PL87574B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL87574B1
PL87574B1 PL16566773A PL16566773A PL87574B1 PL 87574 B1 PL87574 B1 PL 87574B1 PL 16566773 A PL16566773 A PL 16566773A PL 16566773 A PL16566773 A PL 16566773A PL 87574 B1 PL87574 B1 PL 87574B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
chamber
spindle
silicon
single crystals
melting
Prior art date
Application number
PL16566773A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL16566773A priority Critical patent/PL87574B1/pl
Publication of PL87574B1 publication Critical patent/PL87574B1/pl

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób prowadzenia procesu wytwarzania monokrysztalów, stosowanych przy wytwarzaniu pólprzewodników.
Proces wytwarzania monokrysztalów, np. krzemu metoda Czochralskiego przeprowadza sie w próz- nioszczelnych komorach w atmosferze ochronnej helu lub argonu. Polikrysztal krzemu stapia sie w tyglu w temperaturze ok. 1400°C. Po stopieniu wsa¬ du do cieczy zanurza sie zarodek monokrystalicz. ny. "Zarodek ten jest zamocowany na koncu wrze¬ ciona, posiadajacego ruch pionowy. Na zarodku tym krystalizuje monokrysztal krzemu, rosnacy wraz z przesuwaniem sie wrzeciona z zarodkiem do góry. Pary krzemu oraz róznego rodzaju zanie¬ czyszczenia znajdujace sie w materiale wyjsciowym oraz gazie ochronnym, w trakcie topienia i wycia¬ gania monokrysztalu przenosza sie do góry, osadza¬ jac sie na górnej czesci komory urzadzenia oraz na wrzecionie. Przy zwiekszeniu grubosci osadzanej warstewki oraz przez ruch wrzeciona zanieczyszcze¬ nia sa zgarniane i dostaja sie na powierzchnie roz¬ topionego krzemu. Rosnacy monokrysztal jest bar¬ dzo wrazliwy na róznego rodzaju ciala obce, znaj¬ dujace sie napowierzchni cieczy. Ledwie widoczne nieuzbrojonym okiem wtracenia, plywajace na po¬ wierzchni roztopionego krzemu zostaja przeniesione do miejsca, w którym rosnie monokrysztal. Zaklóca to w powaznym stopniu dalszy jego wzrost.
W celu zapobiezenia opadaniu osadów do tygla z roztopiona ciecza stosowane sa róznego rodzdjii 2 oslony. Oslony te sa klopotliwe w stosowaniu i tyl¬ ko w nieznacznym stopniu zabezpieczaja powierzch¬ nie cieczy przed zanieczyszczeniem wtraceniami.
Sposób wytwarzania monokrysztalów metodawe¬ dlug wynalazku polega na wyprowadzeniu na ze. wnatrz gazów powstajacych w czasie topienia i wy¬ ciagania monokrysztalów. Gaz wydostajacy sie z komory powoduje dzialanie ssace, co umozliwia jednoczesnie odprowadzenie zanieczyszczen znajdu¬ jacych sie na, lub w poblizu wrzeciona. Gazy z za¬ nieczyszczeniami zostaja wyprowadzone przez otwo¬ ry znajdujace sie w górnej czesci komory i roz¬ mieszczone w poblizu wrzeciona, w odleglosci od niego mniejszej niz xk srednicy tygla. Wynalazek ten umozliwia otrzymywanie monokrysztalów o znacznie wiekszej dlugosci co bezposrednio wply¬ wa na wydajnosc procesu, niezaleznie od tego sto¬ sowanie tego sposobu daje duze oszczednosci w zu¬ zyciu materialów pomocniczych oraz energii elek¬ trycznej. Sposób ten jest skuteczny w szerokim za¬ kresie cisnien panujacych w komorze od 10—200 Tr.
Proces otrzymywania monokrysztalów wedlug wynalazku przeprowadza sie w próznioszczelnej komorze wyposazonej w otwory w górnej swej czesci. Gazy powstajace przy topieniu krzemu wy¬ dostaja sie na zewnatrz komory przez wspomnia¬ ne wyzej otwory. Razem z gazami, dzieki dzialaniu ssacemu wydostaja sie równiez zanieczyszczenia w 87 57487 574 3 4 postaci pylu. Dla lepszego odprowadzenia zanie¬ czyszczen, otwory w komorze polaczone sa z pom¬ pa typu obrotowego.

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób prowadzenia procesu wytwarzania mono¬ krysztalów, znamienny tym, ze gazy powstajace w trakcie topienia i wyciagania monokrysztalów wraz z gazem ochronnym oraz zanieczyszczeniami w po_ staci pylu zostaja wyprowadzone na zewnatrz przez otwory znajdujace sie w górnej czesci komoryi roz¬ mieszczone w poblizu wrzeciona w odleglosci od niego mniejszej niz xh srednicy tygla. PZG Bydg., zam. 2964/76, nakl. 120+20 Cena 10 zl
PL16566773A 1973-10-05 1973-10-05 PL87574B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL16566773A PL87574B1 (pl) 1973-10-05 1973-10-05

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL16566773A PL87574B1 (pl) 1973-10-05 1973-10-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL87574B1 true PL87574B1 (pl) 1976-07-31

Family

ID=19964334

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL16566773A PL87574B1 (pl) 1973-10-05 1973-10-05

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL87574B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1061688A (en) Silicon crystals and process for their preparation
JPWO2002068732A1 (ja) 固形状多結晶原料のリチャージ管及びそれを用いた単結晶の製造方法
US3353914A (en) Method of seed-pulling beta silicon carbide crystals from a melt containing silver and the product thereof
PL87574B1 (pl)
JPS60251191A (ja) 高解離圧化合物単結晶成長方法
CA1286571C (en) Crucible recovering method and apparatus therefor
JPH0314800B2 (pl)
US20110120365A1 (en) Process for removal of contaminants from a melt of non-ferrous metals and apparatus for growing high purity silicon crystals
JP4436363B2 (ja) 単結晶の育成方法及び繊維成形体
CN214694462U (zh) 一种ycob晶体生长用生长装置
JPS61275119A (ja) シリコンリボンの製造方法
JPS5738397A (en) Apparatus and method for growing crystal
JPS5547300A (en) Crystal pulling device
EP0390671A3 (en) Process for determination of concentrations of metal impurities in czochralski single crystal silicon
Whitmore et al. Yield stress exerted on a body immersed in a Bingham fluid
JPS61158890A (ja) 結晶成長装置
GB1365724A (en) Methods of manufacturing single crystals of semiconductor mater ial
JPS5696883A (en) Manufacture of silicon carbide diode
JPS553312A (en) Production of oxide single crystal
JPS55149193A (en) Manufacture of silicon carbide substrate
JPH059096A (ja) シリコン単結晶の製造方法
JPS6456311A (en) Production of high-purity silicon
JPS5654299A (en) Growing method of lead molybdate single crystal
JPS5826095A (ja) 単結晶シリコン引上装置
JPH01290589A (ja) 化合物半導体単結晶育成用二重るつぼ