PL49884B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL49884B1
PL49884B1 PL105729A PL10572964A PL49884B1 PL 49884 B1 PL49884 B1 PL 49884B1 PL 105729 A PL105729 A PL 105729A PL 10572964 A PL10572964 A PL 10572964A PL 49884 B1 PL49884 B1 PL 49884B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
vinyl
polycinnamate
ketone
solvent
reaction
Prior art date
Application number
PL105729A
Other languages
English (en)
Inventor
Herbert Czichon mgr
Original Assignee
Zjednoczenie Przemyslu Graficznego
Filing date
Publication date
Application filed by Zjednoczenie Przemyslu Graficznego filed Critical Zjednoczenie Przemyslu Graficznego
Publication of PL49884B1 publication Critical patent/PL49884B1/pl

Links

Description

Opublikowano: 14.IX.1965 49884 KI. 39 c, 25/01 MKP C 08 f UKD M tBIBLlOTE Twórca wynalazku: mgr Herbert Czichon Wlasciciel patentu: Zjednoczenie Przemyslu Graficznego (Centralne La¬ boratorium Poligraficzne) Warszawa (Polska) Urzedu Patenl*w*gfc Sposób otrzymywania policynamonianu winylowego z polialkoholu winylowego i chlorku cynamoilu Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia policynamonianu winylowego z polialkoholu winylowego i chlorku cynamoilu.W przemysle poligraficznym stosuje sie blachy metalowe, np. cynkowe lub aluminowe, albo folie 5 z papieru czy sztucznych tworzyw, pokryte swiatlo¬ czula warstwa, która pod wplywem swiatla traci swa rozpuszczalnosc w wodzie wzglednie w innych rozpuszczalnikach. W sklad tych warstw swiatlo¬ czulych wchodzi makroczasteczkowa substan- 10 c j a, np. polialkohol winylowy, klej kostny, zela¬ tyna oraz dwuchromian amonowy. W czasie na¬ swietlania dwuchromian amonowy zostaje zredu¬ kowany do soli chromowych, które reaguja z sub¬ stancja makroczasteczkowa, dzieki czemu powstaje 15 zwiazek mniej rozpuszczalny lub zupelnie nieroz¬ puszczalny w pierwotnym rozpuszczalniku.Podczas przechowywania opisanych warstw ko¬ piowych zachodzi jednak i bez dzialania swiatla reakcja uboczna pomiedzy dwuchromianem amo- 2o nowym i substancja makroczasteczkowa pro¬ wadzaca równiez do powstawania nierozpuszczal¬ nego produktu. T? niepozadana reakcja zachodzi stosunkowo powoli, przy czym jej szybkosc zalezy od temperatury otoczenia. Na przyklad warstwa 25 kopiowa, przechowywana w temperaturze 20 °C, nie nadaje sie do uzycia juz po 24 godzinach. Z tych tez wzgledów nie mozna przygotowywac na zapas blach lub folii pokrytych warstwami swiatloczu¬ lymi ani np. wytwarzac ich w jednym, wyspecja- 30 2 lizowanym zakladzie przemyslowym w celu roz¬ sylania ich do poszczególnych zakladów poligra¬ ficznych.W celu umozliwienia otrzymywania trwalych warstw swiatloczulych, nie ulegajacych wspomnia¬ nym reakcjom ciemnicowym, proponowano szereg srodków. Bardzo dobrym srodkiem okazal sie tu policynamonian winylowy, którego znana metoda otrzymywania polega na kondensacji polialkoholu winylowego z chlorkiem cynamoilu w bezwodnym srodowisku pirydyny, pochlaniajacej wydzielajacy sie podczas reakcji chlorowodór. Metoda ta jest klopotliwa, trudno do kontrolowania i wymaga stosowania szczelnych naczyn reakcyjnych, dla unikniecia wplywu pary wodnej z powietrza na przebieg reakcji i dla zabezpieczenia personelu przed trujacymi parami pirydyny. Te trudnosci w otrzymywaniu policynamonianu winylowego sprawily, ze sposób przygotowywania warstw ko^ piowych z tym zwiazkiem nie przyjal sie pomimo innych zalet.Obecnie stwierdzono, ze reakcja kondensacji chlorku cynamoilu z polialkoholem winylowym, wbrew poprzednim pogladom, moze byc prowadzo¬ na szybko i z dobra wydajnoscia w srodowisku wodnym, a mianowicie jezeli zastosuje sie równiez dodatek organicznego rozpuszczalnika, w którym wytwarzajacy sie policynamonian winylu jest roz¬ puszczalny. Jako taki rozpuszczalnik najkorzyst¬ niej jest stosowac mieszanine weglowodoru, np. 4988449884 toluenu, benzenu lub ksylenu, z ketonem, np. ace¬ tonem lub ketonem metyloetylowym, zas jako sub¬ stancje wiazaca chlorowodór stosuje sie tu wodo¬ rotlenek sodowy.Zgodnie z wynalazkiem przygotowuje sie dwa roztwory, a mianowicie roztwór wodny, zawiera¬ jacy polialkohol winylowy i wodorotlenek sodowy oraz roztwór ketonowo-weglowodorowy, zawiera¬ jacy chlorek cynamoilu. Roztwór wodny chlodzi sie do temperatury ponizej 10 °C