PL79160B1 - Method for separating deposits formed on the surface of structures during production process or in the course of operation of apparatus[gb1407859a] - Google Patents

Description

Uprawniony z patentu: Igor Anatolievich Levin, Moskwa (Zwiazek So¬ cjalistycznych Republik Radzieckich) Sposób oddzielania osadów od powierzchni konstrukcji Przedmiotem wynalazku jest sposób oddzielania osadów od powierzchni konstrukcji, zwlaszcza osa¬ dów tworzacych sie na tych powierzchniach w cza¬ sie procesu technologicznego lub eksploatacji kon¬ strukcji.Najbardziej celowe jest wykorzystanie sposobu wedlug wynalazku dla oczyszczania urzadzen uzy¬ wanych w przemysle chemicznym lub spozywczym.Równiez celowe jest oczyszczanie tym sposobem maszyn, pracujacych w górnictwie, z nalepionych na nich twardych czastek skaly; lopatek turbin z czastek kamienia kotlowego lub nagaru; kolejo¬ wych wagonów towarowych po przewozeniu w nich twardych sypkich materialów i tym podobnych.Znane sa sposoby oddzielania twardych osadów od powierzchni konstrukcji, oparte na rozpuszcza¬ niu tych osadów.Znane sa równiez sposoby oddzielania twardych osadów poprzez nagrzewanie konstrukcji.Oprócz tego, twarde osady oddziela sie od po¬ wierzchni konstrukcji poprzez wywolanie sprezys¬ tych odksztalcen powierzchni w oczyszczanej stre¬ fie. W tym wypadku sprezyste odksztalcenia wy¬ woluje sie przez bezposrednie mechaniczne ude¬ rzeniowe oddzialywanie na oczyszczana powierzch¬ nie lub nadanie ciaglej wibracji tej powierzchni.Wszystkie te sposoby sa malo efektywne — wy¬ magaja nakladów czasu i pracy.Urzadzenia sluzace realizacji tych sposobów, a zwlaszcza do wibracyjnego oczyszczania, maja 10 15 25 30 znaczne rozmiary, sa skomplikowane konstrukcyj¬ nie i w czasie ich eksploatacji nie zabezpieczaja przed uszkodzeniem powierzchni, z których usuwa¬ ne sa twarde osady.Znane sa urzadzenia do usuwania lodu z cienko¬ sciennych konstrukcji, zwlaszcza z pokryc samolo¬ tów, w którym wykorzystuje sie do tego celu od¬ ksztalcenia sprezyste, wywolywane w pokryciu sa¬ molotu. Sprezyste odksztalcenia w pokryciu, wy¬ woluje sie przez wzbudzenie w nim pojedynczych mechanicznych impulsów, poprzez oddzialywanie pola elektromagnetycznego lub cisnienia cieczy.W trakcie dalszych badan stwierdzono, ze impul¬ sowe sprezyste odksztalcenia, wywolywane w oczy¬ szczanej strefie powierzchni, mozna wykorzystac równiez do oczyszczania urzadzen przemyslu che¬ micznego i spozywczego z osadów, powstajacyeh na powierzchniach w czasie procesu technologicznego, a równiez do oczyszczania maszyn, wagonów i in¬ nych konstrukcji z osadzonych na ich powierzch¬ niach twardych osadów.Jednak bezposrednie uzycie do tego celu urza¬ dzen, zaprojektowanych do usuwania lodu z cien¬ kosciennych pokryc, nie dalo pozytywnego rezulta¬ tu. Konieczne bylo zbadanie tego zagadnienia, a zwlaszcza procesu odksztalcania osadów po prze¬ kroczeniu ich granicy sprezystosci i warunków powstawania kruchego rozdzielenia tych osadów.Na podstawie tych badan otrzymano szereg cha¬ rakterystyk i warunków utworzenia niezbednych 791603 impulsów. Na podstawie tych badan ustalono rów¬ niez parametry, okreslajace mozliwosc oddzielenia i zniszczenia osadów metoda impulsowa.Rezultatem wyzej wspomnianych badan sa gra¬ nice obszaru charakterystyk, okreslajace optymalne wartosci impulsów, zawarte