PL79682B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL79682B1
PL79682B1 PL1972158798A PL15879872A PL79682B1 PL 79682 B1 PL79682 B1 PL 79682B1 PL 1972158798 A PL1972158798 A PL 1972158798A PL 15879872 A PL15879872 A PL 15879872A PL 79682 B1 PL79682 B1 PL 79682B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
layer
metal
layers
gas
tic
Prior art date
Application number
PL1972158798A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Sandvik Ab Sandviken (Schweden)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sandvik Ab Sandviken (Schweden) filed Critical Sandvik Ab Sandviken (Schweden)
Publication of PL79682B1 publication Critical patent/PL79682B1/pl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/32—Carbides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/32—Carbides
    • C23C16/325—Silicon carbide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/34—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/34—Nitrides
    • C23C16/342—Boron nitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/34—Nitrides
    • C23C16/345—Silicon nitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/36—Carbonitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40—Oxides
    • C23C16/403—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40—Oxides
    • C23C16/405—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4488—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by in situ generation of reactive gas by chemical or electrochemical reaction
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock
    • Y10S428/923—Physical dimension
    • Y10S428/924—Composite
    • Y10S428/926—Thickness of individual layer specified
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock
    • Y10S428/9335—Product by special process
    • Y10S428/938—Vapor deposition or gas diffusion
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014—All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
    • Y10T428/12049—Nonmetal component
    • Y10T428/12056—Entirely inorganic
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014—All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
    • Y10T428/12063—Nonparticulate metal component
    • Y10T428/12069—Plural nonparticulate metal components
    • Y10T428/12076—Next to each other
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014—All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
    • Y10T428/12063—Nonparticulate metal component
    • Y10T428/12104—Particles discontinuous
    • Y10T428/12111—Separated by nonmetal matrix or binder [e.g., welding electrode, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y10T428/265—1 mil or less

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Powloka metalowa nanoszona na warstwe podkladowa Przedmiotem wynalazku jest powloka metalowa nanoszona na warstwe podkladowa powodujaca utwardzanie metalu, pokrywanego cienka odporna na scieranie powierzchniowa warsitwa.Znane sa sposoby utwardzania metalu za pomoca hartowania szczególnie metalu stosowanego do warstw powierzchniowych tnacych wkladek, maja¬ cych zwiekszona odpornosc na zuzycie.Warstwy te ukladane sa na podloze normalnie spiekanego twardego metalu zawierajacego weglik na przyklad tytanu, który jest stosowany do utwar¬ dzania metalowej wkladki lub podkladki umoco¬ wanej za pomoca gazowego spawania. Znane sa równiez sposoby, przy których stosowane jest na- weglanie gazowe w celu uzyskania cienkiej po¬ wierzchniowej warstwy skladajacej sie z dwóch róznych warstw weglików ukladanych jedna na druga.Ponadto znane sa sposoby nanoszenia warstwy weglików na drodze dyfuzji miedzy twardym pod¬ lozem metalu i spiekana warstwa powierzchniowa.W szczególnych przypadkach stosuje sie równiez azotek metalu jako material oddzielajacy, dzieki któremu weglik metalu ma mniejszy stopien roz¬ praszania sie.Znane sa równiez sposoby pokrywania twardego metalu, wkladka tnaca odporna na zuzycie, utwo¬ rzona z niezwykle cienkich ceramicznych skladni¬ ków, które powoduja zwiejkszenie odpornosci na zu¬ zycie. W przypadku stosowania ich jako wkladek 10 15 20 30 przeznaczonych do skrawania, powoduja lepsza ja¬ kosc skrawania i dluzsza trwalosc stosowanego na¬ rzedzia. Ceramiczne warstwy powierzchniowe jako glówne skladniki