PL424592A1 - Sposób zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi oraz układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi - Google Patents
Sposób zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi oraz układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymiInfo
- Publication number
- PL424592A1 PL424592A1 PL424592A PL42459218A PL424592A1 PL 424592 A1 PL424592 A1 PL 424592A1 PL 424592 A PL424592 A PL 424592A PL 42459218 A PL42459218 A PL 42459218A PL 424592 A1 PL424592 A1 PL 424592A1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- vacuum
- precursor
- reactor
- supplying
- supply system
- Prior art date
Links
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title abstract 7
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 abstract 3
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 abstract 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 abstract 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 abstract 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Przedmiotem zgłoszenia jest sposób zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi polegający na tym, że prekursor dostarcza się do reaktora poprzez układ zasilania w pary, ogrzewany gradientowo na całej swojej długości, utrzymując w układzie zasilania oraz komorze głównej reaktora stabilne ciśnienie, przy czym stabilność ciśnienia uzyskuje się poprzez zastosowanie w układzie zasilania bocznego odciągu podciśnieniowego, przy czym stabilizację ciśnienia ocenia się na podstawie wskazań sond próżniowych mierzących ciśnienie (próżnię) w odcinku bocznego odciągu podciśnieniowego jak i reaktorze, przy czym przyjmuje się, że stabilizacja ciśnienia następuje w momencie gdy wskazania obu sond różnią się maksymalnie o 10%. Przedmiotem zgłoszenia jest także układ zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi, zawierający ampułę z prekursorem, ogrzewaną gradientowo linię dystrybucyjną charakteryzujący się tym, że zawiera stabilizowaną termicznie ampułę (1) z prekursorem, przyłączony do linii dystrybucyjnej boczny odciąg podciśnieniowy zawierający zawór trójdrożny (3), pompę próżniową (2) i sondę próżniową (4), oraz w zespół zaworu regulacyjnego (6) i przepływomierza (7) umieszczony pomiędzy ampułą (1), a zaworem trójdrożnym (3).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL424592A PL239633B1 (pl) | 2018-02-14 | 2018-02-14 | Układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL424592A PL239633B1 (pl) | 2018-02-14 | 2018-02-14 | Układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL424592A1 true PL424592A1 (pl) | 2019-08-26 |
| PL239633B1 PL239633B1 (pl) | 2021-12-20 |
Family
ID=67683631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL424592A PL239633B1 (pl) | 2018-02-14 | 2018-02-14 | Układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL239633B1 (pl) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4640221A (en) * | 1985-10-30 | 1987-02-03 | International Business Machines Corporation | Vacuum deposition system with improved mass flow control |
| JPS6335768A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-16 | Sharp Corp | 蒸着装置 |
| US6432205B1 (en) * | 1998-09-14 | 2002-08-13 | Genitech Co., Ltd. | Gas feeding system for chemical vapor deposition reactor and method of controlling the same |
| WO2007036997A1 (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-05 | Tadahiro Ohmi | 液体材料供給装置、液体材料供給装置のための制御方法 |
| CN103688339A (zh) * | 2011-07-22 | 2014-03-26 | 应用材料公司 | 用于ald/cvd工艺的反应物输送系统 |
| CN103797563A (zh) * | 2011-09-06 | 2014-05-14 | 株式会社富士金 | 具备原料浓度检测结构的原料气化供给装置 |
-
2018
- 2018-02-14 PL PL424592A patent/PL239633B1/pl unknown
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4640221A (en) * | 1985-10-30 | 1987-02-03 | International Business Machines Corporation | Vacuum deposition system with improved mass flow control |
| JPS6335768A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-16 | Sharp Corp | 蒸着装置 |
| US6432205B1 (en) * | 1998-09-14 | 2002-08-13 | Genitech Co., Ltd. | Gas feeding system for chemical vapor deposition reactor and method of controlling the same |
| WO2007036997A1 (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-05 | Tadahiro Ohmi | 液体材料供給装置、液体材料供給装置のための制御方法 |
| CN103688339A (zh) * | 2011-07-22 | 2014-03-26 | 应用材料公司 | 用于ald/cvd工艺的反应物输送系统 |
| CN103797563A (zh) * | 2011-09-06 | 2014-05-14 | 株式会社富士金 | 具备原料浓度检测结构的原料气化供给装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL239633B1 (pl) | 2021-12-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111947029B (zh) | 一种稳定的超临界二氧化碳供气系统和方法 | |
| SG10201802105UA (en) | Systems and methods for flow monitoring in a precursor vapor supply system of a substrate processing system | |
| CN110182924A (zh) | 全自动配氨加氨一体机装置及全自动配氨加氨方法 | |
| CN101724828A (zh) | 材料气体浓度控制系统 | |
| KR20140035907A (ko) | 액체의 질량을 측정하고 유체를 수송하는 장치 | |
| CN108569776A (zh) | 一种发电厂自动供气式全保护精确加氧装置及加氧方法 | |
| ATE387130T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung und verabreichung von einem schokoladengetränk | |
| PL424592A1 (pl) | Sposób zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi oraz układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi | |
| MX2018015042A (es) | Unidad vaporizada para un sistema generador de aerosol. | |
| BR112019013088A2 (pt) | método e dispositivo para estimar pelo menos uma característica de combustão de um gás combustível. | |
| CN202974749U (zh) | 饱和蒸气法模拟呼出气体酒精含量配气装置 | |
| CN103383103B (zh) | 蒸汽发生装置 | |
| CN203489232U (zh) | 蒸汽发生装置 | |
| CN202473854U (zh) | 一种自动缓冲补液装置 | |
| CN105645343B (zh) | 一种双路压力加油自动平衡控制方法 | |
| CN102231291A (zh) | 包覆层的制备装置及其制备方法 | |
| CN108160005A (zh) | 气体发生装置 | |
| AR106438A1 (es) | Método para el control de la presión estática en el depósito de un mezclador de gas licuado y agente de sostén | |
| CN205209589U (zh) | 一种密闭容器液位测量装置 | |
| CN103861853A (zh) | 一种找零式精确自动补液系统及其补液方法 | |
| CN208717417U (zh) | 一种镀膜机的油屏蔽装置 | |
| Adzhemyan et al. | Self-similar solution to the problem of vapor diffusion toward the droplet nucleated and growing in a vapor-gas medium | |
| CN110096083A (zh) | 一种温湿度精密控制装置 | |
| CN208345865U (zh) | 一种发电厂自动供气式全保护精确加氧装置 | |
| CN207699659U (zh) | 一种l型oled蒸镀线源 |