PL210262B1 - Sposób oczyszczania telluru oraz urządzenie do oczyszczania telluru - Google Patents
Sposób oczyszczania telluru oraz urządzenie do oczyszczania telluruInfo
- Publication number
- PL210262B1 PL210262B1 PL384032A PL38403207A PL210262B1 PL 210262 B1 PL210262 B1 PL 210262B1 PL 384032 A PL384032 A PL 384032A PL 38403207 A PL38403207 A PL 38403207A PL 210262 B1 PL210262 B1 PL 210262B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- tellurium
- crucible
- graphite
- quartz
- container
- Prior art date
Links
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 50
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 title claims description 48
- 238000000746 purification Methods 0.000 title description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 18
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 lithium (Li) Chemical class 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób oczyszczania telluru poprzez destylację z fazy pary oraz urządzenie do stosowania tego sposobu.
Tellur jako pierwiastek chemiczny z szóstej kolumny układu okresowego stosowany jest w różnych dziedzinach, a między innymi jest wykorzystywany jako skł adnik związków pół przewodnikowych AII - BVI typu CdTe. Szerokie zastosowania tego pierwiastka w technologii półprzewodnikowej stawiają wymagania jakościowe a przede wszystkim konieczność zapewnienia odpowiedniej jego czystości. Podstawową metodą ostatecznego oczyszczania telluru jest destylacja, która ma na celu oczyszczanie tego pierwiastka z tlenków oraz z domieszek innego typu jak magnez, siarka, metale lekkie typu lit (Li), sód (Na), potas (K), wapń (Ca), metale jak miedź (Cu) i metale przejściowe typu mangan (Mn), żelazo (Fe) itd.
Znany jest sposób oczyszczania telluru oparty na tak zwanej metodzie topienia strefowego, w której ciekła strefa jako część dł ugiego pręta telluru, przesuwa się powoli przez cały pręt (na skutek powolnego ruchu grzejącego ją pieca), zabierając ze sobą niektóre domieszki. Ten proces musi być kilkadziesiąt razy powtarzany i jest procesem bardzo długotrwałym i technicznie skomplikowanym. Innym sposobem oczyszczania telluru jest destylacja z fazy pary przebiegająca (dla zmniejszenia kosztów) w jednorazowych specjalnie uformowanych rurach szklanych. Rury szklane do tego używane wykonywane są z czystego szkła laboratoryjnego typu „pyrex firmy np. Sovirel lub Cavalier. W celu wyjęcia materiału (telluru) po procesie destylacji rury szklane tłucze się. Uzyskany w ten sposób tellur zawiera na swoich powierzchniach drobinki przyklejonego szkła a poza tym w kilku mikronowej warstwie przypowierzchniowej (od strony powierzchni szklanej) występują domieszki wapnia (Ca), sodu (Na), potasu (K) będące składnikami szkła laboratoryjnego (nawet najczystszego).
Celem wynalazku jest opracowanie takiego sposobu oczyszczania telluru, który byłby wydajniejszy od sposobów znanych a jednocześnie prosty technicznie.
Sposób oczyszczania telluru według wynalazku oparty jest na destylacji telluru z fazy pary. W sposobie tym najpierw „czysty ~99% lub „czysty do analizy ~99,9% tellur w pojemniku ze spektralnie czystego kwarcu o czystości ~6N połączonym z dwuczęściowym tyglem grafitowym o czystości „półprzewodnikowej ~6N tzn. 99,9999% umieszcza się w otwartej rurze kwarcowej. Następnie rurę kwarcową odpompowuje się do wysokiej próżni ~1,3x10-4 Pa, umieszcza się w piecu, podgrzewa się do temperatury 550 - 560°C i utrzymuje się w tej temperaturze przez co najmniej 4 godziny. Korzystnie jest jeżeli podgrzewanie rury kwarcowej z pojemnikiem zawierającym tellur prowadzi się w temperaturze o okoł o 110 - 120°C wyż szej niż temperatura topnienia telluru. Po zakończeniu procesu termicznego rurę kwarcową z pojemnikiem kwarcowym i tyglem grafitowym ochładza się do temperatury pokojowej, wyjmuje się oczyszczony tellur z dwuczęściowego tygla grafitowego i tak prowadzony proces destylacji powtarza się co najmniej trzykrotnie.