zawieraja Al/), lub ZrOf. Wyrób pokryty powierzchniowo warstwa ceramiczna cha¬ rakteryzuje wysoka odpornosc na zuzycie, jak rów¬ niez stosunkowo dobra odpornosc na obciazenie dy¬ namiczne przy jego wytwarzaniu i eksploatacji.Ceramiczna warstwe powierzchniowa uzyskuje sie przez zastosowanie nanoszenia gazowego. W ten sposób otrzymuje sie nadzwyczaj równomierne i cienkie warstwy. Jednakze wada stosowania ce¬ ramicznej warstwy powierzchniowej jest to, ze po¬ siada ona ograniczone wlasciwosci na dzialanie sil dynamicznych, które ujawniaja sie przy obróbce skrawaniem. Przyczyna tej wady jest to, ze wy¬ twarza sie niewlasciwe polaczenie lub przyleganie miedzy warstwa podkladowa a warstwa górna z po¬ wodu zbyt duzych wymiarów ziaren i porowatosci w górnej warstwie.Zgodnie z wynalazkiem metal pokrywa sie cienka powloka skladajaca sie z dwóch nakladanych na siebie warstw. Zewnetrzna pokrywajaca warstwa zawiera jedna lub wiecej mikroskopijnych warstw odpornych na scieranie, które skladajace z tlenku aluminium lub tlenku cyrkonu.Wewnetrzna warstwa umieszczona tuz za war¬ stwa zewnetrzna sklada sie z jednej i/lub wiekszej ilosci warstw weglików lub azotków, tytanu, wol¬ framu, hafnu, wanadu, niobu, tantalu, chromu, mo- 796823 79682 4 libdenu, cyrkonu to jest metali czwartej i szóstej podgrupy okresowego ukladu pierwiastków, jak równiez weglików i/lub azotków krzemu i boru.(Przy tego rodzaju sposobie mozliwe jest uzyskanie wlasciwych grubosci posredniej warstwy i po¬ wierzchni warstwy w okreslanych granicach w celu utrzymania zadowalajacych wlasciwosci. Rozcien¬ czone wegliki lub warstwy azotków moga byc sto¬ sowane zamiast znanych pokryc weglikowych ota¬ czajacych twarde metale, dla których wymagana jest grubosc warstwy 4 ^im dla uzyskania dodat¬ nich wlasciwosci przy zastosowaniu na przyklad weglika tytanu.W celu otrzymania dostatecznej grubosci i przy¬ datnosci w dzialaniu warstw weglików i azotków ulozonych wedlug niniejszego wynalazku, grubosc tych warstw winna byc przynajmniej 0,5 \\m. Naj¬ bardziej korzystnym jest, gdy grubosc wewnetrznej warstwy miesci sie w granicach 1 do 10 jim, a zwlaszcza 2 do 6 ^m. "Grubosc zewnetrznej cera-' micznej warstwy miesci sie w granicach od 0,2 do 20 \im, a zwlaszcza od 0,5 do 5 \im. Nawet bardzo cienkie warstwy tlenków stosowane jako oddzie¬ lajace warstwy azotków lub weglików poprawiaja wlasciwosci materialu na odpornosc na scieranie i odpornosc na obciazenia dynamiczne.Uzyskanie twardego metalu zgodnie z wynalaz¬ kiem wynika z zastosowania warstwy posredniej utrudniajacej dyfuzje metalu laczacego, to jest glównie kobaltu, z podloza twardego metalu, przez utworzona warstwe tlenku. Proces dyfuzji jest ha¬ mowany szczególnie przez wegliki. Przy zastoso¬ waniu warstw tlenkowych zwlaszcza A1208 lub Zr02 nanoszonych w fazie gazowej, w celu utwardzenia metalu, metal wiazacy taki jak kobalt wywiera dodatni wplyw na stopien pokrycia i przylegania do warstwy posredniej.Zgodnie z wynalazkiem istnieje mozliwosc kon¬ troli ksztaltowania warstwy tlenkowej i jej wply¬ wu na warstwe podkladowa. W celu uzyskania tej wlasciwosci szybkosc procesu pokrywania winna byc zwolniona, aby umozliwic pewne opóznienie la¬ czenia sie metalu i wegla co eliminuje ziarnistosc w ukladajacej sie warstwie.Szybkie tempo przy wytwarzaniu powierzchnio¬ wej warstwy powoduje zwiekszenie ziarnistosci, co przyczynia sie do powstawania warstwy porowatej i pogorszenia jej wlasnosci przylegania. Ponadto powierzchnia podloza winna byc dobrze przygoto¬ wana, to jest winna byc jednolita i gladka, tak aby powierzchnia podkladu byla pokryta mozliwie naj¬ wieksza iloscia ziaren wchodzacych w sklad war¬ stwy tlenkowej. Powierzchnia podkladu z twardego metalu nie spelnia tych wymagan.: Metale laczace jak kobalt zapewniaja zadowala¬ jacy stopien przylegania, jesli warstwe tlenkowa nanosi sie przy obnizonej temperaturze. Stopien dyfundbwania kobaltu w warstwy weglika lub azot¬ ku jest w tym ukladzie bardzo niski. Inna ko¬ rzystna cecha przy stosowaniu posredniej warstwy jest uzyskanie stopniowego przejscia miedzy od¬ porna warstwa powierzchniowa i odnosnym utwar¬ dzonym podkladem.Warstwy weglika lub azotków zwlaszcza TiC lub TiN staja sie bardzo twarde i odporne jesli umie¬ sci sie miedzy