w proponowanym spo¬ sobie.Celem wynalazku jest otrzymanie sposobu, po¬ zwalajacego najefektywniej oddzielac od powierzch¬ ni konstrukcji osadzone na niej osady przy mini-' malnym zapotrzebowaniu mocy, pobieranej z ze¬ wnetrznego zródla energii, w minimalnym czasie.Zadaniem wynalazku jest opracowanie sposobu oddzielania od powierzchni konstrukcji powstaja¬ cych na nich osadów, poprzez wywolanie takich sprezystych odksztalcen w oczyszczanej strefie, któ¬ re bez mechanicznych uderzen oczyszczanej po- wierzctoi wjjJrohyyby w niej odksztalcenie spre¬ zyste, w którego rezultacie osady, uprzednio dopro¬ wadzone do stanu kruchego, ulegalyby rozdzieleniu i oddzielalyby sie od tej powierzchni.Zadanie to rozwiazane zostalo wedlug wynalazku w ten sposób, ze poprzez zewnetrzne oddzialywanie naturalne badz. wymuszone zmniejsza sie adhezje miedzy osadem a materialem powierzchni do war¬ tosci mniejszej od granicy wytrzymalosci tego ma¬ terialu, a szybkosc relaksacji osadu obniza sie do wartosci mniejszej od krytycznej predkosci udaro¬ wej materialu powierzchni, po czym realizuje sie sprezyste odksztalcenie oczyszczanej powierzchni poprzez wzbudzanie w niej pojedynczych mecha¬ nicznych impulsów, trwajacych nie dluzej niz 0,01 sekundy, przedzielonych pauzami, trwajacymi co najmniej 10 razy dluzej niz czas trwania me¬ chanicznego impulsu, impulsami energii pochodza¬ ce] z zewnetrznego zródla i przekazywanymi na wskazana powierzchnie poprzez czynnik posredni, przy czym przed pierwszym impulsem i w czasie pauz miedzy impulsami gromadzi sie energie dla otrzymania impulsu o mocy wielokrotnie przewyz¬ szajacej moc zródla energii, koniecznej dla otrzy¬ mania mechanicznego Impulsu o amplitudzie, wy¬ starczajacej do oddzielenia twardego osadu, lecz nie przekraczajacej wartosci, przy której mecha¬ niczne naprezenie w konstrukcji osiaga granice wytrzymalosci na zmeczenie lub granice wytrzy¬ malosci na naprezenia okresowe i o szybkosci na¬ rastania impulsu, zapewniajacej wieksza szybkosc narastania odksztalcen, niz szybkosc relaksacji tego osadu, ale mniejsza niz wielkosc krytycznej pred¬ kosci udarowej materialu oczyszczanej powierzchni.Korzystnie w charakterze impulsów energii, prze¬ kazywanej oczyszczanej powierzchni, wykorzystuje sie impulsy pola elektromagnetycznego, wywolujace na drodze indukcji wtórny prad elektryczny w me¬ talowych czesciach oczyszczanej powierzchni.Najbardziej celowe jest wykorzystanie takich im¬ pulsów do usuwania osadów z cienkosciennych po¬ wierzchni o duzych rozmiarach.W odmianie sposobu wedlug wynalazku jako im¬ pulsy energii, przekazywane oczyszczanej po¬ wierzchni, stosuje sie impulsy cisnienia cieczy, za¬ wartej w komorze, wykonanej w ten sposób; ze co najmniej czescia jej scianek jest oczyszczana po¬ wierzchnia. 70160 4 Ta odmiana sposobu wedlug wynalazku ma za¬ lety w porównaniu z innymi w wypadku powsta¬ nia osadów w zamknietych zbiornikach o ksztalcie cylindrycznym lub sferycznym.B Celowe jest uzycie w charakterze zewnetrznego oddzialywania na osad przed sprezystym odksztal¬ caniem, oddzialywania termicznego, na przyklad wyzarzania lub ochladzania.Wyzarzanie nalezy stosowac wówczas, kiedy w w osadzie znajduja sie przynajmniej dwa skladniki, przy czym jeden z nich ma niska temperature top¬ nienia i jest plastyczny, a drugi twardy i kruchy.Ochladzanie szeregu substancji nalezy stosowac w celu zmniejszenia plastycznosci, a wiec zmniejsze- 15 nia szybkosci relaksacji osadów.W wypadku, kiedy osad ma gabczasta lub plas¬ tyczna strukture, mozna uzyc w charakterze ze¬ wnetrznego oddzialywania mechaniczne utwardza¬ nie, zageszczajace dane osady. 