Urządzenie do oczyszczania telluru przez destylację z fazy pary posiada piec rurowy wyposażony w otwartą rurę kwarcową, wewnątrz której znajduje się pojemnik ze spektralnie czystego kwarcu połączony z dwuczęściowym tyglem grafitowym. Pojemnik kwarcowy, w którym umieszcza się przeznaczony do destylacji tellur w którym zbiera się tellur rozpuszczony w czasie trwania procesu destylacji, ma postać rury zamkniętej z jednej strony. Druga strona tej rury posiada deformację w postaci progu, otwarte przewężenie będ ące dyszą dla parują cego telluru i jest połączona z dwuczęściowym tyglem grafitowym. Dwuczęściowy tygiel grafitowy ma postać dwóch zazębiających się w ś rodkowej części rur grafitowych o średnicach wewnę trznych mniejszych na począ tku i na koń cu a większych w środkowej, zazębiającej się części. Korzystnie jest jeżeli wewnę trzna ś rednica ś rodkowej części tygla jest o co najmniej 5% większa niż średnice na końcach tygla.
Sposób oczyszczania według wynalazku charakteryzuje się zwiększoną o około 100 - 200% wydajnością w stosunku do znanych sposobów.
Wynalazek zostanie bliżej objaśniony na przykładzie oczyszczania telluru „czystego do analiz ~99,9% w urządzeniu pokazanym na rysunku.
Przykładowe urządzenie do oczyszczania telluru posiada piec rurowy 6 wyposażony w otwartą rurę kwarcową 4, wewnątrz której znajduje się pojemnik ze spektralnie czystego kwarcu 2 oraz dwuczęściowy tygiel grafitowy 3. Przeznaczony do oczyszczania tellur 1 umieszcza się w pojemniku 2, w którym takż e zbiera się tellur rozpuszczany w czasie trwania procesu destylacji. Pojemnik 2 ma postać rury zamkniętej z jednej strony, a z drugiej strony zaopatrzonej w deformację w postaci progu 7 uniemożliwiającego wypływ roztopionego telluru oraz w otwarte przewężenie 8 pełniące rolę dyszy dla
PL 210 262 B1 parującego telluru. Od strony przewężenia 8 pojemnik 2 połączony jest z dwuczęściowym tyglem grafitowym 3. Tygiel ma postać dwóch zazębiających się w środkowej części rur grafitowych o średnicach wewnętrznych mniejszych na początku i na końcu tygla i większych w środkowej, zazębiającej się części. W przykładowym urządzeniu wewnętrzna średnica środkowej części tygla grafitowego 3 jest o 5% wię ksza niż ś rednice na począ tku i koń cu tygla. Taka konstrukcja powoduje, ż e osadzają cy się na ściankach tygla 3 tellur 5 możemy łatwo wydobyć rozsuwając obie części tygla.
W przykładowym sposobie przeznaczony do oczyszczenia „czysty do analizy ~99,9% tellur umieszcza się w pojemniku kwarcowym ze spektralnie czystego kwarcu o czystości ~6N. Pojemnik ten łączy się następnie z dwuczęściowym tyglem grafitowym o czystości „półprzewodnikowej ~6N tzn. 99,9999% i razem umieszcza się w zamkniętej z jednej strony rurze kwarcowej. Rurę odpompowuje się do wysokiej próżni ~1,3x10-4 Pa a następnie wraz z umieszczonym wewnątrz pojemnikiem kwarcowym z tellurem i tyglem grafitowym umieszcza się w piecu i podgrzewa. Podgrzewanie prowadzi się tak by temperatura w miejscu materiału wsadowego była wyższa o ~110°C niż temperatura topnienia oczyszczanego telluru (~450°C) czyli do temperatury ~560°C i utrzymuje się w tej temperaturze przez 4 godziny. Proces podgrzewania, topienia się i parowania telluru przebiega w warunkach wysokiej dynamicznej próżni (~1,3x10-4 Pa), która zabezpiecza tellur przed utlenianiem.