tymi warstwami warstwe tlenku aluminium lub weglika wapniowego. Dla wytwo¬ rzenia warstwy A1203 stosuje sie gaz taki jak A1C18, AlBr8 lub A1F8 C02 lub H20. Wszystkie te sub- 5 stancje moga spowodowac odweglanie twardego metalowego podkladu, którego twardosc ulega zmniejszeniu. W tym przypadku posrednia warstwa weglika i azotku wplywa na zmniejszenie dyfuzji weglika tworzac przegrode z rozpuszczonego we- 10 glika na warstwie podkladowej.Weglika lacza faze metalu, którego powierzchnia jest zwykle utleniona na wolnym powietrzu przez co wolna powierzchnia twardego metalu ulega zmniejszeniu. W wyniku tego utleniania tworzy sie is polaczenie z warstwa A1208, jak równiez z warstwa Zr02. Wzmocnione polaczenie uzyskuje sie miedzy na przyklad TiC i A1203, jak równiez Zr02. Lepszy wynik uzyskuje sie stosujac warstwe utworzona z TiC. W ten sposób uzyskuje sie metode bardziej 20 praktyczna i ekonomiczna.Inne sposoby zmniejszania tempa osadzenia war¬ stwy powoduja wystapienie kruchosci. Na przy¬ klad podwyzszenie temperatury powoduje oslabie¬ nie metalurgicznego polaczenia, ze wzgledu na 25 wzrost rozproszenia materialów zastepczych. Pola¬ czenie miedzy TiC — TiN i warstwa tlenkowa jest dokonywane przez powierzchniowe utlenianie TiC (TiN) warstwy po jej osadzeniu.Przy utwardzajacej obróbce metalu moga byc 30 stosowane dwie rózne zasady postepowania. Pierw¬ sza polega na pokryciu przez dwie oddzielne war¬ stwy w dwóch oddzielnych procesach prowadzonych w oddzielnych urzadzeniach. Pierwsza czesc proce¬ su polega na uformowaniu warstwy posredniej to 35 jest warstwy weglika lub warstwy azotku, podczas gdy na druga czesc procesu sklada sie utworzenie tlenkowej warstwy tworzacej warstwe powierz¬ chniowa A1203. Proces nanoszenia warstwy tlenko¬ wej jest wykonywany w oddzielnej czesci przez 40 stosowanie osobnego urzadzenia. ( Druga zasada postepowania polega na tym, ze proces pokrywania, to jest tworzenia oddzielaja¬ cej warstwy tlenkowej na powierzchni podkladu lub pokrycia jej warstwa AljOs, dokonuje sie przez 45 doprowadzenie czynnika gazowego i stopniowe pod¬ wyzszenie temperatury i cisnienia wywieranego na warstwe regulujaca.W innym ukladzie, kilka utleniajacych warstw pierwsza Al2Oa a nastepna Zr02 moga byc zasto- 50 sowane do mieszanin powlokowych przy stopniowo nakladanych warstwach weglika i azotku. Ochron¬ ne warstwy nanosi sie równiez na drodze natry¬ skiwania. Sposób wytwarzania spieków wegliko¬ wych wedlug wynalazku przedstawiono w przykla- 55 dach .1 do 7 oraz na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schemat urzadzenia do otrzymania spieków weglikowych, a fig. 2 — schemat odmiany urzadzenia z fig. 1.Urzadzenie przedstawione na fig. 1 rysunku skla- 60 da sie z gazowych butli 1 i 2 wypelnionych wodo¬ rem, metanem lub azotem. Przewody 3 i 4 prze¬ znaczone sa do zasilania przewodu 5, przez który mieszanina gazu jest podawana do naczynia 6, w którym metal jest chlorowany na przyklad przez es TiCl4, jest podgrzewany w celu odparowania, po5 79682 6? którym mieszanina gazu jest doprowadzana do re¬ aktora 11 przewodem9. N Mieszanina gazu przechodzi do wymiennika cie¬ pla 7, którego temperatura kontrolowana jest przez termostat 8, przeznaczony do regulacji zawartosci TiCl4 w gazie. W reaktorze 11, który jest podgrze¬ wany przez zródlo ciepla 10 umieszczony jest pod¬ klad przeznaczony do powlekania. Z reaktora 11 gaz jest zasysany przez przewód 12, wyposazony w zawór i chlodzony osadnik 13. Odprowadzenie gazu z ukladu jest dokonywane przez przewód 1^ za pomoca prózniowej pompy 15 zaopatrzonej w wylotowy przewód 16.Schemat urzadzenia przedstawiony na fig. 2 przedstawia chlorujacy reaktor 25 przeznaczony do chlorowania Al lub Zr, na przyklad w formie zia¬ ren lub wiórów.W tym urzadzeniu wodór doprowadzony z butli 1 jest mieszany w przewodach 19 i 20 z chlorem lub odpowiednim hydrochlorowanym gazowym roz¬ tworem z butli 17, skad mieszanina jest podawana do chlorujacego reaktora' przez przewód 21.Mieszanina gazu z chlorujacego reaktora 25 jest nastepnie mieszana z wodorem, tlenkiem wegla oraz dwutlenkiem wegla doprowadzonymi z butli 18 lub 28. Wytworzona mieszanina jest przetlaczana do reaktora 11 przez przewód 27 wyposazony w za¬ wór. Przyklady 1 do 7 wyjasniaja przebieg