20 Korzystne jest uzycie jako zewnetrznego oddzia¬ lywania na osad zewnetrznego cisnienia, powoduja¬ cego rekrystalizacje osadu.Taki wariant jest korzystny w wypadku powsta¬ wania w zamknietych zbiornikach plastycznego 25 osadu, który staje sie kruchy w czasie i po dziala¬ niu wysokiego cisnienia.Celowym jest, w wypadku kiedy osad ma nie¬ znaczna grubosc, nanoszenie dodatkowej warstwy materialu, laczacego sie z osadem, w celu zwiek- 30 szenia jego grubosci.Taki wariant jest korzystny w wypadku powsta¬ wania cienkiej warstwy sprezystego osadu, którego kruche rozdzielenie wymaga duzej mocy impulsu.Naniesienie dodatkowej warstwy kruchego materia- 35 lu, majacego duza adhezje z materialem osadu, po¬ woduje zmniejszenie potrzebnej mocy impulsu.Równiez celowym jest uzycie w charakterze zew¬ netrznego oddzialywania substancji, które wstepu¬ ja w chemiczne reakcje z osadem lub tworza z nim 40 twardy zwiazek. Wykorzystujac takie substancje mozna nadac rozmaitym osadom, równiez nie twar¬ dym, wlasnosci, niezbedne do usuniecia osadu po¬ jedynczymi mechanicznymi impulsami.W wyniku badan ustalono, ze mozna wykorzystac 45 w charakterze oddzialywania zewnetrznego ciecz, twardniejaca po naniesieniu jej na osad.Taki wariant ma zalety w tym wypadku, kiedy osad ma postac oddzielnych kawalków, tworzacych pod dzialaniem twardniejacej cieczy nieprzerwana 50 warstwe, latwiej usuwana pod dzialaniem impul¬ sów.W wypadku, kiedy oczyszczana powierzchnia jest niemetalowa, celowe jest wykorzystanie metalowe¬ go zbrojenia instalowanego na oczyszczanej po- 55 wierzchni przed otrzymaniem na niej osadu i usu¬ wanego pod dzialaniem impulsów razem z osadem.Taki wariant jest korzystny w wypadku stoso¬ wania impulsowego oddzialywania polem elektro¬ magnetycznym do usuwania osadu z powierzchni 60 niemetalowej, kiedy na te powierzchnie naklada sie metalowe zbrojenie, w którym wzbudza sie wtórny prad elektryczny.Nalezy podkreslic, ze w szeregu przypadków osad na powierzchni konstrukcji nabywa wlasnosci, nie- 65 zbedne dla jego usuniecia, w sposób naturalny.70180 5 * Wykorzystanie sposobu, zgodnie z wynalazkiem, pozwala na efektywne oczyszczanie powierzchni konstrukcji praktycznie z dowolnego osadu, który przed jego usunieciem daje sie w sposób naturalny badz wymuszony doprowadzic do stanu twardego i kruchego.Oprócz tego, ten sposób zapewnia, przy minimal¬ nym zuzyciu mocy, pobieranej ze zródla energii, szybkie oczyszczenie powierzchni i zachowanie jej stanu, to znaczy nie powoduje uszkodzen.Przyklady zastosowania sposobu wedlug wynalaz¬ ku przedstawione sa na rysunkach, na których: fig. 1 przedstawia scianke wagonu z zainstalowa¬ nym przy niej urzadzeniem do wytwarzania impul¬ sów pola elektromagnetycznego, fig. 2 — urzadze¬ nie w przekroju P—P oznaczonym na fig. 1, fig. 3 — komore z zainstalowanym urzadzeniem do otrzy¬ mywania impulsów cisnienia, wytwarzanych w cie¬ czy, zawartej w komorze.Sposób oddzielania z powierzchni konstrukcji osadu, tworzacego sie na nich w trakcie procesu technologicznego, polega na doprowadzeniu osadu do