PL79152B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL79152B1
PL79152B1 PL15936372A PL15936372A PL79152B1 PL 79152 B1 PL79152 B1 PL 79152B1 PL 15936372 A PL15936372 A PL 15936372A PL 15936372 A PL15936372 A PL 15936372A PL 79152 B1 PL79152 B1 PL 79152B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
substrate
magnetic
radiation
suspension
magnetic field
Prior art date
Application number
PL15936372A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Badische Anilin & Sodafabrik Ag 6700 Ludwigshafen
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Badische Anilin & Sodafabrik Ag 6700 Ludwigshafen filed Critical Badische Anilin & Sodafabrik Ag 6700 Ludwigshafen
Publication of PL79152B1 publication Critical patent/PL79152B1/pl

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/842Coating a support with a liquid magnetic dispersion
    • G11B5/845Coating a support with a liquid magnetic dispersion in a magnetic field

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Hard Magnetic Materials (AREA)

Description

Uprawniony z patentu: Badische Anilin Soda-Fabrik, Ludwigshafen (Re¬ publika Federalna Niemiec) Sposób wytwarzania nosnika zapisu magnetycznego oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania nosnika zapisu magnetycznego, wedlug którego plynna zawiesine magnetyczna, zlozona z anizo- tropowych czastek magnetycznych w spoiwie i e- wentualnie rozpuszczalniku nanosi sie na niemag- 5 nesowalne, ruchome podloza, na przyklad tasme, po czym czastki magnetyczne orientuje sie w kie¬ runkach równoleglym do powierzchni podloza a plynna zawiesine magnetyczna suszy sie w celu utrwalenia polozenia czastek magnetycznych. 10 Wiadomo, ze wlasciwosci nosników zapisu magne¬ tycznego, sluzacych do rejestrowania danych cyfro¬ wych, sygnalów wizji i fonii, mozna polepszyc, je¬ zeli magnesowalnym czastkom, które zwlaszcza przy stosowaniu dwutlenku chromu i tlenku zela- 15 / za trójwartosciowego typu gamma maja ksztalt igiel, nada sie orientacje wedlug najkorzystniejsze¬ go kierunku magnesowania.Igloksztaltne czastki orientuje sie w cieklej za¬ wiesinie ich dluzszymi osiami, które równoczesnie 20 okreslaja najkorzystniejszy kierunek magnesowa¬ nia (jednoosiowa anizotropia ksztaltu), równolegle do podloza za pomoca jednorodnego pola magne¬ tycznego w urzadzeniu dokonujacym zapisu. Jedno¬ rodne pole magnetyczne jest polem stalym wytwa- 05 rzanym przez magnes trwaly lub elektromagnes za¬ silany pradem stalym, przy czym linie pola magne¬ tycznego przebiegaja równolegle do kierunku zapi¬ su i do powierzchni podloza. Kierunek zapisu jest, na przyklad w przypadku zapisu dzwieku kierun- 30 2 kiem wzdluznym tasmowego nosnika, a przy nie¬ których sygnalach telewizyjnych kierunkiem po¬ przecznym.Orientacja czastek powoduje, zwiekszenie magne¬ tyzacji resztkowej w kierunku najlatwiejszego ma¬ gnesowania, nadanym przez pole orientujace. Do¬ konanie orientacji zwieksza czulosc zapisu. Ponad¬ to napiecie odtwarzania przy zadanym wspólczyn¬ niku znieksztalcen mozna znacznie zwiekszyc, pod¬ czas gdy szumy pozostana w przyblizeniu stale, co daje zysk na dynamice. Przy zapisie z nasyceniem, stosowanym na przyklad przy rejestracji danych cyfrowych, mozna równiez zwiekszyc napiecie od¬ twarzania.Po dokonaniu orientacji magnesowalne czastki magnetyczne musza byc utrzymywane mechanicz¬ nie w polozeniach nadanych im przez pole orien¬ tujace, co zachodzi na przyklad w procesie suszenia.Ze spoiwa, w którym sa zawieszone czastki ma¬ gnetyczne usuwa sie rozpuszczalnik, stosuje sie re¬ akcje powodujaca utwardzanie spoiwa.Wedlug podanego w patencie Stanów Zjednoczo¬ nych Nr 2 711 901, sposobu dokonywania orientacji, tasmowe podloze pokryte ciekla zawiesina czastek magnetycznych, przeprowadza sie ze stala predkos¬ cia przez przestrzennie ograniczone jednorodne po¬ le magnetyczne, wytwarzane przez dwa magnesy stale skierowane do siebie biegunami tego samego znaku. Zawarte w zawiesinie iglowe czastki magne¬ sowalne, zostaja zorientowane swymi kierunkami 79152 ./3 najlatwiejszego magnesowania równolegle do kie¬ runku zapisu i do powierzchni nosnika. Po wyjsciu z pola orientujacego, polozenie czastek magnetycz¬ nych jest utrwalone przez konwekcyjne suszenie zawiesiny. Przy stosowaniu tego znanego sposobu, pomiedzy procesem orientacji a procesem suszenia, czesc czastek magnetycznych traci nadane im ukie¬ runkowanie, co powodowane jest dzialaniem niepo¬ zadanych skladowych pola orientujacego lub tez wlasciwoscia czastek, podlegajaca na sklonnosci do tworzenia aglomeratów. Przy stosowaniu powoli zanikajacego pola orientujacego zjawisko to, mozna nieco ograniczyc.W znanym sposobie