PL41542B1 - - Google Patents

Description

RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 41542 KI. T5 k,« 1/02 « Siegfried Engelmann LCbau/Sa., Niemiecka Republika Denokratyoaaa Sposób wytwarzania blonowych lub sitowych szablonów drukarskich odpornych na rozpuMozalnlki Patent trwa od dnia 17 lipca 1957 r.Wynalazek dotyczy sposobu wytwarzania blonowych lub sitowych szablo¬ nów drukarskich calkowicie odpornych na dzialanie rozpuszczalników* Dotychczas znane sa lakiery odporne na dzialanie rozpuszczalników o podstawie skladajacej sie z diizocyjanianów 1 alkoholi poliwinylowych* Spo¬ sób wytwarzania lakierów w powiazaniu z diizocyjanianami jest uciazliwy i zwiazki te pod wzgledem fizjologicznym nasuwapa wiele zastrzezen, Tarstwa swiatloczula po obu stronach podloza nie powinna oddzielac" sie podczas prze¬ biegu drukowania, aby nie powodowac w ten sposób utraty przez zwiazki diizo¬ cyjanianów ich zdolnosci przywierania. Stosowanie alkoholi poliwinylowych sprawia równiez duzo klopotów. Sluza one jako warstwa swiatloczula, która po kopiowaniu, musi byó hartowana. Wskutek uzycia przy tym jako podstawy wo¬ dy, calkowite zahartowanie jest trudne i zaledwie wykonalne. Z tego powodu powyzsze substancje moga znalezc jedynie ograniczone zastosowanie.Poniewaz w ostatnich latach technika drukarska tkanin, papieru, szkla itd. stosuje sposoby wymagajace do wykonywania szablonów lakierów odpornychna dzialanie rozpuszczalników, przeto stosowanie ich jest zwiazane z nakla¬ dem duzego wysilku na pokrycie rysunku dotychczas uzywanymi lakierami. Fabry¬ ki farb wytwarzaja lakier do szablonów, który Jednak nie odpowiada wymaga¬ niom* L&kieir tM latwo rozpuszcza sie we wszystkich rozpuszczalnikach* Prze- r^nysl.zada lakieru latwego w pracy, którego podstawa nie moze byc woda, a np* alkohole poliwinylowe, które w póiniejszym hartowaniu Jedynie czesciowo tra¬ ca zdolnosc pecznienia w wodzie, jak równiez lakieru nie posiadajaoego wad pod wzgledem fizjologicznym* Sposób wedlug wynalazku polega na pokryciu blonowych lub sitowych sza¬ blonów drukarskich warstwa roztworu poliakryonitrylu, która po wyparowaniu rozpuszczalnika jest odporna na dzialanie zwykle uzywanych rozpuszczalników.Sposób wytwarzania blonowych lub sitowych szablonów drukarskich opi¬ sano ponizej.Szablon zostaje zaopatrzony w warstwe swiatloczula i wyswietlony jako negatyw. Po wyswietleniu, warstwa nie zahartowana przez naswietlenie zosta¬ je wymyta, a nastepnie szablon zostaje wysuszony w cieplym powietrzu* Po tym nastepuje retuszowanie szablonu za pomoca uzytej juz swiatloozulej substanoji oraz ponowne krótkotrwale suszenie, W koncu moze byc wykonane jednostronne szebrowanie za pomoca roztworu z poliakrylonitrylu* Lakier daje sie bardzo dobrze zgarniac, posiada duza lepkosc, która nie pozwala na jego yrlNsillLS* nle przez oczka tkaniny lub tworzenie sie kropel. Nastepna operacja jest su¬ szenie) na powietrzu za pomoca pradu goracego powietrza* Po wyparowania roz- pu**o£alnlkat lakier staje sie cokolwiek metny* Usuniecie z wzoru swiatlo- ozule| warstwy, a nastepnie pokrycie go lakierem mozna uskutecznic w podany ponizaj sposób, Szablon drukarski poddaje sie dzialaniu pradu powietrza pod cisnieniem, tak, Iz blonka lakieru zostaje usunieta z miejsc wzoru lub oplukanie szablo¬ nów w kapieli wodnej przez ozas 1 minuty i nastepnie wyjecie ioh oraz po¬ traktowanie roztworem NaOH o zwyklym stezeniu* Po uplywie okolo 2-3 minut ozasu pecenienia szablony zostaja opryskane woda lub w niej wymyta oraz wy¬ suszona* Podczas tego zabiegu swiatloczula warstwa zupelnie rozpuszcza sie i na mlfjscach wzoru pozostaje jeszcze tylko znikoma blonka lakieru, daja¬ ca sie latwo usunac przez pocieranie szczotka, Ewentualne male usterki w szablonie nalezy retuszowac roztworem poliakrylonitrylu i nastepnie poddac stwardnieniu na powietrzu* PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patent o w e Sposób wytwarzania blonowych lub sitowych szablonów drukarskich odpor¬ nych na rozpuszczalniki, do drukowania tkanin, papieru, szkla, metalu, skóry i sztucznych tworzyw, znamienny tym, ze nanosi sie warstwe roztworu poliakry- lonitrylu, która tworzy blone* Siegfried Engel mann ZasteJóAl Kolegium Rzeczników Patentowych PL