twardego, kruchego stanu poprzez oddzialywa¬ nie zewnetrzne naturalne badz wymuszone.Wiadomo, ze rodzaj zniszczenia okresla sie za¬ chowaniem sie materialu przy obciazeniu wiekszym od granicy sprezystosci. Dla tych warunków zacho¬ wanie sie materialu opisane jest równaniem re¬ laksacji MaxwelPa: t 6t—A,=(o0—We x gdzie X — naprezenie granicy sprezystosci; 6t — naprezenie w materiale w momencie t; 8o — naprezenie w momencie poczatkowym; e — podstawa logarytmu naturalnego; t — czas relaksacji.Z tego równania mozna otrzymac równanie, okreslajace szybkosc zmiany naprezen w materiale: dot de 1 dt dt t gdzie A — modul sprezystosci (dla rozciagania i sciskania równy modulowi YoungaE); de szybkosc odksztalcenia ciala. dt Wielkosc (fit-X) —/A, okreslana czasem relaksacji T i majaca wymiar szybkosci zmian odksztalcen, na¬ zywa sie szybkoscia relaksacji i jest wielkoscia charakteryzujaca plastycznosc materialu. Po to, aby oddzielanie impulsowe materialu bylo efektywne, niezbedne jest jego kruche rozdzielenie i dlatego pierwszy czlon prawej czesci wzoru powinien byc znacznie wiekszy od drugiego. Stad wyplywa ko¬ de niecznosc otrzymania mozliwie duzej wartosci — dt to znaczy maksymalnej szybkosci odksztalcania.Przeprowadzone badania szeregu materialów po¬ twierdzily hipoteze, ze nawet plastyczne materialy przy duzej szybkosci odksztalcania wykazuja kru¬ che rozdzielanie. de Jednak mozliwosci zwiekszenia .— ograniczone dt sa charakterystyka materialu powierzchni, od któ¬ rej oddziela sie material — szybkosc odksztalcania nie powinna przewyzszac krytycznej szybkosci udarowej materialu powierzchni, to znaczy, szyb- 5 kosci, przy której zaczyna sie udarowe niszczenie powierzchni.Druga wielkoscia charakterystyczna materialu jest adhezja w stosunku do materialu powierzchni.Aby material nie podlegal niszczeniu w czasie od¬ dzialywania impulsowego, adhezja nie powinna przewyzszac wytrzymalosci, materialu powierzchni.Po tym jak osad 1 (fig. 1, 2) na sciankach 2 wa¬ gonu posiadzie wyzej wymienione wlasnosci, reali¬ zuje sie odksztalcenie sprezyste powierzchni scia¬ nek 2 wagonu w oczyszczanej strefie poprzez wzbu¬ dzenie w niej pojedynczych mechanicznych impul¬ sów o czasie trwania nie wiekszym niz 0,01 sekun¬ dy, impulsami pola elektromagnetycznego, wzbu¬ dzajacymi przez indukcje wtórny prad w metalo¬ wych czesciach 2 oczyszczanej powierzchni wagonu.Srodkiem, sluzacym do otrzymania impulsu elek¬ tromagnetycznego, jest cewka 3, utworzona ze zwo¬ jów drutu i nie majaca metalowego rdzenia. Cewke instaluje sie w wygodnym miejscu blisko oczysz¬ czanej powierzchni 2, od strony osadu 1 i podlacza sie przez generator (nie pokazany) impulsów ele¬ ktrycznych do zewnetrznego zródla energii. Zród¬ lem energii moze byc siec elektryczna. Cewke 3 mocuje sie do belek 4 wagonu przy pomocy ele¬ mentów mocujacych 5 i 6.Mozna zainstalowac cewke w poblizu oczyszcza¬ nej powierzchni od strony niepokrytej osadem. W tym przykladzie czynnikiem posrednim jest po¬ wietrze.Podczas przepuszczania przez wskazane cewki impulsów elektrycznych, przedzielonych pauzami, powstaja impulsy pola magnetycznego, wzbudzaja¬ ce przez indukcje wtórne prady elektryczne w me¬ talowych czesciach powierzchni. Wzajemne oddzia¬ lywanie impulsów pradów elektrycznych, pierwot¬ nego w cewce 3 i wtórnego na powierzchni Z, po¬ woduje krótkotrwale