suszenia, tasmowe podloze z nalozona plynna zawiesina przemieszcza sie przez suszarke, w której ogrzane powietrze odprowadza rozpuszczalnik ze spoiwa, lub tez powoduje sie re¬ akcje utwardzania spoiwa. Przy tym konwekcyjnym sposobie suszenia, odcinek na którym dokonuje sie suszenia w zaleznosci od konstrukcji suszarki, od wlasciwosci i grubosci warstwy zawiesiny oraz od predkosci przeplywu, wynosi przynajmniej kilka metrów, co wymaga duzych i kosztownych kon¬ strukcji. Ponadto przy szybkim suszeniu nastepuje najpierw wysuszenie powierzchni warstwy, przez co powstaje naskórek, który jest powodem pózniej¬ szej chropowatosci powierzchni tasmy.Z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Nr 2769 359 znany jest ponadto sposób i urzadzenie do wytwarzania tasmy magnetycznej, w którym pokry¬ ta plynna zawiesina tasme za pomoca urzadzenia rozwijajacego i zwijajacego przeprowadza sie przez zespól suszacy, któremu przyporzadkowany jest ze¬ spól magnetyczny. W tym sposobie zespól magne¬ tyczny jest umieszczony pomiedzy urzadzeniem na¬ kladajacym zawiesine a zespolem suszacym, tez w ostatnim odcinku urzadzenia suszacego lub czescio¬ wo wewnatrz a czesciowo na zewnatrz ostatniego odcinka suszenia. Orientacja czastek magnetycz¬ nych w plynnej zawiesinie nastepuje za zespolem nakladajacym zawiesine, zanim zostanie utrwalone polozenie czastek przez wysuszenie. Urzadzenie roz¬ wijajace i urzadzenie nawijajace wywieraja przy tym na prowadzona tasme podloza sily naciagu w taki sposób, by ruch tasmy ulatwil orientacje cza¬ stek magnetycznych. Ruch taki z dodatkowo wyste¬ pujacymi silami naciagu jest jednak przy wytwa¬ rzaniu nosnika zapisu magnetycznego bardzo szkod¬ liwy. Sily naciagu wywierane na tasme podloza powoduja przy obecnie stosowanych cienkich foliach podloza skrzywienia mechaniczne, które sa tym wieksze im wyzsza jest temperatura suszenia. Tas¬ my pokryte, które ulegly wykrzywieniu, nie moga juz byc stosowane jako nosnik zapisu magnetycz¬ nego.Zespoly magnetyczne wytwarzajace pole orientu¬ jace sa wykonane jako sztabkowe lub podkowiaste magnesy trwale albo jako elektromagnesy. Jezeli magnesowalna warstwa jest usytuowana na górnej stronie tasmy podlozowej, to magnesy sa umiesz¬ czone pod tasma. Przy stosowaniu magnesów o wy¬ mienianych ksztaltach uzyskiwane jest slabe dzia¬ lanie orientujace na skutek ustania orientacji po wyjsciu tasmy spod magnesu, a ponadto tego ro¬ dzaju magnesy umieszczone niesymetrycznie do 152 4 plaszczyzny tasmy powoduja niepozadany efekt we- lurowy. Efekt welurowy oznacza, ze sygnaly o da¬ nej amplitudzie, zapisane przy przeciwnie skiero¬ wanym ruchu tasmy daja sygnaly odczytu o innej 5 amplitudzie.Cechy konstrukcyjne urzadzenia suszacego w przy¬ toczonym opisie patentowym nie zostaly podane, wspomniano jedynie, ze proces suszenia zaczyna sie juz w temperaturze pokojowej a wlasciwie susze- io nie mozna przeprowadzac na przyklad za pomoca cieplego powietrza, promieniowania zarówek elek¬ trycznych lub lamp podczerwieni.Celem wynalazku jest unikniecie wad znanych sposobów wytwarzania nosników zapisu magnetycz- 15 nego, zwlaszcza tasmy magnetycznej a zadaniem wynalazku jest stworzenie sposobu i urzadzenia, które znacznie ulepszy warunki mechaniczne i wlas¬ nosci rejestrowania sygnalów na nosniku zapisu magnetycznego, przy czym samo wytwarzanie be- 20 dzie latwiejsze i ekonomiczniejsze.Zadanie to rozwiazano wedlug wynalazku dzieki temu, ze sposób wytwarzania nosnika zapisu ma¬ gnetycznego przez nanoszenie cieklej zawiesiny ma¬ gnetycznej na niemagnesowalne ruchome podloze, 25 na przyklad na tasme, zorientowanie magnetycznie anizotropowych czastek w zawiesinie w kierunku równoleglym do powierzchni podloza i suszenie za¬ wiesiny magnetycznej w celu utrwalenia polozenia czastek magnetycznych charakteryzuje sie tym, ze so podloze z jeszcze nieutwardzona zawiesina magne¬ tyczna przeprowadza sie przez jednorodne, stale lub przemienne pole magnetyczne, którego linie pola przebiegaja równolegle do powierzchni, a suszenie przeprowadza sie przez pochlanianie promieniowa- 35 nia elektromagnetycznego o dlugosci fali w zakre¬ sie 0,1—11 \im lub 1—100 cm.Sposób wedlug wynalazku ma nastepujace zalety.Czas suszenia, oraz odcinek suszenia jest znacznie skrócony a energia potrzebna do suszenia nie jest 40 jak dotychczas doprowadzana przy pomocy gora¬ cego powietrza jak w suszeniu konwekcyjnym lecz przez promieniowanie elektromagnetyczne, przy czym, przy takim suszeniu cieplo powstaje przez pochlanianie promieniowania w suszonej warstwie. 