PL181781B1 - Sposób wytwarzania na metalicznych powierzchniach materialów warstw borkówodpornych na scieranie PL - Google Patents
Sposób wytwarzania na metalicznych powierzchniach materialów warstw borkówodpornych na scieranie PLInfo
- Publication number
- PL181781B1 PL181781B1 PL97328200A PL32820097A PL181781B1 PL 181781 B1 PL181781 B1 PL 181781B1 PL 97328200 A PL97328200 A PL 97328200A PL 32820097 A PL32820097 A PL 32820097A PL 181781 B1 PL181781 B1 PL 181781B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- boron
- hydrogen
- boron trifluoride
- chemically active
- carrier
- Prior art date
Links
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 30
- 239000007769 metal material Substances 0.000 title claims 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 44
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 18
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical class Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 2
- -1 boron halide Chemical class 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006072 paste Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 231100000086 high toxicity Toxicity 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/28—Deposition of only one other non-metal element
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Synthetic Leather, Interior Materials Or Flexible Sheet Materials (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
1. Sposób wytwarzania na metalicznych powierzchniach materialów warstw borków odpornych na scieranie, znamienny tym, ze trójfluorek boru stanowiacy nosnik boru miesza sie z wodorem i, korzystnie, z argonem oraz azotem, przy czym otrzymany gaz chemicznie czynny zawiera 1-35% obj. trójfluorku boru, a w tak otrzymanym gazie chemicznie czyn- nym, przeprowadza sie za pomoca wyladowania plazmowego wodór molekularny w wodór atomowy w zakresie cisnien 1 do 10 · 102 Pa. PL
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania na metalicznych powierzchniach materiałów warstw borków odpornych na ścieranie.
Z opisu patentowego US 3,677,799 jest znany sposób niskotemperaturowego osadzania powłoki z boru na substrat, obejmujący dostarczanie gazowej mieszaniny wodoru i związku boru do strefy powlekania zawierającej substrat i przykładanie energii elektrycznej o wystarczająco dużej częstotliwości do tej strefy w postaci impulsowej dla ustanowienia w niej gazowych substancji wzbudzanych borem - wodorem zdolnej do nakładania żądanej powłoki borowej na substrat.
Wytwarzanie warstw borków odpornych na ścieranie w praktyce następuje najczęściej przy zastosowaniu środków zawierających bor, na przykład w postaci proszków, past lub granulatów.
Sposoby te wymagają, co jest niekorzystne, dużego nakładu pracy przy pakowaniu, rozpakowywaniu i czyszczeniu części. Czyszczenie przeprowadza się za pomocą kombinacji płukania i szczotkowania lub obróbki strumieniowo-ciernej. Ponieważ proszki, pasty i granulaty stosuje się tylko jednokrotnie, powstają również problemy przy usuwaniu zużytych środków zawierających bor, a stanowiących odpad.
Poza tym znane jest także stosowanie ciekłych środków zawierających bor, na przykład w postaci stopionych soli. Wszystkie te sposoby nie znalazły jednak zastosowania ze względu na problemy generalnie związane z kąpielami solnymi, a dotyczącymi bezpieczeństwa przy posługiwaniu się nimi, czyszczeniem części po obróbce i usuwaniem kąpieli względnie ich produktów odpadowych jako odpadu.
181 781
Wzbogacanie borem następuje korzystnie w zakresie ciśnień od 1 do 10 · 102 Pa, pod wpływem wyładowania plazmowego, znanego na przykład z urządzeń do nanoszenia powłok w plazmie. Wyładowanie plazmowe może przebiegać impulsowo.
Wymagane przy obróbce temperatury wynoszące korzystnie 400°C do 1200°C, a szczególnie korzystnie 850°C do 950°C, wytwarzane są przez samą plazmę, lub przede wszystkim w zakresie wysokich temperatur powyżej 900°C, wytwarzane są ze wspomaganiem ogrzewania dodatkowego.
Korzystnie, czas obróbki wynosi 30 do 240 min, a szczególnie korzystnie 30 do 120 min.
Grubość warstw borków reguluje się zwykle za pomocą czasu obróbki, przy czym wraz ze wzrastającym czasem wzrasta również grubość warstwy borków.