przemieszczenie tej powierzch¬ ni w kierunku cewki 3, charakteryzujace sie duzy¬ mi przyspieszeniami i szybkosciami. Ten mecha¬ niczny impuls odksztalcenia powierzchni 2 rozprze¬ strzenia sie w postaci fali* z miejsca powstania do calej strefy oczyszczania.Badania wykazaly, ze najwieksza efektywnosc otrzymuje sie przy czasie trwania impulsu nie dluz¬ szym niz % okresu drgan wlasnych scianki kon¬ strukcji. Biorac pod uwage sztywnosc istniejacych konstrukcji, majacych czestotliwosc drgan wlasnych nie mniejsza niz 30 Hz otrzymujemy, ze czas trwa¬ nia impulsu powinien byc nie dluzszy niz 0,01 se¬ kundy.Pauza miedzy sasiednimi impulsami jest co naj¬ mniej dziesiec razy dluzsza niz czas trwania me¬ chanicznego impulsu. W czasie pauzy zachodzi gro¬ madzenie energii dla otrzymania mocy impulsu wielokrotnie przewyzszajacej moc zródla energii. Do gromadzenia energii moze sluzyc kondensator, be¬ dacy czescia generatora impulsów elektrycznych.Przyspieszenie punktów powierzchni, nadawane im w czasie impulsu mechanicznego, powinno byc na tyle duze, zeby sily bezwladnosci czastek twar- 15 20 25 30 35 40 45 50 55 607»160 8 dego materialu, osadu, równe iloczynowi ich masy razy przyspieszenie, przewyzszaly adhezje tych cza¬ stek wzgledem powierzchni. Nalezy podkreslic, ze naprezenia scinajace, powstajace na skutek wygie¬ cia scianki w czasie rozprzestrzeniania sie fali po powierzchni, zmniejszaja adhezje i obnizaja wy¬ magana wielkosc przyspieszenia.Amplituda impulsu mechanicznego powinna byc wystarczajaca dla stworzenia potrzebnej wielkosci przyspieszenia, lecz nie przekraczajacej wartosci, przy której w materiale scianki lub konstrukcji po¬ wstaja naprezenia równe granicy wytrzymalosci na zmeczenie lub granicy wytrzymalosci na napreze¬ nia okresowe.Przy tym szybkosc narastania impulsu mecha¬ nicznego powinna zapewniac szybkosc odksztalcenia twardego osadu wieksza od szybkosci relaksacji osadu, lecz mniejsza od wielkosci krytycznej pred¬ kosci udarowej dla materialu oczyszczanej po¬ wierzchni. Jezeli charakterystyka impulsu bedzie zawarta w przedzialach, ograniczonych wyzej wy¬ mienionymi warunkami, twardy osad 1, znajduja¬ cy sie na powierzchni 2 zostanie oddzielony, a po¬ wierzchnia konstrukcji nie zostanie uszkodzona w czasie przewidzianego okresu pracy.W charakterze impulsów energii wykorzystuje sie impulsy cisnienia, wytwarzane w cieczy, beda¬ cej dielektrykiem, zamknietej w komorze 7 (fig. 3).W czasie zachodzacego w tej komorze procesu tech¬ nologicznego z wymienionej cieczy wypada i osa¬ dza sie na sciankach komory osad 8.W celu utworzenia w komorze 7 impulsu cisnie¬ nia, zainstalowano przewód 9 z przerwa iskrowa 10, podlaczony przez generator (nie pokazany) impul¬ sów elektrycznych do sieci elektrycznej. Kiedy osad 8 przekroczy dopuszczalna wielkosc, przez wy¬ zej wspomniany przewód 9 z przerwa iskrowa 10 przepuszcza sie impuls elektryczny, jeden lub kilka przedzielonych pauzami. Przy osiagnieciu w im¬ pulsie napiecia elektrycznego, wystarczajacego do przebicia przerwy iskrowej 10, w cieczy powstaje impuls cisnienia, spowodowanego przebiciem przer¬ wy iskrowej. Ten impuls cisnienia wywoluje krót¬ kotrwale odksztalcenie, sprezyste scianek komory 7, w której znajduje sie ciecz. To odksztalcenie od¬ bywa sie z duzymi przyspieszeniami i szybkoscia¬ mi, jezeli jego charakterystyki