45 Promieniowanie elektromagnetyczne moze przy tym zostac zogniskowane lub rozogniskowane na zada¬ nej odpowiednio malej plaszczyznie. Zakres dlu¬ gosci fal zródla promieniowania wybiera sie tak, aby cieplo wytwarzane przez pochlanianie powsta- 50 lo tylko w suszonej warstwie. W zakresie stoso¬ wanych dlugosci fal, wspólczynnik absorbcji i wspólczynnik odbicia niemagnesowalnego podlo¬ za, sa pomijalnie male. Doprowadzanie energii pro¬ mieniowania do suszonej warstwy nastepuje przez 55 podloze, tak, ze warstwa magnetyczna zaczyna schnac od powierzchni podloza bez znacznego roz¬ grzania tego podloza i bez powstawania naskórka wystepujacego na powierzchni warstwy magnetycz¬ nej przy szybkim suszeniu konwekcyjnym. W przy- co padku bardzo cienkich warstw promieniowanie mo¬ ze byc doprowadzane równiez z drugiej strony warstwy magnetycznej. Korzystnie suszenie war¬ stwy magnetycznej zawiesiny przeprowadza sie we¬ dlug wynalazku, wewnatrz lub wewnatrz oraz na 65 zewnatrz pola magnetycznego. Daje to korzystna *79 5 mozliwosc regulacji stopnia wysuszenia zawiesiny zaleznie od rodzaju i lepkosci spoiwa, od rodzaju i jakosci pigmentu magnetycznego oraz od rodzaju materialu podloza.Korzystne jest równiez w niektórych przypadkach gdy warstwe na calej jej grubosci nie suszy sie w jednej operacji lecz suszenie przeprowadza sie w kolejnych poziomych warstwach, usytuowanych równolegle do podloza.Urzadzenie od stosowania wedlug wynalazku spo¬ sobu wytwarzania nosnika zapisu magnetycznego sklada sie z zespolu nanoszacego ciekla zawiesine magnetyczna na magnesowalne podloze, korzystnie na tasme, z ukladu magnesów usytuowanego po- trzac w kierunku ruchu podloza, za urzadzeniem nanoszacym, tworzacych pole magnetyczne, którego linie przebiegaja równolegle do powierzchni zawie¬ siny, przez co magnetycznie anizotropowe czastki magnetyczne orientowane sa w kierunku równoleg¬ lym do powierzchni podloza, zespolu suszacego za¬ wiesine magnetyczna za pomoca którego ruchome jeszcze w zawiesinie czastki magnetyczne sa utrwa¬ lane w swoim polozeniu, a cala zawiesine mozna suszyc i utwardzic, charakteryzuje sie tym, ze zespól do wysylania promieni elektromagnetycznych o dlugosci fali w zakresie 0,1—11 \im lub 1—100 cm. jest tak umieszczony w stosunku do ukladu magne¬ tycznego, ze promieniowanie oddzialywuje na za¬ wiesine magnetyczna wewnatrz pola magnetyczne¬ go, którego linie przebiegaja równolegle do po¬ wierzchni podloza, przy czym czastki magnetyczne w swoim poprzednim polozeniu sa utrwalone przez pole magnetyczne az do nieruchliwosci w zawiesi¬ nie magnetycznej.• Urzadzenie wedlug wynalazku umozliwia dopro¬ wadzenie promieniowania elektromagnetycznego do zawiesiny magnetycznej za pomoca zasadniczo liniowego zródla promieniowania. Szczególnie ko¬ rzystne jest poza tym, gdy zródlo promieniowania jest usytuowane pod podlozem, jezeli na górnej stronie podloza umieszczona jest zawiesina czastek magnetycznych.Energia potrzebna do suszenia warstwy zawiesi¬ ny jest doprowadzana do niej poprzez podloze. Za¬ kres dlugosci fal wedlug wynalazku wynoszacy 0,1—11 jim wzglednie 1—100 cm, umozliwia dopa¬ sowanie promieniowania do materialu podloza tak, ze dostarczana energia jest tylko w bardzo malej czesci pochlaniana przez samo podloze, a zasadni¬ cza czesc promieniowania sluzy do równomiernego, szybkiego suszenia zawiesiny magnetycznej, przy czym nie wystepuje szkodliwe rozgrzewanie podlo¬ za. Dalsza zaleta polega na tym, ze przy stosowa¬ niu wynalazku, zwlaszcza przy umieszczeniu zródla promieniowania pod podlozem, na powierzchni za¬ wiesiny nie tworzy sie naskórek, jak to mialo miej¬ sce przy suszeniu konwekcyjnym. W przypadku su¬ szenia konwekcyjnego rozpuszczalnik z glebszych, jeszcze plynnych obszarów warstwy, musi przedy- fundowac przez naskórek, co przy szybkim susze¬ niu powoduje rozerwanie naskórka i chropowatosc powierzchni. Chropowatosc powierzchni jest po¬ wazna wada, tak przy zapisywaniu jak i odtwarza¬ niu sygnalów o malych dlugosciach fali.W dalszej korzystnej postaci wykonania urzadze- 152 6 nia wedlug wynalazku, promieniowanie jest odbi¬ jane za pomoca reflektora w kierunku podloza, zwlaszcza w postaci tasmy, i za pomoca urzadzenia kierujacego na przyklad falowodu, doprowadzane 5 jest do podloza i do zawiesiny magnetycznej, co umozliwia umieszczenie zródla promieniowania w znacznej odleglosci od podloza. Z drugiej strony takie doprowadzenie energii zwiazane jest z bardzo mala strata energii, tak, ze wiekszosc energii jest 10 zuzywana do suszenia absorpcyjnego. Równiez ko¬ rzystnym rozwiazaniem urzadzenia wedlug wyna¬ lazku jest zastosowanie w przyblizeniu punktowe¬ go zródla silnie spójnego promieniowania, wysyla¬ jacego fale plaskie, przy czym promieniowanie to 15 jest za pomoca mechanicznego lub