wytwa¬ rzania twardej powloki z weglika spiekanego we¬ dlug wynalazku.Przyklad 1. Powlekanie za pomoca warstwy TiC dokonywane jest w reaktorze, którego czesci sa wykonane z zaroodpornego stopu Ni—Cr. 3000 cementowanych weglikiem Wkladek zostaje wpro¬ wadzone do reaktora w celu ich podgrzewania do temperatury 1000°C. Wkladki wykonywane sa przy zawartosci okolo 40°/o WG, 15°/o Co i 45°/© wegli¬ ków w postaci TiC, TaC i NbC oraz w miare po¬ trzeby ZrC.Wkladki umieszczone sa na przystosowanych do tego sitowych plaszczyznach uniemozliwiajacych do¬ bry kontakt z otaczajacym ich gazem. Gaz, fetory zawiera mieszanine skladajaca sie z 10*/t TiCl4, 8*/o CH4 i 82f/o H2 wytwarzany jest znanym sposobem i jest przenoszony do reaktora za pomoca pojedyn¬ czego przewodu.Cisnienie w reaktorze moze byc podnoszone do 15 mm Hg przez zastosowanie ssania gazu z reak¬ tora przy pomocy prózniowej pompy, co zabezpie¬ cza przed procesem korozji na powierzchni wytwa¬ rzanych wkladek oraz za pomoca oddzielajacej chlodnicy, wypelnionej azotowa ciecza doprowadza¬ na przez pompe. W ten sposób przeplyw liniowy gazu wynosi 1 m/sek. Proces odbywa sie w ciagu dwóch godzin. W wyniku drobnoziarnistej obróbki grubosc warstwy TiC wynosi okolo 2 ^m. Wzrost kruchosci ze wzgledu na odweglanie jest bardzo maly, w wyniku stosunkowo krótkiego czasu ob¬ róbki.W urzadzeniu przedstawionym na fig. 2 rysunku 3000 wkladek jest obrabianych w sposób prawie identyczny w stosunku do wyzej omówionego. Je¬ dynie uklad doplywu gazu jest zmodyfikowany w sposób taki, ze gaz utworzony z mieszaniny 70°/o H2, 5°/o CQ2, 20°/o CO i 5% A1C13 jest dozowany.Temperatura warstwy podkladowej wynosi 1100°C a cisnienie 15 mm Hg. Liniowa szybkosc przeplywu gazu wynosi 3 m/sek. Po dokonywanym pokrywaniu w ciagu 8 godzin uformowane na me- 5 talowych wkladkach utwardzonego metalu pokry¬ tego warstwa TiC grubosci warstwy AlcOs posia¬ daja grubosc 2 (im.Uzyskuje sie polaczenie miedzy warstwa A1,0, i warstwa TiC przy równoczesnym braku krucho¬ sci miedzy poszczególnymi fazami, polaczonymi przez warstwe wiazaca cementujacego weglika TiC.Niektóre twarde metale pokrywane tyni samym ukladem warstw tlenkowych lecz nie powleczone TiC zawieraja porowata warstwe przy warstwie AI2O3 6 grubosci 15 |*m. Wytwarza sie przy tym krucha faza miedzy warstwa powierzchniowa i pod¬ kladowa.Przyklad 2. Warstwy oddzielajace TiN utwo¬ rzone sa w sposób analogiczny jak w przykladzie 1.Mieszanina gazu zostala zmieniona i zawierala ona do 10°/o TiCl4 30Vo N2 i 60°/o H2. Jako wynik obróbki otrzymuje sie drobnoziarniste zespolone ze soba po¬ wloki grubosci okolo 3 ^m. Ilosc kruchych faz ze wzgledu na stosowane odweglanie jest bardzo mala.W urzadzeniu przedstawionym na fig. 2, 3000 wkladek poddawane jest obróbce w identyczny spo¬ sób jak w poprzednim urzadzeniu przy czym uklad przeznaczony do doprowadzania gazu zostal zmo¬ dyfikowany, tylko w takim stopniu, ze mieszanina gazu sklada sie 2 70°/o H2, 5Vo COt, 20Vt CO i &•/• ZrCI4 doprowadzana byla przy temperaturze 1000°C.Cisnienie wynosi przy tym 15 mm Hg a liniowa szybkosc przeplywu gazu 5 m/sek. Po dokonaniu obróbki trwajacej 5 godzin tworzyla sie powloka Zr02 o grubosci 5 pm o dobrym przyleganiu do, warstwy TiN. Po wprowadzeniu tej samej warstwy tlenkowej lecz bez warstwy TiN otrzymywane po¬ wloki o grubosci 30 \im posiadaly gruboziarniste pory oraz slabo przylegaly do podloza choc podle¬ galy obróbce w ciagu tego samego czasu. Otrzy¬ mywano przy tym krucha strefe w polaczeniu mie¬ dzy pokrywajaca warstwa i podkladem.Przyklad 3. Utrzymujac te same warunki jak i w przykladzie 1 calkowita powloka wykonywana jest w urzadzeniu bez stosowania posredniego chlo¬ dzenia wkladek.Stosowane sa przy tym podwójne uklady zasila¬ jace gazu, z których jeden doprowadza TiCl* (pod¬ laczany podczas pierwszego okresu powlekania) i drugi doprowadza A1C13. Miedzy dwonia okresami pokrywania stosowano jako jednokrotne odpom¬ powywanie w celu spowodowania zmian cisnienia gazu. Wyniki w ten sposób otrzymywane podobne sa do wyników otrzymywanych w przykladzie 1.Przyklad 4. Proces byl przeprowadzany zgod¬ nie z przykladem 3 z wyjatkiem tego, ze stopniowe utlenianie bylo dokonywane miedzy dwoma po¬ szczególnymi okresami. Po pierwszym prózniowym odpompowaniu dokonywanym w celu usuniecia TiCl4 i CH4 byl wprowadzony gaz utleniajacy na przyklad wodór nasycony para wodna przy tempe¬ raturze 30°C. Po dokonaniu wymiany przez próz¬ niowa pompe nakladana byla warstwa tlenku alu¬ minium. 