PL86771B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL86771B1 PL86771B1 PL16611173A PL16611173A PL86771B1 PL 86771 B1 PL86771 B1 PL 86771B1 PL 16611173 A PL16611173 A PL 16611173A PL 16611173 A PL16611173 A PL 16611173A PL 86771 B1 PL86771 B1 PL 86771B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- acid
- stress
- gold
- thickness
- coatings
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powlok zlotych o dowolnej grubosci, pozbawionych naprezen wlasnych.Wzrost zastosowan powlok zlotych w przemysle spowodowal rozszerzenie zainteresowan w kierunku otrzymywania powlok o scisle okreslonych wlasnosciach. W wielu przypadkach zachodzi równiez potrzeba osadzania powlok o znacznych grubosciach.W znanych sposobach otrzymywania galwanicznych powlok zlota istnialo zasadnicze ograniczenie doty¬ czace grubosci mozliwych do uzyskania. Powodowane bylo to dosyc wysoka wartoscia naprezen wlasnych powstajacych w powlokach podczas ich osadzania. Z belgijskiego opisu patentowego nr 041 175 znane jest stosowanie dodatku hydrazyny do kapieli kwasnych, co powoduje zmniejszenie naprezen wlasnych powloki.Ponadto z polskiego opisu patentowego nr 62 186 znane jest uzyskiwanie twardych powlok zlotych o grubosci okolo 20 //m, jednakze przy grubosci powloki powyzej 10/im, nie jest mozliwe calkowite wyeliminowanie naprezen wlasnych. Zgodnie z patentem polskim nr 62 186, zblizenie wartosci naprezen wlasnych do zera jest mozliwe tylko wtedy gdy grubosc powloki nie przekracza kilku /im.Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powlok zlotych o dowolnej grubosci, pozbawionych naprezen wlasnych.Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze do kapieli kwasnej, zawierajacej zloto w postaci cyjanku zlotawo-sodowego, kwas cytrynowy i kobalt w postaci soli kwasu cytrynowego dodaje sie zwiazków antynapre- zeniowych, stanowiacych mieszanine kwasu aminosulfonowego i amin alifatycznych, przy czym proces galwani¬ cznego pokrywania prowadzi sie przy gestosci pradu 0,3 do 1,5 A/dm2 w temperaturze 20 do 50°C, przy pH w granicach 4 do 5. Dodatek kwasu aminosulfonowego wynosi od 0,1 do 100 g/l, a dodatek aminy alifatycznej wynosi od 0,01 do 10 g/l.Zaleznosc naprezen wlasnych powloki od jej grubosci ilustruja krzywe 1 i 2 na wykresie, przy czym krzywa 1 ilustruje wartosci naprezen wlasnych uzyskanych przy stosowaniu sposobu wedlug patentu nr 63 186, a krzywa 2 wyniki uzyskane przy zastosowaniu sposobu wedlug wynalazku.2 86 771 Sposób wedlug wynalazku gwarantuje otrzymanie powlok zlotych o duzych grubosciach, calkowicie wolnych od naprezen wlasnych.Przyklad. Przygotowano kapiel o skladzie 10 g/l zlota i 60 g/l kwasu cytrynowego i dodano do niej 0,8 g/l kobaltu w postaci soli kwasu cytrynowego i podgrzano ja do temperatury 20°C. Nastepnie dodano skladników anty naprezeniowych: kwasu aminosulfonowego 2 g/l, trójety loa mina specjalnie oczyszczona 1 g/l.Proces galwanicznego nakladania powloki prowadzono przy gestosci pradu 0,6A/dm2 i przy pH rzedu 4,5. Otrzymano powloke o grubosci 15/i pozbawiona naprezen wlasnych. PL
Claims (2)
- Za st r z e z e n i a p a t e n t o we 1. Sposób wytwarzania powlok zlotych o dowolnej grubosci, pozbawionych naprezen wlasnych z kapieli kwasnej, zawierajacej zloto w postaci cyjanku zlotawo-sodowego, kwas cytrynowy oraz kobalt w postaci soli kwasu cytrynowego, znamienny tym, ze do kapieli dodaje sie zwiazków antynaprezeniowych, stanowia¬ cych mieszanine kwasu aminosulfonowego i amin alifatycznych, przy czym proces galwanicznego pokrywania prowadzi sie przy gestosci pradu 0,3 do 1,5 A/dm2 w temperaturze 20 do 50°C przy pH w granicach 4 do 5.
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie kwas aminosulfonowy w ilosci 0,1 do 100 g/l a amine alifatyczna w ilosci 0,01 do 10 g/l. S m mm 15 *l 5 o -s 1 ' » I ¦ I I ¦ * f -ys ifA Prac. Poligraf. UP PRL Naklad 120 + 18 egz. ' Cena 10 zl PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16611173A PL86771B1 (pl) | 1973-10-26 | 1973-10-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16611173A PL86771B1 (pl) | 1973-10-26 | 1973-10-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL86771B1 true PL86771B1 (pl) | 1976-06-30 |
Family
ID=19964593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL16611173A PL86771B1 (pl) | 1973-10-26 | 1973-10-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL86771B1 (pl) |
-
1973
- 1973-10-26 PL PL16611173A patent/PL86771B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3428345C2 (pl) | ||
| US2742413A (en) | Bright copper plating bath | |
| US3925170A (en) | Method and composition for producing bright palladium electrodepositions | |
| JPH08209379A (ja) | アルカリ亜鉛および亜鉛合金電気めっき浴およびプロセス | |
| WO2007147603A2 (de) | Wässriges alkalisches, cyanidfreies bad zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen | |
| DE1075398B (de) | Bad zur galvanischen Herstellung von Metallüberzügen | |
| CA1118710A (en) | Hard, heat-resistant nickel electrodeposits | |
| DE3001879C2 (de) | Wäßriges saures Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und eingeebneten Nickel-Eisen-Schichten | |
| US4554219A (en) | Synergistic brightener combination for amorphous nickel phosphorus electroplatings | |
| DE2525264C2 (de) | Alkalisches cyanidfreies Zinkbad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Zinküberzügen unter Verwendung dieses Bades | |
| KR101998605B1 (ko) | 아연니켈합금 전기도금액 및 이를 이용한 전기도금법 | |
| US4411965A (en) | Process for high speed nickel and gold electroplate system and article having improved corrosion resistance | |
| US3558442A (en) | Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel | |
| PL86771B1 (pl) | ||
| US2876178A (en) | Electrodepositing copper | |
| DE2326300A1 (de) | Waessriges saures zinkgalvanisierungsbad und -verfahren | |
| JPS5912754B2 (ja) | 光輝酸性亜鉛メツキ | |
| US3312604A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US3816142A (en) | Electroless chromium plating process and composition | |
| US3901773A (en) | Method of making microcrack chromium coatings | |
| DE3121016A1 (de) | "polymeres zusatzmittel fuer galvanische zinkbaeder auf basis von polyalkyleniminen, verfahren zur herstellung und verwendung desselben sowie waessrig-alkalisches, cyanidfreies zinkbad enthaltend dasselbe" | |
| US3380814A (en) | Electrolyte and method for coating articles with a gold-copper-antimony alloy and article thereof | |
| DE3317669C2 (de) | Wäßriges Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung von glänzenden Zinküberzügen | |
| JPS6112038B2 (pl) | ||
| US3537959A (en) | Electroplating baths and process for producing bright zinc deposits |