elektronicznego ukladu odchylajacego rzucane na poprzecznie do kierunku ruchu tasmy przebiegajaca sciezke na za¬ wiesinie magnetycznej. Umozliwia to umieszczenie zródla promieniowania w znacznej odleglosci od 20 pokrytego podloza przez co uzyskuje sie skuteczne suszenie nawet w przypadku uzycia niewielkich zespolów urzadzen powodujacych orientacje czastek magnetycznych.Wedlug wynalazku jednorodne pole magnetycz- 25 ne sluzace do orientacji czastek wytwarzane jest przez dwa lub wiecej magnesów trwalych, przy czym magnesy sa umieszczone pod oraz nad tasma i zwrócone jednakowymi biegunami ku sobie, a wzdluz kierunku ruchu tasmy magnesy sa umiesz- 30 czone obok siebie naprzemiennie biegunami rózne¬ go znaku. Zamiast magnesów trwalych moga byc w takim samym ukladzie, stosowane elektromag¬ nesy. Przy malych predkosciach nalewania zawie¬ siny magnetycznej nad i pod podlozem moga byc 35 nawet umieszczone tylko dwa magnesy trwale lub elektromagnesy, skierowane do siebie biegunami róznego znaku. Przy takich ukladach magnetycz¬ nych, orientacje czastek magnetycznych uzyskuje sie przy bardzo malych kosztach. 40 W dalszym korzystnym przykladzie wykonania urzadzenia wedlug wynalazku jednorodne pole ma¬ gnetyczne wytwarzane jest przez pare cewek Hel- moholtza. Jednorodne pole magnetyczne tworzone jest przez dwie usytuowane wspólosiowo, jednako- 45 wej wielkosci, kolowe cewki, przy czym odstep pomiedzy cewkami jest równy sredniemu promie¬ niowaniu cewki. W srodku, pomiedzy obiema cew¬ kami, pole magnetyczne przebiega równolegle od osi obrotu wspólosiowo umieszczonych cewek. Nos- 50 nik zapisu magnetycznego, którego iglowe, magne¬ sowalne czastki powinny zostac zorientowane w kierunku wzdluznym, równolegle do powierzchni tasmowego podloza, prowadzony jest równolegle do linii pola magnetycznego. Taki uklad cewek za- 55 pewnia wytworzenie bez trudnosci jednorodnego pola magnetycznego i zorientowanie czastek magne¬ tycznych.W dalszym szczególnie korzystnym przykladzie wykonania urzadzenia wedlug wynalazku, liniowe 60 zródlo promieniowania dziala w prostopadlej do powierzchni podloza plaszczyznie symetrii pary ce¬ wek Helmholtza lub podobnie jak cewki Helm- holtza dzialajacego ukladu cewek. Uzyskuje sie przy tym te zalete, ze suszenie nastepuje w tym 65 samym polu magnetycznym, co orientacja czastek,79152 7 8 tak ze czastki magnetyczne sa utrwalane w swym polozeniu bezposrednio po ich orientacji i uniemoz¬ liwiona jest utrata orientacji. Jak stwierdzono, juz zorientowane przez pole magnetyczne czastki traca swa orientacje w bardzo krótkim czasie na przy¬ klad juz po 10 ms. Polaczenie procesu orientacji z procesem suszenia mozna zastosowac równiez przy uzyciu innych, podobnych do opisanych wyzej ukla¬ dów magnesów trwalych i elektromagnesów. W przypadku wiekszej predkosci pokrywania podloza zawiesina i przy wiekszych grubosciach warstwy zawiesiny mozna wedlug wynalazku stosowac kilka polaczonych kolejno urzadzen zlozonych z zespolu wytwarzajacego pole magnetyczne i ze zródla pro¬ mieniowania.Dalszy korzystny przyklad rozwiazania wynalazku uzyskano przez to, ze zródlo promieniowania, po¬ suwajace sie w kierunku ruchu podloza, jest usy¬ tuowane przed magnesem orientujacym a zawiesi¬ na jest czesciowo suszona jeszcze przed dokonaniem orientacji. Ostateczne suszenie nastepnie przepro¬ wadza sie po dokonaniu orientacji w polu orientu¬ jacym lub za nim.Stosowanie sposobu i urzadzenia wedlug wyna¬ lazku okazalo sie szczególnie korzystne przy wy¬ twarzaniu tasm magnetycznych z dwutlenkiem chromu. Czastki dwutlenku chromu maja w stosun¬ ku do czastek tlenku zelazowego typu gamma, bar¬ dziej równomierne ksztalty i gladsza powierzchnie, na skutek czego daja sie latwiej orientowac. Po wyjsciu z pola magnetycznego traca one szybko nadana orientacje jezeli ich polozenie nie jest utrwalone przez wysuszenie. W stosunku do zna¬ nych sposobów wytwarzania, tasmy magnetyczne z dwutlenku chromu, które sposobem wedlug wy¬ nalazku zostaly zorientowane w jednorodnym polu magnetycznym i wysuszone, maja wspólczynnik orientacji o 50 do 75% wiekszy. Jednak równiez w przypadku tasm z tlenku zelazowego typu gam¬ ma osiaga sie zwiekszenie wspólczynnika orien¬ tacji o 5—10°/o. Wynalazek nadaje sie równiez do korzystnego wykorzystania przy wytwarzaniu tarcz magnetycznych, plyt, kart oraz wydrazonych cy¬ lindrów magnetycznych.Przy wytwarzaniu wedlug wynalazku jednorod¬ nego pola magnetycznego za pomoca elektromagne¬ sów lub wspólosiowo usytuowanych cewek cylin¬ drycznych i przy suszeniu zawiesiny magnetycznej w polu orientujacym podobne korzystne dzialanie orientujac uzyskuje sie zarówno przy stosowaniu pola stalego jak i pola przemiennego.