Dodatkowo gaz chemicznie czynny może zawierać jeszcze argon i/lub azot. Za pomocą tych gazów można sterować aktywnością przechodzenia boru i uzyskiwać wystarczające nagrzanie próbek za pomocą plazmy. Skład gazu chemicznie czynnego może zmieniać się w szerokich granicach zależnie od warunków obróbki i materiału przeznaczonego do wzbogacania borem.
Sposób według wynalazku nadaje się zwłaszcza do wzbogacania borem warstwy powierzchniowej stopów żelaza.
W sposobie według wynalazku molekularny wodór zawarty w gazie czynnym chemicznie, pod wpływem wyładowania plazmowego przechodzi w wodór atomowy. Wodór atomowy redukuje halogenek boru (BY3) i umożliwia przez to oddawanie boru do powierzchni obrabianego przedmiotu.
BY3 + 3H->B + 3 HY
B + x Me-> MexB
Za pomocą plazmy może jednak dojść do przejścia BY3 w BY2, przy czym mogą wtedy zachodzić następujące reakcje:
BY2 —> B + 2 BY3
B + x Me-> MexB
W związku ze wzbogacaniem borem obrabiany materiał poddaje się obróbce końcowej, aby utworzony ewentualnie FeB przemienić w Fe2B. Uzyskuje się to za pomocą procesu wyżarzania następującego po obróbce wzbogacającej borem, przy czym przerywa się wtedy dopływ halogenku boru, a obrabiany przedmiot utrzymuje się jeszcze przez pewien czas w temperaturze obróbki. Długość czasu trwania tej obróbki dyfuzyjnej dobiera się zależnie od ilości istniejącego FeB i wynosi zwykle 20 do 60 min.
Sposób przeprowadza się, na przykład, w znanym urządzeniu nadającym się do nanoszenia powłok w plazmie. Zawiera ono następujące podstawowe części.
Recypient próżniowy (reaktor, w którym umieszcza się obrabiane części. Reaktor powinien być ogrzewany i umożliwiać pracę w zakresie temperatur 400°C do 1200°C.
Układ pompujący służący do tworzenia próżni w reaktorze i do nastawiania ciśnienia roboczego.
Jednostkę zasilającą gazem, do mieszania i dozowania mieszanki chemicznie czynnej.
Zasilanie energią impulsów plazmy, do wytwarzania i podtrzymywania wyładowania plazmowego w reaktorze, przy czym wprowadzaną moc zmienia się w szerokich granicach za pomocą częstotliwości impulsowania względnie szerokości impulsów.
Układ do neutralizacji gazu i usuwania odpadów, oraz układ do sterowania i nadzorowania parametrów roboczych, który steruje i nadzoruje przebieg procesu.
181 781
W przeszłości istniały równe próby wzbogacenia warstwy powierzchniowej stali borem, zwane dalej skrótowo wzbogacaniem borem, przy których stosowano gazowe środki zawierające bor (sposób CVD). Przy zastosowaniu organicznych związków boru (trójmetyl boru, trójakryl boru) następowało przeważnie nawęglenie zamiast wzbogacenia borem, a przy zastosowaniu diboranu występowały problemy techniczne związane z bezpieczeństwem, ze względu na wielką toksyczność i niebezpieczeństwo wybuchu.
Zastosowanie trójchlorku boru jako ośrodka dozującego bor nie było praktycznie możliwe ze względu na problemy z utworzeniem warstwy, związane immanentnie ze sposobem. Powodem tych problemów jest występujące zawsze tworzenie się chlorowodorku przy wzbogacaniu borem w mieszankach BCf-HĘ.
Przy wzbogacaniu borem stopów żelaza z zastosowaniem trójchlorku boru, zachodzą następujące podstawowe reakcje:
BCl3 + 3 H2 + 2 Fe-> 2 FeB + 6 CHI
BC13 + 3 H2 + 4 Fe-> 2 Fe2B + 6 CHl
Powstający przy wzbogaceniu borem z zastosowaniem BCl3 chlorowodór, reaguje z żelazem materiału podłoża tworząc łatwo lotne chlorki żelaza
HC1 + Fe-> FeCl2
Chlorki żelaza, przy stosowanych temperaturach obróbki w zakresie 500°C do 1200°C, mają tak wysokie ciśnienie pary, że dochodzi do stałego, silnego odparowania chlorku żelaza. Prowadzi to do tworzenia się pęcherzy pomiędzy nanoszoną warstwą borków i materiałem podłoża, co jest zasadniczą wadą sposobu przy użyciu BCl3.
