednostkowego zuzycia drogich materialów stoso¬ wanych w procesie (zloto, platyna, pallad itp) na skutek bardziej precyzyjnego nanoszenia struktur.Przedmiot wynalazku jest pokazany w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia uchwyt ustalajacy dwa podloza w stosunku do maski w widoku od góry, a fig. 2 - ten sam uchwyt w przekroju poprzecznym.Opisany wynalazek w przykladowym wykonaniu zastosowano w procesie produkcji mikroukladów hybrydowych cienkowarstwowych podczas selektywnego nanoszenia cienkiej warstwy zlota, stanowiacych pola¬ czenia miedzy elementami ukladu elektronicznego.Uchwyt ustalajacy ma postac o zarysie litery zet o prostopadlych ramionach tworzace dwa katowniki rozmieszczone symetrycznie wzgledem srodka obrotu z wzajemnie prostopadlymi plaszczyznami 7 i 8, na który sa bazowane dwa prostokatne podloza 5 obrabiane w procesie prózniowego, selektywnego nanoszenia cienkich warstw zlota. Wewnetrzne plaszczyzny 7 jednego ramienia uchwytu, reprezentowane w przykladzie wykonania przez punkty umieszczone na dwóch wzajemnie prostopadlych prostych, stanowia bazy dla pierwszego podloza . Wewnetrzne plaszczyzny 8 drugiego ramienia stanowia bazy dla drugiego podloza 6.Ustalenie maski 1 nastepuje na zasadzie wspólpracy dwóch kolków 3 z odpowiadajacymi im otworami 4 znajdujacymi sie w masce 1. Kolki 3 uchwytu maja ksztalt walca zakonczonego stozkiem o wierzcholkowym kacie 30°. Srednica czesci walcowej kolków jest wieksza o 10 mikrometrów od srednicy otworów znajdujacych sie w masce 1. W masce 1 wykonanej z cienkiej folii metalowej zawierajacej wzory struktur 9 i 10 odpowiednio dla podlozy 5 i 6, nastepuje wytloczenie kolnierza wokól otworu 4 przez stozkowa czesc kolków 3. Powstaly kolnierz ustala polozenie maski 1 w uchwycie. Mocowanie podlozy 5 oraz maski 1 do uchwytu odbywa sie na zasadzie ogólnie znanych metod docisku, np. za pomoca niepokazanych na rysunku elastycznych docisków. PL