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przy¬ kladach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urzadzenie wedlug wynalazku w prze¬ kroju, fig. 2 liniowe zródlo promieniowania, któ¬ rego promieniowanie jest odbijane w kierunku warstwy zawiesiny magnetycznej, w przekroju, fig. 3 — urzadzenie do prowadzenia promieniowa¬ nia wykonane jako falowód w przekroju, fig. 4 — szczegól urzadzenia, w którym do suszenia uzyta jest energia promieniowania silnie spójnego, fig. 5 — urzadzenie, wyposazone w kilka zespolów ma¬ gnetycznych i kilka zródel promieniowania, fig. 6 — urzadzenie, w którym zawiesina magnetyczna jest suszona czesciowo przed dokonaniem orientacji czastek magnetycznych, fig. 7 — urzadzenie z wie¬ loma ukladami magnetycznymi do dokonywania orientacji i zródlami promieniowania do suszenia, "przy czym pole magnetyczne wytwarzane jest cze¬ sciowo przez bieguny magnesów trwalych i lub czesciowo przez bieguny elektromagnesów, a fig. 8 — urzadzenia, w którym orientacja i suszenie przeprowadzane jest w jednorodnym polu magne¬ tycznym dwóch biegunów magnetycznych.W urzadzeniu pokazanym na fig. 1, na tasmowe podloze 1 nakladana jest w sposób ciagly zawiesi¬ na 2 czastek magnetycznych, która nastepnie pod¬ dawana jest dzialaniu jednorodnego pola magne¬ tycznego a nastepnie suszona. Pokryte podloze 1 porusza sie ze stala predkoscia w kierunku X. Pole magnetyczne wytwarzane jest przez jednakowe cew¬ ki 3, 4, które dzialaja podobnie jak cewki Helm- holtza.W otoczeniu srodkowego punktu 5 pomiedzy obie¬ ma cewkami dziala pole jednorodnie skierowane, którego linie pola magnetycznego przebiegaja rów¬ nolegle do plaszczyzny, wyznaczonej przez osie sy¬ metrii X i Y. W plaszczyznie tej prowadzone jest podloze z zawiesina 2 a igielkowe, magnesowalne czastki kierowane sa swymi dluzszymi osiami w kierunku X. Szerokosc prostokatnych szczelin 6 w cewkach 3, 4 jest dostosowana do wymiarów nosni¬ ka zapisu magnetycznego. Natezenie pola magne¬ tycznego w srodkowym punkcie 5 wynosi okolo 0,16 • 106 A/m. Pomiedzy cewki 3 i 4 doprowadzana jest energia do suszenia magnesowalnej warstwy 2 za pomoca promieniowania elektromagnetycznego.Jak to pokazano na fig. 2, promieniowanie 7 po¬ chodzace z umieszczonego w ognisku FI elipsoidy cylindrycznej, liniowego zródla 8, promieniowania 7 jest skupiane przez eliptyczny reflektor 9 w ogni¬ sku F2. Dlugosc fali promieniowania jest tak do¬ brana, ze suszona warstwa ogrzewa sie przez ab- sorbcje ale promieniowanie nie oddzialywuje na tasmowe podloze 1 ani przez absorbcje ani przez odbicie. Dlugosc odcinka suszenia L, a wiec czas suszenia zmienia sie przez dobór odleglosci pomie¬ dzy ogniskiem F2 a warstwa 2 przy odpowiednim doborze mocy promieniowania.Doswiadczalnie sposobem tym wysuszono nanie¬ siona na folie poliesterynowa zawiesine dwutlenku chromu lub tlenku zelaza o grubosci warstwy 5 ^m, przy predkosci 8 m/min przesuwu podloza, dlugosc odcinka suszenia wyniosla L=4 cm. Dla takich sa¬ mych warunków doswiadczenia przy dotychczaso¬ wych sposobach suszenia konwekcyjnego dlugosc odcinka suszenia wynosi w przyblizeniu 500 cm.Rozpuszczalnik usuwany podczas suszenia w posta¬ ci gazowej jest, przy zachowaniu obowiazujacych przepisów bezpieczenstwa, odprowadzany przy fa¬ lowodzie 10 miedzy sciankami 15. Jako zródlo energii sluzy liniowa zarówka wolframowa haloge¬ nowa, emitujaca w zakresie dlugosci fal X=od 0,4 do 6nm. W tym zakresie dlugosci fal, folia polie¬ sterynowa pochlania mniej niz 1% mocy. Z takim samym wynikiem mozna stosowac równiez zródla promieniowania duzej mocy, których promieniowa¬ nie lezy w zakresie od A.=0,1 do 0,4 \im lub A,=6 do 11 |im.Na fig. 3 pokazano jak promieniowanie 7 linio- 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 +9 79152 10 wego zródla promieniowania 8 odbijane jest przez reflektor 9 i wprowadzane w falowód 10 o naj¬ mniejszym przekroju. Falowód 10 jest wykonany z materialu niemagnetycznego i ma powierzchnie wewnetrzne odbijajace promieniowanie 7. Jezeli cieplo w suszonej warstwie magnesowalnej, ma byc wytwarzane przez ferromagnetyczna absorbcje re¬ zonansowa, to zródlo musi emitowac fale, które leza w zakresie wysokich lub najwyzszych czesto¬ tliwosci, zwlaszcza w zakresie dlugosci fal od 1 do 100 cm. Promieniowanie to moze byc prowa¬ dzone przez falowód. Jezeli zastosuje sie punktowe zródlo promieniowania, na przyklad laser C02, o dlugosci fali 10,5 |xm, który wypromieniowuje energie w postaci silnie spójnej fali plaskiej, to z falowodu 10 mozna zrezygnowac. Wytworzone wedlug ukladu z fig. 3 przez liniowe zródlo 8 i prowadzone przez falowód 10 promieniowanie 7 doprowadzane jest do jak to przedstawia fig. 2 do magnesowalnej warstwy 2 w obszarze jednorodne¬ go pola magnetycznego 5.Jak pokazano na fig. 4, strumien energii 12 za pomoca wirujacego, cylindrycznego, wielokrawe- dziowego zwierciadla 11 jest skierowany na suszo¬ na warstwe 2, na której wytwarza sie wtedy po¬ przeczna do kierunku X ruchu podloza, na przyklad piloksztaltna sciezke suszenia.Przy specjalnych rodzajach zawiesiny, duzych grubosciach warstw i duzych predkosciach ruchu podloza, proces orientacji materialu magnetycznego i proces suszenia moze byc jak to przedstawia fig. 5 rozlozony na kilka polaczonych szeregowo ce¬ wek 3 3N, 4 ... 