15 20 25 30 35 40 45 50 55 607 79682 8 Przyklad 5. Proces osadzania warstwy Al^Oj dokonuje sie podobnie jak w przykladzie 1 lecz na utwardzonym metalu, który pokrywa sie warstwa TiC o grubosci 2 jim, na drodze natryskiwania.W nastepnym przykladzie 6 wkladki poddaje sie próbie zuzycia podczas skrawania.Przyklad 6. Próbne skrawanie dokonywane jest poprzez obróbke toczeniem weglowej stali za¬ wierajacej C w ilosci lf/t o twardosci okolo .300 HB przy nastepujacym przebiegu ciecia.Szybkosc ciecia 160 m/min Posuw 0,30 mm/obr.Oceniono zywotnosc narzedzia wykonanego z weglika JSO P30 zawierajace wagowo 9,5 •/• Co, MMi TiC, €•/§ TaC, 49/f-NiC oraz WC uzupelniaja¬ cy do 100f/t.Rodzaj wladki: Zywotnosc wkladki w min.: 1. ISO P30 (norma) 3,3 2. ISO P30 z powloka TiC o grubosci 4 jum 15,3 3. ISO P30 z powloka A120, " 4 /im 18,3 4. ISO P30 z powloka AlfO, " 30 pm 4,3 5. ISO P30 z powlokaTiC " 2 j*m + powloka AltO, " 2 firn 43,4 Wyniki te wskazuja, ze pokrywanie cienka war¬ stwa TiC (punkt 2), znacznie powieksza zywotnosc wkladki w stosunku do wkladki znormalizowanej, punkt 1. Cienka warstwa Al^, (punkt 3) powodu¬ je znaczne zwiekszenie zywotnosci w stosunku do wkladki znormalizowanej. Gruba warstwa AljO,, (punkt 4) daje w tym przypadku, tylko niewielkie polepszenie zywotnosci. Podwójna warstwa, zasto¬ sowana zgodnie z wynalazkiem zawierajaca cienka warstwe TiC oraz A1,0,, (punk t 5), wykazuje szczególne zwiekszenie zywotnosci wkladki.Prz y k l a d 7. Pokrycie cietych 3000 wkladek ze spiekanego twardego metalu bylo dokonywane w podobny sposób jak to zostalo omówione w przy¬ kladzie 1 z wyjatkiem róznic ujawniajacych sie W tym, ze twardy metal zawiera 75§/« WG, 9,5°/« Co i 15,5Vt spieków zlozonych z TiC, TaC i NbC.Pierwsza obróbka polega na pokrywaniu oddzie¬ lajaca warstwa TiC przeprowadzana w ciagu 8 go¬ dzin, w wyniku czego uzyskiwana jest warstwa C grubosci okolo 5 \im. Podczas drugiego etapu cisnienie wynosilo okolo 10 mm Hg a liniowa szybkosc przeplywu gazu wynosila 4 m/sek.Po dokonaniu obróbki trwajacej 5 godzin po¬ wloka Al2Os dobrze przylegajaca do powierzchni posiada grubosc 0,8 ^m. Niektóre twarde metale pokrywane w podobny sposób lecz nie zawieraja- 5 ce warstwy TiC, która posiada grubosc równa gru¬ bosci warstwy A\fis 30 \im zawiera pewna ilosc po¬ rów i znacznie gorszy stopien przylegania warstw powierzchniowych. Przy cieciu preta wykonanego ze stopu chromowej stali o twardosci HB 280 sto¬ lo sowanej do szybkosciowego skrawania 160 m/min. - i posuwie 0,30 mm/na 1 obrót, zywotnosc narzedzi z wkladkami o warstwach wykonanych z weglika wedlug wynalazku wynosi: 1. Podklad + 5 ^m warstwy 13 powierzchniowej wykonanej z TiC 14,4 min. 2. Podklad + 5 /im warstwy posredniej z TiC + 0,8 fxm warstwy powierzchnio¬ wej wykonanej z A120, 63,5 min.Przy skrawaniu przyjeto 20 wkladek z których 20 dla 11 operacji zastosowano warstwe AI2O1 a dla 9 operacji warstwe TiC. PL PL PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe 25 i. Powloka metalowa posiadajaca rdzen lub pod¬ klad ze spiekanego twardego metalu zawierajacego przynajmniej wegiel, polaczony z metalem, na któ¬ rym umieszczona jest cienka powloka o jednolicie pokrywajacej powierzchni rdzenia lub podkladu 3© i o znacznie wiekszej odpornosci na scieranie w stosunku do Jwardego metalu zastosowanego na podklad, znamienna tym, ze cienka powloka skla¬ da sie z dwóch warstw umieszczonych jedna nad druga, przy czym zewnetrzna warstwa zawiera 35 jedna lub wiecej odpornych na scieranie skladni¬ ków utworzonych zwlaszcza z tlenku aluminium i/lub tlenku cyrkonu, osadzonych z fazy gazo¬ wej, podczas gdy wewnetrzna warstwa umiesz¬ czona w poblizu rdzenia sklada sie z jednej lub 40 wiecej warstw utworzonych z jednego lub wielu weglików i/lub azotków tytanu, cyrkonu, ha|nu, wanadu, niobu, tantalu, chromu, molibdenu, wol¬ framu, krzemu i/lub boru.
2. Powloka metalowa wedlug zastrz. 1, znamien- 45 na tym, ze grubosc zewnetrznej warstwy wynosi 0,2 do 20 ^m przy czym korzystniej jest gdy wy¬ nosi 0,5 do 5 \an.