Parujący tellur kondensuje i osadza się w chłodniejszej części tygla grafitowego, która poprzez odpowiednią pozycję nasuniętego pieca wypada w środkowej jego części, skąd można go łatwo wyjąć.
W czasie opisanego procesu destylacji pierwiastki (domieszki) mają ce niską prężność par pozostają w pojemniku kwarcowym a pierwiastki (domieszki) mające wyższą niż tellur prężność par przemieszczą się w ramach tygla grafitowego poza miejsce kondensacji czystego telluru.
W sposobie wedł ug wynalazku, oczyszczany tellur nie ma kontaktu ze szkłem, które go zanieczyszczało a jedynie z kwarcem i grafitem, które są „bezpieczne a ponadto używany kwarc i grafit jest wielokrotnego uż ytku.
Pojedynczy proces destylacji 400 g telluru trwa około 6 godzin, w tym 1 godzina przeznaczona jest na uzyskanie wysokiej próżni i właściwej temperatury, 4 godziny trwa sam proces destylacji a 1 godzina jest przeznaczona na chł odzenie cał ego układu. Dla uzyskania półprzewodnikowej czystości telluru wyjęty z pierwszej destylacji materiał poddawany jest w ten sam sposób drugiej i trzeciej destylacji, w efekcie czego końcowa czystość trzykrotnie destylowanego telluru wynosi 6N tzn. 99,9999% a końcowy uzysk to około 70% materiału wstępnie przeznaczonego do oczyszczania. W pojemniku kwarcowym, w miejscu gdzie był wsadowy tellur, po destylacji pozostał y tlenki i różnego typu ciężkie domieszki, a na końcu tygla grafitowego, blisko brzegu pieca (od strony aparatury pompującej) osadził się materiał, który na podstawie nawet pobieżnej analizy wzrokowej zawiera
Claims (5)
1. Sposób oczyszczania telluru przez destylację z fazy pary, znamienny tym, że czysty ~99% lub czysty do analizy ~99,9% tellur (1) w pojemniku ze spektralnie czystego kwarcu (2) o czystości ~6N, połączonym z dwuczęściowym tyglem grafitowym (3) o czystości „półprzewodnikowej ~6N, tzn. 99,9999%, umieszcza się w otwartej rurze kwarcowej (4), następnie rurę kwarcową odpompowuje się do wysokiej próżni ~1,3x10-4 Pa, umieszcza się w piecu rurowym (6), podgrzewa się do temperatury ~560-570°C i utrzymuje się w tej temperaturze przez co najmniej 4 godziny, po czym ochładza się do temperatury pokojowej, osadzony tellur (5) wyjmuje się z dwuczęściowego tygla grafitowego (3), przy czym proces destylacji powtarza się co najmniej trzykrotnie.
2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że podgrzewanie rury kwarcowej (4) z pojemnikiem (2) zawierającym tellur (1) prowadzi się w nieco wyższej temperaturze niż temperatura topnienia telluru korzystnie o ~110-120°C.
3. Urządzenie do oczyszczania telluru przez destylację z fazy pary, znamienne tym, że posiada piec rurowy (6) wyposażony w otwartą rurę kwarcową (4), wewnątrz której znajduje się pojemnik ze spektralnie czystego kwarcu (2), który połączony jest z dwuczęściowym tyglem grafitowym (3), przy czym pojemnik (2), ma postać rury zamkniętej z jednej strony, a z drugiej strony posiada deformację w postaci progu (7) i otwarte przewężenie (8) stanowiące dyszę dla parującego telluru (1).