4N i ukladów promieniuja¬ cych 8, ... 8N.Polepszenie dzialania orientujacego material ma¬ gnetyczny mozna równiez osiagnac, gdy jak to po¬ kazano na fig. 6 wytworzone przez liniowe zród¬ lo 8 promieniowanie elektromagnetyczne 7 jest do¬ prowadzane do suszonej warstwy 2 jeszcze przed procesem orientowania materialu magnetycznego.Ciekla zawiesina jest wtedy suszona tylko nie¬ znacznie przez ogrzanie na skutek pochlaniania promieniowania, lepkosc zawiesiny niewiele przy- tem wzrasta tak, ze czastki magnetyczne w war¬ stwie 2 daja sie jeszcze orientowac wzdluz linii pola magnetycznego magnesu 13, którym jest na przyklad magnes trwaly lub elektromagnes. Po wyjsciu tasmy z pola orientujacego do potem na¬ stepujacego urzadzenia suszacego, mechaniczne od¬ dzialywanie orientujace nie jest juz mozliwe. Cal¬ kowite wysuszenie moze równiez jak pokazano na fig. 1 nastepowac w polu magnetycznym 5, w któ¬ rym ma miejsce orientowanie czastek magnetycz¬ nych.Jezeli promieniowanie, jak pokazano na fig. 6, jest doprowadzane do suszonej w warstwie 2 za¬ wiesiny od strony folii, przed dokonaniem orien¬ tacji magnetycznej to wówczas przez stopien wysu¬ szenia mozna wplywac na zdolnosc do orientacji magnesowalnych czastek w róznych obszarach gru¬ bosci warstwy. Jezeli warstwa 2 zawiesiny przed dojsciem do magnesów orientujacych 3 jest juz wysuszona w obszarze zwróconym do powierzchni podloza 1, ale powierzchnia warstwy jest jeszcze w stanie cieklym, wówczas pole magnetyczne orien¬ tuje tylko te czastki magnesowalne, które sa usy¬ tuowane w fazie plynnej na powierzchni. Mozna przez to wplywac na warunki czestotliwosciowe magnesowalnej warstwy zapisu. 5 Urzadzenie pokazane w przekroju na fig. 7, slu¬ zace do wytwarzania w przyblizeniu jednorodnego pola orientujacego ma trwale magnesy 16 lub jak pokazano na prawej czesci rysunku, elektromagne¬ sy 17 wytwarzajace jednakowego rodzaju pole 10 orientujace. Magnesy sa usytuowane naprzeciw sie¬ bie biegunami jednoimiennymi, natomiast w kie¬ runku ruchu tasmy podloza, magnesy sa umiesz¬ czone przemiennie biegunami róznoimiennymi. W obszarze w przyblizeniu jednorodnego pola magne- 15 tycznego 5 energia potrzebna do suszenia warstwy 2 jest doprowadzana w postaci promieniowania elektromagnetycznego 7. Najmniejsza jednostka sklada sie z dwóch par magnesów, pomiedzy któ¬ rymi umieszcza sie zródlo promieniowania. 20 Przy malych predkosciach transportu pokrytego podloza, na przyklad do 10 m/min, mozna jak to przedstawia fig. 8 stosowac równiez umieszczone niesymetrycznie wzgledem tasmy podloza 1 magne¬ sy trwale 16 lub odpowiednio dzialajace elektro- 25 magnesy.Strefa suszenia przez promieniowanie elektroma¬ gnetyczne 7 musi miescic sie w obszarze w przy¬ blizeniu jednorodnego pola orientujacego 5 tak, aby zorientowane czastki magnetyczne zostaly utrwalo- 30 ne w swym polozeniu. Polaczenie lancuchowe wiek¬ szej ilosci takich urzadzen do stopniowego suszenia w polu orientujacym nie jest celowe ze wzgledu na wystepujacy na gotowym nosniku zapisu ma¬ gnetycznego efekt welurowy. PL PL

Claims (16)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania nosnika zapisu magne- 40 tycznego polegajacy na nanoszeniu cieklej zawiesi¬ ny magnetycznej na niemagnesowalne, ruchome podloze, korzystnie na tasme, zorientowaniu ma¬ gnetycznie anizotropowych czastek w zawiesinie w kierunku równoleglym do powierzchni podloza 45 i suszeniu zawiesiny magnetycznej w celu utrwale¬ nia polozenia czastek magnetycznych, znamienny tym, ze podloze z jeszcze nie utwardzona zawiesina magnetyczna przeprowadza sie przez jednorodne, stale lub przemienne pole magnetyczne, którego 50 linie pola przebiegaja równolegle do powierzchni podloza, a suszenie przeprowadza sie przez pochla¬ nianie przez podloze promieniowania elektromagne¬ tycznego o dlugosci fali w zakresie 0,1—11 \im lub 1—100 cm. 55
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze suszenie zawiesiny magnetycznej wykonuje sie we¬ wnatrz lub wewnatrz oraz na zewnatrz pola ma¬ gnetycznego.