spelniaja wyzej wy¬ mienione warunki, to osad zostanie oddzielony od scianek komory 7, a same scianki nie zostana uszkodzone w czasie przewidzianego okresu pracy.Przeplywajaca przez komore ciecz uniesie z soba rozdrobniony osad do wlasciwego osadnika (nie po¬ kazany). Nalezy zauwazyc, ze przy znacznej róznicy przekrojów komory 7 i doprowadzonych rurocia¬ gów 11 i 12, z uwagi na krótki czas trwania im¬ pulsu cisnienia i duza bezwladnosc cieczy — ciecz nie zdazy wyciec w rurociagi 11, 12, dlatego mozna sie obejsc bez urzadzen, zamykajacych te rurociagi na czas trwania impulsu.Ponizej przytoczone zostaly przyklady zewnetrz¬ nych oddzialywan na osad, powstajacy na po¬ wierzchni urzadzen w czasie procesów technolo¬ gicznych lub na maszynach w trakcie ich eksplo¬ atacji.Jesli osad tworzy wytracajaca sie z roztworu w trakcie procesu technologicznego sól kuchenna, dla zapewnienia oddzielania sie jej od scianek naczy¬ nia, celowym jest poddawac ja przed oddzialywa¬ niem impulsowym oddzialywaniu termicznemu, na 5 przyklad wyzarzaniu w celu usuniecia zawartej wilgoci, lub oziebieniu w celu zmniejszenia pla¬ stycznosci.Jesli osad stanowi nalepiona na plaska powierz¬ chnie maszyny w czasie eksploatacji gruba gab- 10 czasta warstwa ziemi o duzej zawartosci gliny, w celu ulatwienia oddzielania takiej warstwy ko¬ rzystne jest poddanie jej przed oddzialywaniem impulsywnym zageszczajacemu dzialaniu mecha¬ nicznemu, na przyklad przewalkowaniu. 15 Dla przyspieszenia wytracania siarki z roztworu w czasie procesu technologicznego i ulatwienia jej przyszlego oddzielania od scianek naczynia, celo¬ we jest podtrzymywanie podwyzszonego cisnienia wewnatrz naczynia. 20 W wypadku koniecznosci oddzielenia od scianek naczynia cienkiej warstwy kamienia kotlowego lub nagaru nalezy, w. celu umozliwienia oddzielania osadu sposobem impulsowym, uprzednio pokryc osad warstwa zywicy epoksydowej. 25 W celu umozliwienia oddzielania metoda impul¬ sowa cukru, osiadajacego w czasie procesu techno¬ logicznego, nalezy podzialac na osad spirytusem.W celu umozliwienia oddzielenia kleju epoksydo¬ wego, nalezy podzialac na klej jeszcze w czasie 30 jego krzepniecia utwardzaczem, co mu nada wiek¬ sza kruchosc.W celu umozliwienia oddzielania impulsowego na¬ lepionych na sciankach kawalków wegla lub trocin w czasie mrozu, celowe jest polanie ich woda, któ¬ ra zamarznie i utworzy gruba zwarta warstwe osa¬ du, dobrze poddajaca sie oddzielaniu metoda im¬ pulsowa.Przykladem koniecznosci wykorzystania instalo- JA wanego zawczasu metalowego zbrojenia jest od- 40 dzielanie resztek wegla lub cementu ze scianek drewnianych wagonów.Przykladem osadów, które poddaja sie oddziela¬ niu bez uprzedniego zewnetrznego oddzialywania, 45 moze byc oddzielanie dostatecznie grubych warstw kamienia kotlowego, nagaru, cementu z metalowych powierzchni konstrukcji. 35 50 PL PL