3. Powloka metalowa wedlug zastrz. 1 lub 2, znamienna tym, ze grubosc wewnetrznej warstwy 50 wynosi 2 do 6 jim.79682 F/y. 7 \79682 Fig. 2 Ullc/2 U|/y2 (HCl) Drukarnia Narodowa Zaklad Nr 6, zam. 622/75 Cena 10 zl PL PL PL
PL1972158798A 1971-11-12 1972-11-10 PL79682B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE14479/71A SE357984B (pl) 1971-11-12 1971-11-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL79682B1 true PL79682B1 (pl) 1975-06-30

Family

ID=20299184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1972158798A PL79682B1 (pl) 1971-11-12 1972-11-10

Country Status (12)

Country Link
US (1) US3837896A (pl)
JP (1) JPS5213201B2 (pl)
BR (1) BR7207922D0 (pl)
CA (1) CA972233A (pl)
DE (1) DE2253745C3 (pl)
ES (1) ES408523A1 (pl)
FR (1) FR2170383A5 (pl)
GB (1) GB1394108A (pl)
IT (1) IT969848B (pl)
PL (1) PL79682B1 (pl)
SE (1) SE357984B (pl)
SU (1) SU963450A3 (pl)

Families Citing this family (78)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT385058B (de) * 1946-07-17 1988-02-10 Vni Instrument Inst Verfahren zur verfestigung von schneidwerkzeugen
DE2225135C3 (de) * 1971-05-26 1987-10-22 General Electric Co., Schenectady, N.Y. Schneideinsatz
SE367217B (pl) * 1973-09-17 1974-05-20 Sandvik Ab
JPS5142029A (ja) * 1974-10-09 1976-04-09 Mitsubishi Metal Corp Hifukusoojusuruchokogokinbuhin
DE2525185C3 (de) * 1975-06-06 1986-04-17 Fried. Krupp Gmbh, 4300 Essen Hartmetallkörper
JPS51144388A (en) * 1975-06-09 1976-12-11 Sumitomo Electric Ind Ltd Hard alloy parts coated with multiple layer film
JPS51144389A (en) * 1975-06-09 1976-12-11 Sumitomo Electric Ind Ltd Process for producing hard alloy parts coated with oxygen-containing f ilm
US4018631A (en) * 1975-06-12 1977-04-19 General Electric Company Coated cemented carbide product
JPS5294813A (en) * 1976-02-06 1977-08-09 Mitsubishi Metal Corp Covered super hard throwaway tip
JPS5294812A (en) * 1976-02-06 1977-08-09 Mitsubishi Metal Corp Covered super hard throwaway tip
GB1578729A (en) * 1976-06-16 1980-11-05 Lucas Industries Ltd Tip in a single point turning tool
US4150195A (en) * 1976-06-18 1979-04-17 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Surface-coated cemented carbide article and a process for the production thereof
JPS537513A (en) * 1976-07-10 1978-01-24 Mitsubishi Metal Corp Covered hard alloy product
SE406090B (sv) * 1977-06-09 1979-01-22 Sandvik Ab Belagd hardmetallkropp samt sett att framstalla en dylik kropp
SE7809198L (sv) * 1977-09-09 1979-03-10 United Technologies Corp Slipmaterial, anvendbart som dispersoid i metalliskt bindemedel, serskilt vid hoga temperaturer, samt forfarande for slipmaterialets framstellning
DE2851584B2 (de) * 1978-11-29 1980-09-04 Fried. Krupp Gmbh, 4300 Essen Verbundkörper
SE417618B (sv) * 1979-01-22 1981-03-30 Sandvik Ab Hardmetallkropp med slitstarkt ytskikt
US4268569A (en) * 1979-02-07 1981-05-19 General Electric Company Coating underlayers
US4261745A (en) 1979-02-09 1981-04-14 Toyo Kohan Co., Ltd. Method for preparing a composite metal sintered article
DE2917348C2 (de) * 1979-04-28 1984-07-12 Fried. Krupp Gmbh, 4300 Essen Verschleißfester Verbundkörper
IL58548A (en) * 1979-10-24 1983-07-31 Iscar Ltd Sintered hard metal products having a multi-layer wearresistant coating
EP0031805B1 (de) * 1979-12-28 1984-09-19 Vereinigte Edelstahlwerke Aktiengesellschaft (Vew) Hartkörper, insbesondere Hartmetallverschleissteil, und Verfahren zu seiner Herstellung
US4399168A (en) * 1980-01-21 1983-08-16 Santrade Ltd. Method of preparing coated cemented carbide product
US4282289A (en) * 1980-04-16 1981-08-04 Sandvik Aktiebolag Method of preparing coated cemented carbide product and resulting product
JPS56152962A (en) * 1980-04-28 1981-11-26 Sumitomo Electric Ind Ltd Coated super hard alloy member
JPS5716161A (en) * 1980-07-02 1982-01-27 Ngk Spark Plug Co Ltd Preparation of coating tip for cutting
SE425978B (sv) * 1980-07-28 1982-11-29 Sandvik Ab Sett att framstella en formkropp bestaende av ett substrat samt minst ett tunt slitstarkt ytskikt
US4357382A (en) * 1980-11-06 1982-11-02 Fansteel Inc. Coated cemented carbide bodies
USRE32111E (en) * 1980-11-06 1986-04-15 Fansteel Inc. Coated cemented carbide bodies
US4610931A (en) * 1981-03-27 1986-09-09 Kennametal Inc. Preferentially binder enriched cemented carbide bodies and method of manufacture
USRE34180E (en) * 1981-03-27 1993-02-16 Kennametal Inc. Preferentially binder enriched cemented carbide bodies and method of manufacture