Uniknięcie tej wady możliwe j^:^t tylko wtedy, gdy uda się przy wzbogacaniu borem wytworzyć w bardzo krótkim czasie przylegającą warstwę borków. Jest to tak trudne technicznie, że do tej pory nie udało się tego dokonać w sposób pewny i powtarzalny.
Oprócz czysto termicznej odmiany wzbogacania borem sposobem CVD, znane są także próby wzbogacania borem przy użyciu plazmy (sposób - PACVD). Stosuje się przy tym dotychczas tylko diboran i trójchlorek boru, przy czym obarczone jest to wadami znanymi z termicznego sposobu CVD.
Zestawienie wspomnianych sposobów znajduje się w publikacji „Engineering the Surface with Boroń Based Materials”, Surface Engineering 1985 r., t. 1, nr 3, str. 203-217.
Zadaniem wynalazku jest opracowanie sposobu do wytwarzania na metalicznych powierzchniach materiałów warstw borków odpornych na ścieranie, który nie posiada wymienionych wad.
Sposób wytwarzania na metalicznych powierzchniach materiałów warstw borków odpornych na ścieranie, według wynalazku charakteryzuje się tym, że trój fluorek boru stanowiący nośnik boru miesza się z wodorem i, korzystnie, z argonem oraz azotem, przy czym otrzymany gaz chemicznie czynny zawiera 1-35% obj. trójfluorku boru, a w tak otrzymanym gazie chemicznie czynnym, przeprowadza się za pomocą wyładowania plazmowego wodór molekularny w wodór atomowy w zakresie ciśnień 1 do 10 · 102 Pa.
Trójfluorek boru stanowiący nośnik boru miesza się z wodorem i, korzystnie, z argonem.
Trójfluorek boru stanowiący nośnik boru miesza się z wodorem i, korzystnie, z azotem.
Korzystnie, w sposobie według wynalazku stosuje się gaz chemicznie czynny zawierający 20-90% obj. H2 i doprowadza się go do przestrzeni reakcyjnej w ilości od 0,5 do 2 1na minutę.
Wodór molekularny przeprowadza się w wodór atomowy za pomocą wyładowania plazmowego w zakresie temperatur od 850°C do 950°C.
Obróbkę plazmową przeprowadza się w czasie pomiędzy 30-240 min.
181 781
Przykład 1.Po wprowadzeniu do reaktora próbki ze stali 100°C nastąpiło nagrzanie jej w plazmie pochodzącej z wyładowania jarzeniowego prądu stałego o stałej częstotliwości impulsowania (4 kHz) przy ciśnieniu 10 · 102 Pa. Nagrzewanie próbek dokonuje się dodatkowo przez ogrzewanie reaktora, co skraca czas nagrzewania. Nagrzewanie i ochładzanie próbki dokonuje się w mieszaninie argonu i wodoru o stosunku 1 : 1. Po osiągnięciu temperatury próbki wynoszącej 850°C do nośnika boru dodaje się trójfluorek boru tak, że powstaje mieszanina gazu czynnego chemicznie o składzie 45% obj. wodoru, 40% obj. argonu i 15% obj. trójfluorku boru. Mieszaninę gazów doprowadza się do reaktora w ilości 1 l/min. Czas trwania obróbki plazmą wynosi 200 min.
Na szlifie metalograficznym widać warstwę borków średniej grubości 42 pm. Mikrotwardość wynosi 1800 HV0 05. Strefa wolna jest od FeB.
Przykład 2. Po wprowadzeniu do reaktora próbki z hasteloju B (stop niklu z 64% niklu, 28% molibdenu, 5,5% żelaza i 1,25% kobaltu) nastąpiło nagrzanie jej w plazmie pochodzącej z wyładowania jarzeniowego prądu stałego i przy stałej częstotliwości impulsowania (4 kHz). Za pomocą wyładowania plazmowego przy ciśnieniu 10 · 102 Pa, próbka została nagrzana do temperatury 850°C. Gęstość mocy sterowana była przez zmianę szerokości impulsów. Nagrzewanie próbki nastąpiło wyłącznie za pomocą wyładowania jarzeniowego. Nagrzewanie i ochładzanie próbki następowało w mieszaninie argonu i wodoru o stosunku 1:1. Po osiągnięciu temperatury obróbki do nośnia boru dodano trójchlorku boru tak, że powstała mieszanina chemicznie czynna o składzie 45% obj. wodoru, 45% obj. argonu i 10% obj. trójfluorku boru. mieszaninę gazów doprowadzano do reaktora w ilości 1 l/min. Czas trwania obróbki wynosił 240 min.
