PL86771B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL86771B1
PL86771B1 PL16611173A PL16611173A PL86771B1 PL 86771 B1 PL86771 B1 PL 86771B1 PL 16611173 A PL16611173 A PL 16611173A PL 16611173 A PL16611173 A PL 16611173A PL 86771 B1 PL86771 B1 PL 86771B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
acid
stress
gold
thickness
coatings
Prior art date
Application number
PL16611173A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL16611173A priority Critical patent/PL86771B1/pl
Publication of PL86771B1 publication Critical patent/PL86771B1/pl

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powlok zlotych o dowolnej grubosci, pozbawionych naprezen wlasnych.Wzrost zastosowan powlok zlotych w przemysle spowodowal rozszerzenie zainteresowan w kierunku otrzymywania powlok o scisle okreslonych wlasnosciach. W wielu przypadkach zachodzi równiez potrzeba osadzania powlok o znacznych grubosciach.W znanych sposobach otrzymywania galwanicznych powlok zlota istnialo zasadnicze ograniczenie doty¬ czace grubosci mozliwych do uzyskania. Powodowane bylo to dosyc wysoka wartoscia naprezen wlasnych powstajacych w powlokach podczas ich osadzania. Z belgijskiego opisu patentowego nr 041 175 znane jest stosowanie dodatku hydrazyny do kapieli kwasnych, co powoduje zmniejszenie naprezen wlasnych powloki.Ponadto z polskiego opisu patentowego nr 62 186 znane jest uzyskiwanie twardych powlok zlotych o grubosci okolo 20 //m, jednakze przy grubosci powloki powyzej 10/im, nie jest mozliwe calkowite wyeliminowanie naprezen wlasnych. Zgodnie z patentem polskim nr 62 186, zblizenie wartosci naprezen wlasnych do zera jest mozliwe tylko wtedy gdy grubosc powloki nie przekracza kilku /im.Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powlok zlotych o dowolnej grubosci, pozbawionych naprezen wlasnych.Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze do kapieli kwasnej, zawierajacej zloto w postaci cyjanku zlotawo-sodowego, kwas cytrynowy i kobalt w postaci soli kwasu cytrynowego dodaje sie zwiazków antynapre- zeniowych, stanowiacych mieszanine kwasu aminosulfonowego i amin alifatycznych, przy czym proces galwani¬ cznego pokrywania prowadzi sie przy gestosci pradu 0,3 do 1,5 A/dm2 w temperaturze 20 do 50°C, przy pH w granicach 4 do 5. Dodatek kwasu aminosulfonowego wynosi od 0,1 do 100 g/l, a dodatek aminy alifatycznej wynosi od 0,01 do 10 g/l.Zaleznosc naprezen wlasnych powloki od jej grubosci ilustruja krzywe 1 i 2 na wykresie, przy czym krzywa 1 ilustruje wartosci naprezen wlasnych uzyskanych przy stosowaniu sposobu wedlug patentu nr 63 186, a krzywa 2 wyniki uzyskane przy zastosowaniu sposobu wedlug wynalazku.2 86 771 Sposób wedlug wynalazku gwarantuje otrzymanie powlok zlotych o duzych grubosciach, calkowicie wolnych od naprezen wlasnych.Przyklad. Przygotowano kapiel o skladzie 10 g/l zlota i 60 g/l kwasu cytrynowego i dodano do niej 0,8 g/l kobaltu w postaci soli kwasu cytrynowego i podgrzano ja do temperatury 20°C. Nastepnie dodano skladników anty naprezeniowych: kwasu aminosulfonowego 2 g/l, trójety loa mina specjalnie oczyszczona 1 g/l.Proces galwanicznego nakladania powloki prowadzono przy gestosci pradu 0,6A/dm2 i przy pH rzedu 4,5. Otrzymano powloke o grubosci 15/i pozbawiona naprezen wlasnych. PL

Claims (2)

  1. Za st r z e z e n i a p a t e n t o we 1. Sposób wytwarzania powlok zlotych o dowolnej grubosci, pozbawionych naprezen wlasnych z kapieli kwasnej, zawierajacej zloto w postaci cyjanku zlotawo-sodowego, kwas cytrynowy oraz kobalt w postaci soli kwasu cytrynowego, znamienny tym, ze do kapieli dodaje sie zwiazków antynaprezeniowych, stanowia¬ cych mieszanine kwasu aminosulfonowego i amin alifatycznych, przy czym proces galwanicznego pokrywania prowadzi sie przy gestosci pradu 0,3 do 1,5 A/dm2 w temperaturze 20 do 50°C przy pH w granicach 4 do 5.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie kwas aminosulfonowy w ilosci 0,1 do 100 g/l a amine alifatyczna w ilosci 0,01 do 10 g/l. S m mm 15 *l 5 o -s 1 ' » I ¦ I I ¦ * f -ys ifA Prac. Poligraf. UP PRL Naklad 120 + 18 egz. ' Cena 10 zl PL
PL16611173A 1973-10-26 1973-10-26 PL86771B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL16611173A PL86771B1 (pl) 1973-10-26 1973-10-26

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL16611173A PL86771B1 (pl) 1973-10-26 1973-10-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL86771B1 true PL86771B1 (pl) 1976-06-30

Family

ID=19964593

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL16611173A PL86771B1 (pl) 1973-10-26 1973-10-26

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL86771B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3428345C2 (pl)
US2742413A (en) Bright copper plating bath
US3925170A (en) Method and composition for producing bright palladium electrodepositions
JPH08209379A (ja) アルカリ亜鉛および亜鉛合金電気めっき浴およびプロセス
WO2007147603A2 (de) Wässriges alkalisches, cyanidfreies bad zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen
DE1075398B (de) Bad zur galvanischen Herstellung von Metallüberzügen
CA1118710A (en) Hard, heat-resistant nickel electrodeposits
DE3001879C2 (de) Wäßriges saures Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und eingeebneten Nickel-Eisen-Schichten
US4554219A (en) Synergistic brightener combination for amorphous nickel phosphorus electroplatings
DE2525264C2 (de) Alkalisches cyanidfreies Zinkbad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Zinküberzügen unter Verwendung dieses Bades
KR101998605B1 (ko) 아연니켈합금 전기도금액 및 이를 이용한 전기도금법
US4411965A (en) Process for high speed nickel and gold electroplate system and article having improved corrosion resistance
US3558442A (en) Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel
PL86771B1 (pl)
US2876178A (en) Electrodepositing copper
DE2326300A1 (de) Waessriges saures zinkgalvanisierungsbad und -verfahren
JPS5912754B2 (ja) 光輝酸性亜鉛メツキ
US3312604A (en) Electrodeposition of nickel
US3816142A (en) Electroless chromium plating process and composition
US3901773A (en) Method of making microcrack chromium coatings
DE3121016A1 (de) "polymeres zusatzmittel fuer galvanische zinkbaeder auf basis von polyalkyleniminen, verfahren zur herstellung und verwendung desselben sowie waessrig-alkalisches, cyanidfreies zinkbad enthaltend dasselbe"
US3380814A (en) Electrolyte and method for coating articles with a gold-copper-antimony alloy and article thereof
DE3317669C2 (de) Wäßriges Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung von glänzenden Zinküberzügen
JPS6112038B2 (pl)
US3537959A (en) Electroplating baths and process for producing bright zinc deposits