PL 210 262 B1
4. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że dwuczęściowy tygiel grafitowy (3) ma postać dwóch zazębiających się w środkowej części rur grafitowych o średnicach wewnętrznych mniejszych na początku i na końcu, a większych w środkowej, zazębiającej się części.
5. Urządzenie według zastrz. 4, znamienne tym, że wewnętrzna średnica środkowej części tygla grafitowego (3) jest co najmniej 5% większa niż średnice na końcach tygla.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL384032A PL210262B1 (pl) | 2007-12-12 | 2007-12-12 | Sposób oczyszczania telluru oraz urządzenie do oczyszczania telluru |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL384032A PL210262B1 (pl) | 2007-12-12 | 2007-12-12 | Sposób oczyszczania telluru oraz urządzenie do oczyszczania telluru |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL384032A1 PL384032A1 (pl) | 2009-06-22 |
| PL210262B1 true PL210262B1 (pl) | 2011-12-30 |
Family
ID=42986389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL384032A PL210262B1 (pl) | 2007-12-12 | 2007-12-12 | Sposób oczyszczania telluru oraz urządzenie do oczyszczania telluru |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL210262B1 (pl) |
-
2007
- 2007-12-12 PL PL384032A patent/PL210262B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL384032A1 (pl) | 2009-06-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101665253B (zh) | 多晶硅提纯方法及用于多晶硅提纯的坩埚、提纯设备 | |
| US10961605B2 (en) | Method for producing magnesium by distillation | |
| CN101580904B (zh) | 一种非真空条件下制备块体非晶的方法及设备 | |
| Li et al. | Separation of elemental sulfur from zinc concentrate direct leaching residue by vacuum distillation | |
| CN102465209B (zh) | 一种高纯金属钕的制备方法及其装置 | |
| Zhang et al. | Purification of praseodymium to 4N5+ purity | |
| CN1059709C (zh) | 金属锂真空蒸馏提纯方法及装置 | |
| EP2729589B1 (en) | Apparatus and method for condensing metal vapor | |
| PL210262B1 (pl) | Sposób oczyszczania telluru oraz urządzenie do oczyszczania telluru | |
| CN106924989B (zh) | 天然六氟化铀气相转移方法 | |
| CN201724548U (zh) | 一种熔炼炉 | |
| CN110724825B (zh) | 一种基于纯铁滤材的气相镁纯化的方法与装置 | |
| Li et al. | An approach to prepare novel TiSi2 alloy for clean utilization of spent V2O5-WO3/TiO2 catalysts and diamond-wire silicon slitting powder | |
| CN100432248C (zh) | 特纯金属锂精炼提纯工艺 | |
| CN102634679A (zh) | 一种金属镁真空精炼提纯的方法 | |
| PL210945B1 (pl) | Sposób oczyszczania kadmu oraz urządzenie do oczyszczania kadmu | |
| CN211283732U (zh) | 一种制备高纯碲的设备 | |
| JPH01108322A (ja) | 蒸留精製方法 | |
| JP2005231956A (ja) | シリコン精製装置及びシリコン精製方法 | |
| JP2002200401A (ja) | 高融点有機材料の蒸留精製方法及び装置 | |
| CN110835694A (zh) | 一种基于单质硅滤材的气相镁纯化的方法与装置 | |
| CN200967833Y (zh) | 特纯金属锂精炼提纯工艺的专用设备 | |
| Kim et al. | Preparation of Te nanopowder by vacuum distillation | |
| JP6055100B2 (ja) | 方向性凝固の過程での溶融シリコン上の反応性カバーガラス | |
| CN110482495B (zh) | 一种氧化-蒸发-碳热还原提纯粗硒的装置和方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LICE | Declarations of willingness to grant licence |
Effective date: 20110810 |