Na szlifie metalograficznym widać warstwę borków średniej grubości 50 pm. Mikrotwardość wynosiła 2400 HV0 05.
181 781
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 60 egz
Cena 2,00 zł.
Claims (7)
- Zastrzeżenia patentowe1. Sposób wytwarzania na metalicznych powierzchniach materiałów warstw borków odpornych na ścieranie, znamienny tym, że trój fluorek boru stanowiący nośnik boru miesza się z wodorem i, korzystnie, z argonem oraz azotem, przy czym otrzymany gaz chemicznie czynny zawiera 1-35% obj. trójfluorku boru, a w tak otrzymanym gazie chemicznie czynnym, przeprowadza się za pomocą wyładowania plazmowego wodór molekularny w wodór atomowy w zakresie ciśnień 1 do 10 · 102 Pa.
- 2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że trójfluorek boru stanowiący nośnik boru miesza się z wodorem i, korzystnie, z argonem.
- 3. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że trójfluorek boru stanowiący nośnik boru miesza się z wodorem i, korzystnie, z azotem.
- 4. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się gaz chemicznie czynny zawierający 20-90% obj. H2.
- 5. Sposób według zastrz. 1 albo 2, albo 3, znamienny tym, że gaz chemicznie czynny doprowadza się do przestrzeni reakcyjnej w ilości od 0,5 do 21 na minutę.
- 6. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że wodór molekularny przeprowadza się w wodór atomowy za pomocą wyładowania plazmowego w zakresie temperatur od 850°C do 950°C.
- 7. Sposób według zastrz. 1 albo 6, znamienny tym, że obróbkę plazmową przeprowadza się w czasie pomiędzy 30-240 min.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19602639A DE19602639A1 (de) | 1996-01-25 | 1996-01-25 | Verfahren zur Herstellung von verschleißfesten Boridschichten auf metallischen Werkstoffoberflächen |
PCT/EP1997/000298 WO1997027345A1 (de) | 1996-01-25 | 1997-01-23 | Verfahren zur herstellung von verschleissfesten boridschichten auf metallischen werkstoffoberflächen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL328200A1 PL328200A1 (en) | 1999-01-18 |
PL181781B1 true PL181781B1 (pl) | 2001-09-28 |
Family
ID=7783662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL97328200A PL181781B1 (pl) | 1996-01-25 | 1997-01-23 | Sposób wytwarzania na metalicznych powierzchniach materialów warstw borkówodpornych na scieranie PL |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0876516B1 (pl) |
JP (1) | JP3222144B2 (pl) |
AT (1) | ATE193334T1 (pl) |
CA (1) | CA2244248C (pl) |
CZ (1) | CZ289443B6 (pl) |
DE (2) | DE19602639A1 (pl) |
HU (1) | HUP9900939A3 (pl) |
PL (1) | PL181781B1 (pl) |
SK (1) | SK282806B6 (pl) |
WO (1) | WO1997027345A1 (pl) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1143031A3 (de) * | 1997-12-15 | 2004-04-28 | Volkswagen AG | Plasmaborierung |
DE19842515C1 (de) * | 1998-09-17 | 2000-04-20 | Sabine Boehm | Verfahren zur Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe |
DE19845463A1 (de) * | 1998-10-02 | 2000-04-06 | Stiftung Inst Fuer Werkstoffte | Verfahren zur Herstellung von verschleißfesten Boridschichten |
CZ305986B6 (cs) * | 2013-02-15 | 2016-06-08 | Technická univerzita v Liberci | Povlakované nástroje závitořezné z rychlořezné oceli, zejména závitníky |
CZ305985B6 (cs) * | 2013-02-15 | 2016-06-08 | Technická univerzita v Liberci | Vodicí kladky z tvrzené oceli pro tažení drátu |
CN110512170A (zh) * | 2019-10-12 | 2019-11-29 | 河海大学常州校区 | 一种钛合金渗硼方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3677799A (en) * | 1970-11-10 | 1972-07-18 | Celanese Corp | Vapor phase boron deposition by pulse discharge |
JPH07286254A (ja) * | 1994-04-21 | 1995-10-31 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 耐二次加工脆性に優れた鋼板およびその製造方法 |
