PL87574B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL87574B1 PL87574B1 PL16566773A PL16566773A PL87574B1 PL 87574 B1 PL87574 B1 PL 87574B1 PL 16566773 A PL16566773 A PL 16566773A PL 16566773 A PL16566773 A PL 16566773A PL 87574 B1 PL87574 B1 PL 87574B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- chamber
- spindle
- silicon
- single crystals
- melting
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 3
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 210000001161 mammalian embryo Anatomy 0.000 description 2
- 101100400378 Mus musculus Marveld2 gene Proteins 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 235000015067 sauces Nutrition 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób prowadzenia
procesu wytwarzania monokrysztalów, stosowanych
przy wytwarzaniu pólprzewodników.
Proces wytwarzania monokrysztalów, np. krzemu
metoda Czochralskiego przeprowadza sie w próz-
nioszczelnych komorach w atmosferze ochronnej
helu lub argonu. Polikrysztal krzemu stapia sie w
tyglu w temperaturze ok. 1400°C. Po stopieniu wsa¬
du do cieczy zanurza sie zarodek monokrystalicz.
ny. "Zarodek ten jest zamocowany na koncu wrze¬
ciona, posiadajacego ruch pionowy. Na zarodku
tym krystalizuje monokrysztal krzemu, rosnacy
wraz z przesuwaniem sie wrzeciona z zarodkiem
do góry. Pary krzemu oraz róznego rodzaju zanie¬
czyszczenia znajdujace sie w materiale wyjsciowym
oraz gazie ochronnym, w trakcie topienia i wycia¬
gania monokrysztalu przenosza sie do góry, osadza¬
jac sie na górnej czesci komory urzadzenia oraz na
wrzecionie. Przy zwiekszeniu grubosci osadzanej
warstewki oraz przez ruch wrzeciona zanieczyszcze¬
nia sa zgarniane i dostaja sie na powierzchnie roz¬
topionego krzemu. Rosnacy monokrysztal jest bar¬
dzo wrazliwy na róznego rodzaju ciala obce, znaj¬
dujace sie napowierzchni cieczy. Ledwie widoczne
nieuzbrojonym okiem wtracenia, plywajace na po¬
wierzchni roztopionego krzemu zostaja przeniesione
do miejsca, w którym rosnie monokrysztal. Zaklóca
to w powaznym stopniu dalszy jego wzrost.
W celu zapobiezenia opadaniu osadów do tygla
z roztopiona ciecza stosowane sa róznego rodzdjii
2
oslony. Oslony te sa klopotliwe w stosowaniu i tyl¬
ko w nieznacznym stopniu zabezpieczaja powierzch¬
nie cieczy przed zanieczyszczeniem wtraceniami.
Sposób wytwarzania monokrysztalów metodawe¬
dlug wynalazku polega na wyprowadzeniu na ze.
wnatrz gazów powstajacych w czasie topienia i wy¬
ciagania monokrysztalów. Gaz wydostajacy sie z
komory powoduje dzialanie ssace, co umozliwia
jednoczesnie odprowadzenie zanieczyszczen znajdu¬
jacych sie na, lub w poblizu wrzeciona. Gazy z za¬
nieczyszczeniami zostaja wyprowadzone przez otwo¬
ry znajdujace sie w górnej czesci komory i roz¬
mieszczone w poblizu wrzeciona, w odleglosci od
niego mniejszej niz xk srednicy tygla. Wynalazek
ten umozliwia otrzymywanie monokrysztalów o
znacznie wiekszej dlugosci co bezposrednio wply¬
wa na wydajnosc procesu, niezaleznie od tego sto¬
sowanie tego sposobu daje duze oszczednosci w zu¬
zyciu materialów pomocniczych oraz energii elek¬
trycznej. Sposób ten jest skuteczny w szerokim za¬
kresie cisnien panujacych w komorze od 10—200
Tr.
Proces otrzymywania monokrysztalów wedlug
wynalazku przeprowadza sie w próznioszczelnej
komorze wyposazonej w otwory w górnej swej
czesci. Gazy powstajace przy topieniu krzemu wy¬
dostaja sie na zewnatrz komory przez wspomnia¬
ne wyzej otwory. Razem z gazami, dzieki dzialaniu
ssacemu wydostaja sie równiez zanieczyszczenia w
87 57487 574
3 4
postaci pylu. Dla lepszego odprowadzenia zanie¬
czyszczen, otwory w komorze polaczone sa z pom¬
pa typu obrotowego.
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób prowadzenia procesu wytwarzania mono¬ krysztalów, znamienny tym, ze gazy powstajace w trakcie topienia i wyciagania monokrysztalów wraz z gazem ochronnym oraz zanieczyszczeniami w po_ staci pylu zostaja wyprowadzone na zewnatrz przez otwory znajdujace sie w górnej czesci komoryi roz¬ mieszczone w poblizu wrzeciona w odleglosci od niego mniejszej niz xh srednicy tygla. PZG Bydg., zam. 2964/76, nakl. 120+20 Cena 10 zl
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16566773A PL87574B1 (pl) | 1973-10-05 | 1973-10-05 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16566773A PL87574B1 (pl) | 1973-10-05 | 1973-10-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL87574B1 true PL87574B1 (pl) | 1976-07-31 |
Family
ID=19964334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL16566773A PL87574B1 (pl) | 1973-10-05 | 1973-10-05 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL87574B1 (pl) |
-
1973
- 1973-10-05 PL PL16566773A patent/PL87574B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1061688A (en) | Silicon crystals and process for their preparation | |
| JPWO2002068732A1 (ja) | 固形状多結晶原料のリチャージ管及びそれを用いた単結晶の製造方法 | |
| US3353914A (en) | Method of seed-pulling beta silicon carbide crystals from a melt containing silver and the product thereof | |
| PL87574B1 (pl) | ||
| JPS60251191A (ja) | 高解離圧化合物単結晶成長方法 | |
| CA1286571C (en) | Crucible recovering method and apparatus therefor | |
| JPH0314800B2 (pl) | ||
| US20110120365A1 (en) | Process for removal of contaminants from a melt of non-ferrous metals and apparatus for growing high purity silicon crystals | |
| JP4436363B2 (ja) | 単結晶の育成方法及び繊維成形体 | |
| CN214694462U (zh) | 一种ycob晶体生长用生长装置 | |
| JPS61275119A (ja) | シリコンリボンの製造方法 | |
| JPS5738397A (en) | Apparatus and method for growing crystal | |
| JPS5547300A (en) | Crystal pulling device | |
| EP0390671A3 (en) | Process for determination of concentrations of metal impurities in czochralski single crystal silicon | |
| Whitmore et al. | Yield stress exerted on a body immersed in a Bingham fluid | |
| JPS61158890A (ja) | 結晶成長装置 | |
| GB1365724A (en) | Methods of manufacturing single crystals of semiconductor mater ial | |
| JPS5696883A (en) | Manufacture of silicon carbide diode | |
| JPS553312A (en) | Production of oxide single crystal | |
| JPS55149193A (en) | Manufacture of silicon carbide substrate | |
| JPH059096A (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
| JPS6456311A (en) | Production of high-purity silicon | |
| JPS5654299A (en) | Growing method of lead molybdate single crystal | |
| JPS5826095A (ja) | 単結晶シリコン引上装置 | |
| JPH01290589A (ja) | 化合物半導体単結晶育成用二重るつぼ |