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze 60 suszenie zawiesiny magnetycznej wykonuje sie ko¬ lejno w warstwach równoleglych do powierzchni podloza.
4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze orientowanie czastek magnetycznych przez linie po- 65 la magnetycznego w orientujacym jednorodnym po-/ 79152 11 1* lu magnetycznym wykonuje sie albo w kierunku ruchu podloza albo tez pod katem poprzecznie do tego kierunku, równolegle do powierzchni podloza.
5. Urzadzenie do stosowania sposobu wedlug zastrz. 1 skladajace sie z zespolu nanoszacego cie- ! kla zawiesine magnetyczna na niemagnesowalne podloze, korzystnie na tasme, z usytuowanego za ; zespolem nanoszacym ukladu magnesów tworzacych pole magnetyczne, którego linie przebiegaja równo¬ legle do powierzchni zawiesiny, przy czym magne¬ tycznie anizotropowe czastki magnetyczne oriento¬ wane sa w kierunku równoleglym do powierzchni podloza, z zespolu suszacego zawiesine magnetyczna za pomoca którego ruchome jeszcze w zawiesinie czastki magnetyczne sa utrwalane w swoim polo¬ zeniu, a cala zawiesina moze byc suszona i utwar¬ dzana, znamienne tym, ze zródlo promieniowa¬ nia (8) wysylajace promienie elektromagnetyczne o dlugosci fali w zakresie 0,1—ll^m lub 1—100 cm jest tak umieszczone w stosunku do ukladu magne¬ sów (3, 4), ze promieniowanie jest skierowane na zawiesine magnetyczna (2) wewnatrz pola magne¬ tycznego, którego linie sa równolegle do powierz¬ chni podloza (1), przy czym czastki magnetyczne w swoim poprzednim polozeniu sa utrwalone przez pole magnetyczne az do nieruchliwosci w zawiesi¬ nie magnetycznej (2).
6. Urzadzenie wedlug zastrz. 5, znamienne tym, ze zródlo promieniowania (8) jest liniowym zród¬ lem promieniowania.
7. Urzadzenie wedlug zastrz. 5, znamienne tym, \ ze zródlo promieniowania (8, 8N) jest umieszczone pod podlozem (1) tak, ze energia promieniowania ' przechodzi przez podloze (1) zanim dojdzie do war¬ stwy zawiesiny (2).
8. Urzadzenie wedlug zastrz. 5 znamienne tym, ze posiada reflektor (9) do odbijania promieniowa- i, nia w kierunku podloza (1) oraz posiada urzadze¬ nie (10) do kierowania promieniowania na podlo¬ ze (1) i zawiesine magnetyczna (2).
9. Urzadzenie wedlug zastrz. 5, znamienne tym, ze zawiera w przyblizeniu punktowe, wysylajace silnie spójne fale, zródlo promieniowania, przy czym promieniowanie z tego zródla jest przez uklad od¬ chylania (11) rzucane na poprzecznie do kierunku ruchu podloza przebiegajaca sciezke zapisu na za¬ wiesinie magnetycznej (2).
10. Urzadzenie wedlug zastrz. 5, znamienne tym, 5 ze jednorodne, magnetyczne pole orientujace wy¬ twarzane jest za pomoca magnesów trwalych (16).
11. Urzadzenie wedlug zastrz. 5, znamienne tym, ze jednorodne, orientujace pole magnetyczne wy¬ twarzane jest za pomoca elektromagnesów (17) lub cewek cylindrycznych (3, 4).
12. Urzadzenie wedlug zastrz. 10, znamienne tym, \ ze pod i nad podlozem (1) umieszczone sa dwa lub | wiecej bieguny magnesów (16, 17) o jednakowych znakach naprzeciw siebie i o zmieniajacych sie na¬ przemiennie znakach biegunów w kierunku ru¬ chu (X) podloza (1).
13. Urzadzenie wedlug zastrz. 10, znamienne tym, ze dwa magnesy (16, 17) sa umieszczone nad lub pod podlozem (1) ze znakami biegunów zmieniaja¬ cymi sie w kierunku ruchu podloza(1). i
14. Urzadzenie wedlug zastrz. 11, znamienne tym, ze zawiera dwie lub wiecej cewek cylindrycz- j nych (3, 4), umieszczonych w okreslonym odstepie I od siebie wspólosiowo w kierunku ruchu podloza, ' stanowiacych pare cewek Helmholtza, lub podob¬ nych do cewek Helmoholtza zdolnych do wytwa¬ rzania jednorodnego orientujacego pola magnetycz¬ nego.
15. Urzadzenie wedlug zastrz. 5—14, znamienne tym, ze energia promieniowania jest doprowadzana do suszonej warstwy (2) w obszarze jednorodnego orientujacego pola magnetycznego (5) pomiedzy bie¬ gunami (16, 17) magnesów trwalych lub elektro¬ magnesów albo pomiedzy wspólosiowo umieszczo¬ nymi cewkami cylindrycznymi (3, 4) zespolów orien¬ tujacych w jednej lub kilku plaszczyznach sy¬ metrii normalnych do powierzchni podloza (1).
