PL424592A1 - Sposób zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi oraz układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi - Google Patents

Sposób zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi oraz układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi

Info

Publication number
PL424592A1
PL424592A1 PL424592A PL42459218A PL424592A1 PL 424592 A1 PL424592 A1 PL 424592A1 PL 424592 A PL424592 A PL 424592A PL 42459218 A PL42459218 A PL 42459218A PL 424592 A1 PL424592 A1 PL 424592A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
vacuum
precursor
reactor
supplying
supply system
Prior art date
Application number
PL424592A
Other languages
English (en)
Other versions
PL239633B1 (pl
Inventor
Katarzyna Oleśko
Anna Sobczyk-Guzenda
Andrzej Nosal
Original Assignee
Politechnika Łódzka
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Łódzka filed Critical Politechnika Łódzka
Priority to PL424592A priority Critical patent/PL239633B1/pl
Publication of PL424592A1 publication Critical patent/PL424592A1/pl
Publication of PL239633B1 publication Critical patent/PL239633B1/pl

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

Przedmiotem zgłoszenia jest sposób zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi polegający na tym, że prekursor dostarcza się do reaktora poprzez układ zasilania w pary, ogrzewany gradientowo na całej swojej długości, utrzymując w układzie zasilania oraz komorze głównej reaktora stabilne ciśnienie, przy czym stabilność ciśnienia uzyskuje się poprzez zastosowanie w układzie zasilania bocznego odciągu podciśnieniowego, przy czym stabilizację ciśnienia ocenia się na podstawie wskazań sond próżniowych mierzących ciśnienie (próżnię) w odcinku bocznego odciągu podciśnieniowego jak i reaktorze, przy czym przyjmuje się, że stabilizacja ciśnienia następuje w momencie gdy wskazania obu sond różnią się maksymalnie o 10%. Przedmiotem zgłoszenia jest także układ zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi, zawierający ampułę z prekursorem, ogrzewaną gradientowo linię dystrybucyjną charakteryzujący się tym, że zawiera stabilizowaną termicznie ampułę (1) z prekursorem, przyłączony do linii dystrybucyjnej boczny odciąg podciśnieniowy zawierający zawór trójdrożny (3), pompę próżniową (2) i sondę próżniową (4), oraz w zespół zaworu regulacyjnego (6) i przepływomierza (7) umieszczony pomiędzy ampułą (1), a zaworem trójdrożnym (3).
PL424592A 2018-02-14 2018-02-14 Układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi PL239633B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL424592A PL239633B1 (pl) 2018-02-14 2018-02-14 Układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL424592A PL239633B1 (pl) 2018-02-14 2018-02-14 Układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL424592A1 true PL424592A1 (pl) 2019-08-26
PL239633B1 PL239633B1 (pl) 2021-12-20

Family

ID=67683631

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL424592A PL239633B1 (pl) 2018-02-14 2018-02-14 Układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL239633B1 (pl)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4640221A (en) * 1985-10-30 1987-02-03 International Business Machines Corporation Vacuum deposition system with improved mass flow control
JPS6335768A (ja) * 1986-07-30 1988-02-16 Sharp Corp 蒸着装置
US6432205B1 (en) * 1998-09-14 2002-08-13 Genitech Co., Ltd. Gas feeding system for chemical vapor deposition reactor and method of controlling the same
WO2007036997A1 (ja) * 2005-09-28 2007-04-05 Tadahiro Ohmi 液体材料供給装置、液体材料供給装置のための制御方法
CN103688339A (zh) * 2011-07-22 2014-03-26 应用材料公司 用于ald/cvd工艺的反应物输送系统
CN103797563A (zh) * 2011-09-06 2014-05-14 株式会社富士金 具备原料浓度检测结构的原料气化供给装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4640221A (en) * 1985-10-30 1987-02-03 International Business Machines Corporation Vacuum deposition system with improved mass flow control
JPS6335768A (ja) * 1986-07-30 1988-02-16 Sharp Corp 蒸着装置
US6432205B1 (en) * 1998-09-14 2002-08-13 Genitech Co., Ltd. Gas feeding system for chemical vapor deposition reactor and method of controlling the same
WO2007036997A1 (ja) * 2005-09-28 2007-04-05 Tadahiro Ohmi 液体材料供給装置、液体材料供給装置のための制御方法
CN103688339A (zh) * 2011-07-22 2014-03-26 应用材料公司 用于ald/cvd工艺的反应物输送系统
CN103797563A (zh) * 2011-09-06 2014-05-14 株式会社富士金 具备原料浓度检测结构的原料气化供给装置

Also Published As

Publication number Publication date
PL239633B1 (pl) 2021-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111947029B (zh) 一种稳定的超临界二氧化碳供气系统和方法
SG10201802105UA (en) Systems and methods for flow monitoring in a precursor vapor supply system of a substrate processing system
CN110182924A (zh) 全自动配氨加氨一体机装置及全自动配氨加氨方法
CN101724828A (zh) 材料气体浓度控制系统
KR20140035907A (ko) 액체의 질량을 측정하고 유체를 수송하는 장치
CN108569776A (zh) 一种发电厂自动供气式全保护精确加氧装置及加氧方法
ATE387130T1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung und verabreichung von einem schokoladengetränk
PL424592A1 (pl) Sposób zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi oraz układ do zasilania w pary prekursora reaktorów do nakładania powłok metodami próżniowymi
MX2018015042A (es) Unidad vaporizada para un sistema generador de aerosol.
BR112019013088A2 (pt) método e dispositivo para estimar pelo menos uma característica de combustão de um gás combustível.
CN202974749U (zh) 饱和蒸气法模拟呼出气体酒精含量配气装置
CN103383103B (zh) 蒸汽发生装置
CN203489232U (zh) 蒸汽发生装置
CN202473854U (zh) 一种自动缓冲补液装置
CN105645343B (zh) 一种双路压力加油自动平衡控制方法
CN102231291A (zh) 包覆层的制备装置及其制备方法
CN108160005A (zh) 气体发生装置
AR106438A1 (es) Método para el control de la presión estática en el depósito de un mezclador de gas licuado y agente de sostén
CN205209589U (zh) 一种密闭容器液位测量装置
CN103861853A (zh) 一种找零式精确自动补液系统及其补液方法
CN208717417U (zh) 一种镀膜机的油屏蔽装置
Adzhemyan et al. Self-similar solution to the problem of vapor diffusion toward the droplet nucleated and growing in a vapor-gas medium
CN110096083A (zh) 一种温湿度精密控制装置
CN208345865U (zh) 一种发电厂自动供气式全保护精确加氧装置
CN207699659U (zh) 一种l型oled蒸镀线源