Claims (10)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób oddzielania osadów od powierzchni konstrukcji, zwlaszcza osadów tworzacych sie na nich w czasie procesu technologicznego lub eks- 55 ploatacji konstrukcji, poprzez sprezyste odksztalca¬ nie powierzchni w strefie oczyszczania, znamienny tym, ze poprzez zewnetrzne oddzialywanie natu¬ ralne badz wymuszone zmniejsza sie adhezje mie¬ dzy osadem a materialem powierzchni do wartosci fio mniejszej od granicy wytrzymalosci tego materialu, a szybkosc relaksacji osadu obniza sie do wartosci mniejszej od krytycznej predkosci udarowej ma¬ terialu powierzchni, po czym realizuje sie sprezyste odksztalcenie powierzchni poprzez wzbudzanie w 65 niej pojedynczych mechanicznych impulsów, trwa-79160 10 jacych nie dluzej niz 0,01 sekundy, przedzielonych pauzami trwajacymi co najmniej 10 razy dluzej niz czas trwania mechanicznego impulsu, impulsa¬ mi energii pochodzacej z zewnetrznego zródla i przekazywanymi na dana powierzchnie poprzez czynnik posredni, przy czym przed pierwszym im¬ pulsem i w czasie pauz miedzy impulsami gromadzi sie energie dla otrzymania impulsu o mocy, wie¬ lokrotnie przewyzszajacej moc zródla energii, ko¬ niecznej dla otrzymania mechanicznego impulsu o amplitudzie, wystarczajacej do oddzielenia twarde¬ go osadu, lecz nie przekraczajacej wartosci, przy której mechaniczne naprezenia w konstrukcji osia¬ gaja granice wytrzymalosci na zmeczenie lub gra¬ nice wytrzymalosci na naprezenia okresowe i o szybkosci narastania impulsu zapewniajacej wiek¬ sza szybkosc narastania odksztalcenia, niz szybkosc relaksacji tego osadu, ale mniejsza niz wielkosc krytycznej predkosci udarowej materialu oczysz¬ czanej powierzchni.

2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w charakterze impulsów energii, pochodzacych z zewnetrznego zródla, przekazywanych oczyszczanej powierzchni, stosuje sie impulsy pola elektroma¬ gnetycznego, wzbudzajace poprzez indukcje wtórny prad elektryczny w metalowych czesciach oczysz¬ czanej powierzchni.

3. Sposób wedlug zastrz. 1 lub 2, znamienny tym, ze w charakterze impulsów energii, pochodzacych z zewnetrznego zródla, przekazywanych oczyszcza¬ nej powierzchni, stosuje sie impulsy cisnienia, wy¬ twarzane w cieczy wypelniajacej komore, wykona¬ na w ten sposób, ze co najmniej czesc jej scianek stanowi oczyszczana powierzchnia.

4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w charakterze zewnetrznego oddzialywania na osad 5 stosuje sie oddzialywanie termiczne, na przyklad wyzarzanie lub ochladzanie.

5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w charakterze zewnetrznego oddzialywania na osad stosuje sie mechaniczne utwardzanie, zageszczajace io dany osad.

6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w charakterze zewnetrznego oddzialywania na osad stosuje sie cisnienie zewnetrzne, powodujace re¬ krystalizacje osadu. u

7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze nanosi sie na osad przed wywolywaniem sprezy¬ stych odksztalcen dodatkowa warstwe substancji laczacej sie z osadem, w celu zwiekszenia jego grubosci. 20

8. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w charakterze zewnetrznego oddzialywania na osad stosuje sie substancje, które wstepuja z nim w re¬ akcje chemiczne lub tworza z nim twardy zwiazek.

9. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze 25 w charakterze zewnetrznego oddzialywania na osad stosuje sie ciecz, twardniejaca po naniesieniu jej na osad.

10. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze instaluje sie na oczyszczanej niemetalowej powierz- 30 chni metalowe zbrojenie, przed powstawaniem na niej osadu i usuwa sie je razem z osadem w trak¬ cie oddzialywania impulsowego.KI. 12g, 1/01 70160 MKP BOlj 1/00 FIC.1 li 5 FIG. 2 FI0.3 W.D.Kart. C/997/75, 115+15, A4 Cena 10 zl PL PL