przy silnym mie¬ szaniu i dodaje don drugi roztwór, przy czym reak¬ cja moze byc prowadzona w otwartych naczyniach.Po okolo 90 minutach przerywa sie mieszanie i mieszanina reakcyjna rozdziela sie na dwie war¬ stwy. Warstwy te oddziela sie i z górnej warstwy ketonowo-weglowodorowej wydziela sie policyna- monian winylowy, wytracajac go duza iloscia wo¬ dy lub odparowujac rozpuszczalnik. Otrzymana zy¬ wice przemywa sie woda i po rozpuszczeniu w dioksanie lub innym rozpuszczalniku oraz po dodaniu znanych sensybilizatorów, rozszerzajacych zakres absorpcji swiatla, otrzymuje sie roztwory kopiowe do wyrobu trwalych warstw kopiowych do^ przygotowywania form drukowych.Policynamonian winylu mozna tez stosowac do do przygotowywania blach presensybilizowanych, otrzymywanych przez pokrywanie np. blachy cyn¬ kowej warstwa swiatloczula. Poniewaz zas war¬ stwy te nie ulegaja wspomnianym na wstepie reak¬ cjom ciemnicowym, przeto mozna je przygotowy- 10 20 wac centralnie i rozsylac do poszczególnych zakla¬ dów graficznych, co usprawnia znacznie ich prace.Poza tym sposób wedlug wynalazku, umozliwiaja¬ cy wytwarzanie policynamónianu winylu z dobra wydajnoscia i przy uzyciu nieskomplikowanych zabiegów, pozwala na rozszerzenie zastosowania tego zwiazku równiez i do innych celów, np. do wytwarzania fotoutwardzalnych lakierów, które ulegaja utwardzeniu pod wplywem swiatla. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób otrzymywania policynamónianu winylo¬ wego z polialkoholu winylowego i chlorku cyna¬ moilu, znamienny tym, ze na wodny roztwór po¬ lialkoholu winylowego z dodatkiem wodorotlenku sodowego dziala sie w temperaturze ponizej 10 °C chlorkiem cynamoilu, rozpuszczonym w mieszani¬ nie ketonu i weglowodoru, w której wytwarzaja¬ cy sie podczas reakcji policynamonian winylowy jest rozpuszczalny, zwlaszcza w mieszaninie tolue¬ nu lub benzenu wzglednie ksylenu z acetonem lub ketonem metyloetylowym, po czym warstwe keto- nowo-weglowodorowa oddziela sie od warstwy wodnej, wydziela z niej policynamonian winylowy przez wytracenie woda lub odparowanie rozpusz¬ czalnika i wyodrebniony policynamonian winylo¬ wy rozpuszcza w dioksanie lub innym rozpuszczal¬ niku. 30 Zaklady Kartograficzne, Wroclaw A/447, naklad 250 egz. PL
PL105729A 1964-09-15 PL49884B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL49884B1 true PL49884B1 (pl) 1965-06-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3750275T3 (de) Lackzusammensetzung und -anwendung.
DE69218817T2 (de) In wässriger Lösung entwickelbare, hochempfindliches Photopolymer enthaltende, Zusammensetzungen
DE2028903C3 (de) Lichtempfindliche Masse
DE2159908A1 (de) Lichtempfindliche Masse, insbesondere fur lhogrhisce Zwecke
DE2559718C2 (de) Verfahren zur kationischen Polymerisation von Epoxyharz
DE876838C (de) Verfahren zur Herstellung von nicht zusammenbackendem und erhaertendem Ammonnitrat
DE3853694T2 (de) Photolackzusammensetzung.
EP0291994A2 (de) Photoresistgemisch und hiermit hergestelltes Photoresistmaterial enthaltend ein Polymer blockkierten Imidgruppen, sowie hierfür geeignetes Maleinsäureimidmonomer
US2772310A (en) Aralkyl quaternary ammonium bases and salts
DE3889518T2 (de) Photopolymere.
DE69206980T2 (de) Wärme- und lichtempfindliches Aufzeichnungselement
DE69616847T2 (de) Lichtempfindliches Resistmaterial und Verfahren zur Herstellung von Vorrichtung unter Benutzung des lichtempfindlichen Resistmaterials
PL49884B1 (pl)
DE2833648A1 (de) Photohaertbare zusammensetzungen und haertungsverfahren
SE420249B (sv) Sett for behandling av en i en reningskrets i en kernreaktoranleggning anvend organisk jonbytarmassa
DE2125457A1 (de) Photopolymerisierbare Kunststoffmasse
DE1911999A1 (de) Fotoaufzeichnungsverfahren und Fotoaufzeichnungsblatt
EP0420827B1 (en) Aqueous base developable negative resist compositions
DE2229303A1 (de) Lichtempfindliche Masse
DE4109287A1 (de) Mikrokapseln und ihre verwendung
DE1544942A1 (de) Hochmolekulare Polycarbonate mit verbessertem Zug- und Biegemodul
JPS5498613A (en) Photosensitive composition
DE1923266B2 (de) Alpha-hydroxymethylbenzoinaether
DE2132063A1 (de) Photosensitive Zusammensetzungen und Materialien
DE1106181B (de) Verfahren zur Herstellung einer Kopierschicht fuer Flachdruckplatten aus Epoxyharzen