16. Urzadzenie wedlug zastrz. 5—15, znamienne tym, ze zródla promieniowania (8 8N) sa wzgle¬ dem kierunku ruchu podloza (1) tak umieszczone, ze zawiesina magnetyczna (2) jest suszona przed lub czesciowo wewnatrz orientujacego pola magne¬ tycznego (5), albo czesciowo wewnatrz i po wyj¬ sciu z tego pola. 15 20 25 80 35KI. 421*5/84 70152 MKP Gllb 5/84 :fr^nMIHH^- O) O) uli 4 ^1 O) A, - " O)KI. 42t,1,5/84 79152 MKP Gllb 5/84 v//r/7r^v}W9. mi El9l W.D.Kart. C/997/75, 105 + 15, A4 Cena 10 zl PL PL
PL15936372A 1971-12-09 1972-12-07 PL79152B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19712161083 DE2161083A1 (de) 1971-12-09 1971-12-09 Verfahren und vorrichtung zur herstellung bandfoermiger magnetogrammtraeger

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL79152B1 true PL79152B1 (pl) 1975-06-30

Family

ID=5827499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL15936372A PL79152B1 (pl) 1971-12-09 1972-12-07

Country Status (9)

Country Link
JP (1) JPS4866402A (pl)
BR (1) BR7208674D0 (pl)
CA (1) CA988787A (pl)
DE (1) DE2161083A1 (pl)
FR (1) FR2162608A1 (pl)
GB (1) GB1416200A (pl)
IT (1) IT973973B (pl)
NL (1) NL7216641A (pl)
PL (1) PL79152B1 (pl)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52141612A (en) * 1976-05-20 1977-11-26 Hitachi Maxell Method of producing magnetic recording media
JPS5410205U (pl) * 1977-06-24 1979-01-23
DE2741341B2 (de) * 1977-09-14 1980-02-14 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur Herstellung von magnetischen Aufzeichnungsträgern
JPS56117336A (en) * 1980-02-19 1981-09-14 Sony Corp Manufacture of magnetic recording medium
JPS56119938A (en) * 1980-02-22 1981-09-19 Sony Corp Production of magnetic recording medium
DE3010873A1 (de) * 1980-03-21 1981-10-01 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Magnetisierungseinrichtung zur erzeugung einer magnetischen vorzugsrichtung in magnetischen aufzeichnungstraegern
JPS57113657U (pl) * 1980-12-29 1982-07-14
EP0094452A3 (en) * 1982-05-19 1986-01-02 International Business Machines Corporation Production of magnetic recording medium with vertically oriented acicular particles
US4678682A (en) * 1982-05-20 1987-07-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for producing magnetic recording medium
JPH06103530B2 (ja) * 1982-05-20 1994-12-14 富士写真フイルム株式会社 磁気記録媒体の製法
DE3308052A1 (de) * 1983-03-08 1984-09-13 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung eines magnetischen aufzeichnungsmaterials mit senkrechtausrichtung
JPH0656656B2 (ja) * 1983-10-03 1994-07-27 富士写真フイルム株式会社 磁気記録媒体の製造方法
JPS60103519A (ja) * 1983-11-10 1985-06-07 Berumateitsuku:Kk 磁気記録媒体の製造時におけるスム−ジング方法
JPS60129700A (ja) * 1983-12-16 1985-07-10 日新ハイボルテ−ジ株式会社 電子線照射装置
JPS61187125A (ja) * 1985-02-14 1986-08-20 Hitachi Ltd 磁気デイスクの磁場配向方法
JPS6292132A (ja) * 1985-10-18 1987-04-27 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
FR2162608A1 (pl) 1973-07-20
GB1416200A (en) 1975-12-03
IT973973B (it) 1974-06-10
NL7216641A (pl) 1973-06-13
BR7208674D0 (pt) 1973-09-27
DE2161083A1 (de) 1973-06-14
JPS4866402A (pl) 1973-09-12
CA988787A (en) 1976-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL79152B1 (pl)
US2711901A (en) Magnetic recording tape and method of making same
US2738383A (en) Method and apparatus for duplicating magnetic recordings and magnetic tape record members
US4518627A (en) Apparatus and method for disorienting magnetic particles in magnetic recording media
US4578280A (en) Process for the production of a magnetic recording material with perpendicular orientation
US5416664A (en) Degaussing technique
JP3625137B2 (ja) 磁気記録媒体の配向装置
US5204801A (en) Degaussing technique
NL8304477A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een magnetisch registratiemedium.
US4999217A (en) Process for producing magnetic recording medium
US3969765A (en) Device for the thermomagnetic recording of information
US4177442A (en) Production of magnetic media
JP7116966B2 (ja) 高速応答素子
JP2001006958A (ja) 磁石シートおよびその製造方法
US4642467A (en) Electron beam irradiation apparatus
JPS5894137A (ja) 磁気転写記録装置
US4451502A (en) Method for manufacturing magnetic recording medium
JPS5894136A (ja) 磁気転写記録装置
JPS5816276B2 (ja) ヒカリジキキロクホウシキ
US4861619A (en) Method for producing magnetic recording medium
JPS61267933A (ja) 磁気記録媒体の製造装置
JPS6341134B2 (pl)
JP3614530B2 (ja) 磁気記録媒体およびその製造方法
JPH02263323A (ja) 磁気記録媒体の製造装置
JPS6319933B2 (pl)