-
1996
- 1996-01-25 DE DE19602639A patent/DE19602639A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-01-23 HU HU9900939A patent/HUP9900939A3/hu unknown
- 1997-01-23 CA CA002244248A patent/CA2244248C/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-01-23 EP EP97901592A patent/EP0876516B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-01-23 DE DE59701754T patent/DE59701754D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-01-23 AT AT97901592T patent/ATE193334T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-01-23 JP JP52653797A patent/JP3222144B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-01-23 WO PCT/EP1997/000298 patent/WO1997027345A1/de active IP Right Grant
- 1997-01-23 SK SK1012-98A patent/SK282806B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1997-01-23 PL PL97328200A patent/PL181781B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1997-01-23 CZ CZ19982351A patent/CZ289443B6/cs not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0876516A1 (de) | 1998-11-11 |
EP0876516B1 (de) | 2000-05-24 |
HUP9900939A2 (hu) | 1999-07-28 |
ATE193334T1 (de) | 2000-06-15 |
JP3222144B2 (ja) | 2001-10-22 |
CZ235198A3 (cs) | 1999-08-11 |
CZ289443B6 (cs) | 2002-01-16 |
SK101298A3 (en) | 1998-12-02 |
DE19602639A1 (de) | 1997-07-31 |
CA2244248A1 (en) | 1997-07-31 |
JPH11507993A (ja) | 1999-07-13 |
WO1997027345A1 (de) | 1997-07-31 |
HUP9900939A3 (en) | 2001-01-29 |
SK282806B6 (sk) | 2002-12-03 |
PL328200A1 (en) | 1999-01-18 |
CA2244248C (en) | 2001-11-20 |
DE59701754D1 (de) | 2000-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1272077A (en) | Hard surface coatings for metals in fluidized beds | |
US9068260B2 (en) | Knife for wood processing and methods for plating and surface treating a knife for wood processing | |
US3771976A (en) | Metal carbonitride-coated article and method of producing same | |
US5989363A (en) | Nitriding process and nitriding furnace therefor | |
JPS62294160A (ja) | 反応性気体プラズマ中での材料の熱化学的表面処理方法 | |
KR19990006662A (ko) | 방전표면처리방법 및 방전표면처리장치 | |
EP2640867A1 (en) | Surface treatment of metal objects | |
PL181781B1 (pl) | Sposób wytwarzania na metalicznych powierzchniach materialów warstw borkówodpornych na scieranie PL | |
US6090223A (en) | Chromium nitride film and method for forming the same | |
US6306225B1 (en) | Process for producing wear-resistant boride layers on metallic material surfaces | |
Hunger et al. | Generation of boride layers on steel and nickel alloys by plasma activation of boron trifluoride | |
US4268323A (en) | Process for case hardening steel | |
US5580397A (en) | Carbide and carbonitride surface treatment method for refractory metals | |
CA2623650A1 (en) | Plasma boriding method | |
Kulka et al. | Trends in physical techniques of boriding | |
EP0059803B1 (en) | A process for case hardening steel | |
Reynoldson | Advances in surface treatments using fluidised beds | |
Branzei et al. | Non-Toxic Environment for Ferritic Nitrocarburising Process | |
Guryev et al. | Complex Saturation of Titanium Alloys with Boron, Chromium and Titanium | |
JPS6350456A (ja) | アルミニウム材の表面処理方法 | |
Krukovich et al. | The Prospective Boriding Technologies Guaranteeing the Improvements in the Plasticity of Layers | |
JPH0240735B2 (ja) | Tetsuutansogokinseihinnikakusantankabutsuhifukubutsuofuchakusuruhoho | |
Cala et al. | Characterization of films formed by the aluminizing of T91 steel | |
Bohm | Surface Hardening Methods and Their Application in Materials Technology and Tribology.--III | |
US3480467A (en) | Process for depositing boron carbide |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20100123 |