IL63802A (en) * 1981-09-11 1984-10-31 Iscar Ltd Sintered hard metal products having a multi-layer wear-resistant coating
JPS5858273A (ja) * 1981-10-01 1983-04-06 Sumitomo Electric Ind Ltd 被覆超硬合金
US5073411A (en) * 1981-12-16 1991-12-17 Carboloy, Inc. Process for forming a surface oxidized binding layer on hard substrates
US4490191A (en) * 1981-12-16 1984-12-25 General Electric Company Coated product and process
AT377786B (de) * 1981-12-24 1985-04-25 Plansee Metallwerk Verschleissteil, insbesondere hartmetall -schneideinsatz zur spanabhebenden bearbeitung
US4442169A (en) * 1982-01-28 1984-04-10 General Electric Company Multiple coated cutting tool and method for producing same
US4440547A (en) * 1982-05-20 1984-04-03 Gte Laboratories Incorporated Alumina coated silicon nitride cutting tools
DE3232626C2 (de) * 1982-09-02 1988-04-14 M.A.N. Maschinenfabrik Augsburg-Nürnberg AG, 8000 München Verfahren zur Bildung einer korrosionsbeständigen Oxidschicht auf einem metallischen Werkstoff
SE8205274L (sv) * 1982-09-15 1984-03-16 Santrade Ltd Sker samt metod for tillverkning av detsamma
JPS59110776A (ja) * 1982-12-15 1984-06-26 Sumitomo Electric Ind Ltd 表面被覆焼結硬質合金
DE3311480A1 (de) * 1983-03-29 1984-10-11 Feinmetall Gmbh, 7033 Herrenberg Kontaktbaustein
DE3318999A1 (de) * 1983-05-25 1984-11-29 M.A.N. Maschinenfabrik Augsburg-Nürnberg AG, 8000 München Beschichteter metallischer gegenstand sowie verfahren zu dessen herstellung
JPS6011288A (ja) * 1983-06-30 1985-01-21 三菱マテリアル株式会社 表面被覆サイアロン基セラミツクス工具部材
DE3332260A1 (de) * 1983-09-07 1985-03-28 Fried. Krupp Gmbh, 4300 Essen Beschichteter hartmetallkoerper
DE3434616C2 (de) * 1983-12-19 1997-06-19 Hartmetall Beteiligungsgesells Verfahren zur Herstellung von Titan-Bor-Oxinitridschichten auf Sinterhartmetallkörpern
US4724169A (en) * 1984-10-09 1988-02-09 Ovonic Synthetic Materials Company, Inc. Method of producing multilayer coatings on a substrate
JPS61223180A (ja) * 1985-03-29 1986-10-03 Mitsubishi Metal Corp 表面被覆炭化タングステン基超硬合金製切削工具
JPS61223181A (ja) * 1985-03-29 1986-10-03 Mitsubishi Metal Corp 表面被覆炭化タングステン基超硬合金製切削工具
JPS61223182A (ja) * 1985-03-29 1986-10-03 Mitsubishi Metal Corp 表面被覆炭化タングステン基超硬合金製切削工具
DE3633986A1 (de) * 1985-12-07 1987-06-25 Schmalkalden Werkzeug Oberflaechenschicht auf der basis von aluminiumoxid fuer sinterhartmetallkoerper und verfahren zu ihrer herstellung
US4696352A (en) * 1986-03-17 1987-09-29 Gte Laboratories Incorporated Insert for a drilling tool bit and a method of drilling therewith
JPS6362863A (ja) * 1986-09-02 1988-03-19 Seikosha Co Ltd 金色を呈する物品
AT387186B (de) * 1987-05-04 1988-12-12 Ver Edelstahlwerke Ag Beschichteter hartmetallkoerper
DE3718677A1 (de) * 1987-06-04 1988-12-22 Mtu Muenchen Gmbh Formkoerper aus einem verbundwerkstoff von metallen und nichtmetallen
SE464818B (sv) * 1989-06-16 1991-06-17 Sandvik Ab Belagt skaer foer skaerande bearbetning
JP2619838B2 (ja) * 1989-09-08 1997-06-11 新日本製鐵株式会社 セラミックスコーティング金属板
US5516588A (en) * 1991-03-27 1996-05-14 Widia Gmbh Composite body, its use and a process for its production
SE9101953D0 (sv) * 1991-06-25 1991-06-25 Sandvik Ab A1203 coated sintered body
SE501527C2 (sv) * 1992-12-18 1995-03-06 Sandvik Ab Sätt och alster vid beläggning av ett skärande verktyg med ett aluminiumoxidskikt
SE502174C2 (sv) * 1993-12-23 1995-09-04 Sandvik Ab Sätt och alster vid beläggning av ett skärande verktyg med ett aluminiumoxidskikt
SE502223C2 (sv) 1994-01-14 1995-09-18 Sandvik Ab Sätt och alster vid beläggning av ett skärande verktyg med ett aluminiumoxidskikt
US5560839A (en) * 1994-06-27 1996-10-01 Valenite Inc. Methods of preparing cemented metal carbide substrates for deposition of adherent diamond coatings and products made therefrom
SE504968C2 (sv) * 1994-11-15 1997-06-02 Sandvik Ab Metod att belägga ett skärverktyg med ett skikt av alfa-Al2O3
DE19518779C1 (de) * 1995-05-22 1996-07-18 Fraunhofer Ges Forschung Verbundkörper aus vakuumbeschichtetem Sinterwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung
DE19518781C1 (de) * 1995-05-22 1996-09-05 Fraunhofer Ges Forschung Vakuumbeschichteter Verbundkörper und Verfahren zu seiner Herstellung
US5984593A (en) * 1997-03-12 1999-11-16 Kennametal Inc. Cutting insert for milling titanium and titanium alloys
US6354008B1 (en) * 1997-09-22 2002-03-12 Sanyo Electric Co., Inc. Sliding member, inner and outer blades of an electric shaver and film-forming method
US6105261A (en) * 1998-05-26 2000-08-22 Globix Technologies, Inc. Self sharpening blades and method for making same
JP3678924B2 (ja) * 1998-11-05 2005-08-03 日立ツール株式会社 酸化アルミニウム被覆工具
US6684513B1 (en) * 2000-02-29 2004-02-03 The Gillette Company Razor blade technology
DE10251404A1 (de) * 2002-10-07 2004-04-15 Widia Gmbh Verbundwerkstoff
US20040172832A1 (en) * 2003-03-04 2004-09-09 Colin Clipstone Razor blade
AT413705B (de) * 2004-08-02 2006-05-15 Boehlerit Gmbh & Co Kg Wendeschneidplatte mit einer mehrlagenbeschichtung
EP2446988A1 (en) 2010-10-29 2012-05-02 Seco Tools AB Cutting tool insert with an alpha-alumina layer having a multi-components texture
CN110387537B (zh) * 2018-04-20 2021-10-15 北京北方华创微电子装备有限公司 一种原子层沉积设备及气体传输方法
US11371150B2 (en) 2020-01-04 2022-06-28 Kennametal Inc. Coating and coated cutting tool comprising the coating
US20240425978A1 (en) * 2021-11-16 2024-12-26 Walter Ag Moderate temperature cvd alpha alumina coating

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2872350A (en) * 1955-07-01 1959-02-03 Ohio Commw Eng Co Gaseous deposition of tungsten carbides
US2994124A (en) * 1955-10-03 1961-08-01 Gen Electric Clad cermet body
DE1116499B (de) * 1958-07-05 1961-11-02 Metallgesellschaft Ag Verfahren zum Herstellen von Titanborid-UEberzuegen auf Metallen der Eisengruppe und deren Legierungen
US3178308A (en) * 1960-09-07 1965-04-13 Pfaudler Permutit Inc Chemical vapor plating process
US3249460A (en) * 1961-03-07 1966-05-03 Norton Co Protected refractory articles
US3260579A (en) * 1962-02-14 1966-07-12 Hughes Tool Co Hardfacing structure
GB1024793A (en) * 1962-08-13 1966-04-06 Carborundum Co Improvements in or relating to cutting tools
US3393084A (en) * 1964-05-01 1968-07-16 Union Carbide Corp Coating carbon substrates with refractory metal carbides
GB1159823A (en) * 1965-08-06 1969-07-30 Montedison Spa Protective Coatings
US3721577A (en) * 1966-09-23 1973-03-20 Teeg Research Inc Process for the deposition of refractory metal and metalloid carbides on a base material
US3475161A (en) * 1967-03-14 1969-10-28 Howmet Corp Method of forming cemented carbide coatings on metal surfaces by employing volatile,organic liquid solvents and organic binders
CH542678A (de) * 1969-06-02 1973-10-15 Suisse De Rech S Horlogeres La Verbundwerkstoff für Schneidwerkzeuge
DE1954366C2 (de) * 1969-10-29 1972-02-03 Heraeus Gmbh W C Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von harten UEberzuegen aus Titan- und/oder Tantalverbindungen
US3640689A (en) * 1970-03-04 1972-02-08 Fansteel Inc Composite hard metal product

Also Published As

Publication number Publication date
DE2253745B2 (de) 1975-07-31
JPS5213201B2 (pl) 1977-04-13
DE2253745C3 (de) 1982-01-21
CA972233A (en) 1975-08-05
US3837896A (en) 1974-09-24
SU963450A3 (ru) 1982-09-30
IT969848B (it) 1974-04-10
BR7207922D0 (pt) 1973-12-13
DE2253745A1 (de) 1973-05-17
GB1394108A (en) 1975-05-14
SE357984B (pl) 1973-07-16
ES408523A1 (es) 1976-02-16
JPS4859106A (pl) 1973-08-18
FR2170383A5 (pl) 1973-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL79682B1 (pl)
US4701384A (en) Composite coatings on cemented carbide substrates
US4714660A (en) Hard coatings with multiphase microstructures
US4745010A (en) Process for depositing a composite ceramic coating on a cemented carbide substrate
RU2392350C2 (ru) КЕРАМИЧЕСКИЕ ИНСТРУМЕНТЫ ИЗ Al2O3 СО СЛОЕМ, УСИЛЕННЫМ ДИФФУЗИОННЫМ СВЯЗЫВАНИЕМ
JP5269066B2 (ja) セラミック被覆を有する切削インサート
US3836392A (en) Process for increasing the resistance to wear of the surface of hard metal cemented carbide parts subject to wear
US3977061A (en) Cutting insert and method of making the same
US5827570A (en) Composite ceramic articles and method for making such articles
JP2663968B2 (ja) 切削工具
US4751109A (en) A process for depositing a composite ceramic coating on a hard ceramic substrate
USRE29420E (en) Sintered cemented carbide body coated with two layers
US4702970A (en) Composite coatings on ceramic substrates
JP2717790B2 (ja) 酸化物コーティングを有する耐摩耗性物品及び酸化物コーティングを付着する方法
US6726987B2 (en) Hard metal wearing part with mixed oxide coating
SE511211C2 (sv) Ett multiskiktbelagt skärverktyg av polykristallin kubisk bornitrid
JPH0615714B2 (ja) 焼結硬質金属製品
MXPA03004462A (es) Revestimiento de tibn.
US4943450A (en) Method for depositing nitride-based composite coatings by CVD
JP2851279B2 (ja) 耐摩耗性物品
Prengel et al. CVD coatings based on medium temperature CVD κ-and α-Al2O3
JPH0583634B2 (pl)
JP2626779B2 (ja) 複合コーティング付着方法
JP3117978B2 (ja) 耐摩耗性物品及び製造方法
JPS6354495B2 (pl)