PL178313B1 - Urządzenie do kontaktowania gazu z płynem - Google Patents

Urządzenie do kontaktowania gazu z płynem

Info

Publication number
PL178313B1
PL178313B1 PL95308079A PL30807995A PL178313B1 PL 178313 B1 PL178313 B1 PL 178313B1 PL 95308079 A PL95308079 A PL 95308079A PL 30807995 A PL30807995 A PL 30807995A PL 178313 B1 PL178313 B1 PL 178313B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
nozzle
gas
spray nozzles
flange
spray
Prior art date
Application number
PL95308079A
Other languages
English (en)
Other versions
PL308079A1 (en
Inventor
Makiichi Ishihara
Takakazu Sunada
Shigeo Hasegawa
Naohiko Ukawa
Toru Takashina
Yukio Kita
Kouichiro Iwashita
Kousuke Yamashita
Junji Ozaki
Kaname Kaneshige
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Ind Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP06072047A external-priority patent/JP3132957B2/ja
Priority claimed from JP30868094A external-priority patent/JP3297230B2/ja
Application filed by Mitsubishi Heavy Ind Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Ind Ltd
Publication of PL308079A1 publication Critical patent/PL308079A1/xx
Publication of PL178313B1 publication Critical patent/PL178313B1/pl

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B1/00Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/0053Details of the reactor
    • B01J19/0066Stirrers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/14Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
    • B01D53/18Absorbing units; Liquid distributors therefor
    • B01D53/185Liquid distributors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
    • B01D53/48Sulfur compounds
    • B01D53/50Sulfur oxides
    • B01D53/501Sulfur oxides by treating the gases with a solution or a suspension of an alkali or earth-alkali or ammonium compound
    • B01D53/504Sulfur oxides by treating the gases with a solution or a suspension of an alkali or earth-alkali or ammonium compound characterised by a specific device
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J10/00Chemical processes in general for reacting liquid with gaseous media other than in the presence of solid particles, or apparatus specially adapted therefor
    • B01J10/002Chemical processes in general for reacting liquid with gaseous media other than in the presence of solid particles, or apparatus specially adapted therefor carried out in foam, aerosol or bubbles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/26Nozzle-type reactors, i.e. the distribution of the initial reactants within the reactor is effected by their introduction or injection through nozzles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B15/00Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
    • B05B15/60Arrangements for mounting, supporting or holding spraying apparatus
    • B05B15/65Mounting arrangements for fluid connection of the spraying apparatus or its outlets to flow conduits
    • B05B15/658Mounting arrangements for fluid connection of the spraying apparatus or its outlets to flow conduits the spraying apparatus or its outlet axis being perpendicular to the flow conduit
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S261/00Gas and liquid contact apparatus
    • Y10S261/39Liquid feeding nozzles
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S261/00Gas and liquid contact apparatus
    • Y10S261/75Flowing liquid aspirates gas

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Guides For Winding Or Rewinding, Or Guides For Filamentary Materials (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

1 . Urzadzenie do kontaktowania gazu z plynem, zawierajace wieze, przez która prze- chodzi gaz, przy czym w korpusie tej wiezy sa umieszczone dysze natryskowe do natry- skiwania plynnego roztworu zawiesiny w góre, przy czym czesc wlotowa dysz natry- skowych, ma ksztalt dzwonu, zas material dysz natryskowych stanowi kauczuk polie- terouretanowy, znamienne tym, ze pro- mien krzywizny (R) ksztaltu dzwonu czesci wlotowej dysz natryskowych (20) stanowi przynajmniej 0,2-krotnosc srednicy otworu wyladowczego dysz natryskowych (20), a uzyty do wytworzenia dysz natryskowych kauczuk polieterouretanowy ma twardosc w skali US-A wynoszaca 50 do 100. F I G. I PL PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest urządzenie do kontaktowania gazu z płynem, stosowane w wyposażeniu odsiarczającym gaz odlotowy typu mokrego lub podobnym, a w szczególności urządzenie do kontaktowania gazu z płynem, które polepsza odporność na zużycie dyszy natryskowej bez konieczności stosowania drogich materiałów i które zapewnia wysoką niezawodność i większą ekonomikę stosowania.
W obecnych latach są szeroko stosowane wyposażenia typu mokrego do odsiarczania gazu odlotowego, w których zawiesina absorbentu absorbuje zawarty w gazie odlotowym dwutlenek siarki dla usunięcia go. W tego rodzaju wyposażeniu odsiarczającym ważne jest skuteczne kontaktowanie zawiesiny absorbentu z gazem odlotowym. Z japońskiego wzoru użytkowego nr 53828/1994 jest znane urządzenie do kontaktowania gazu z płynem, które posiada ulepsz.oną skuteczność kontaktowania gazu z płynem, zmniejszoną konieczną objętość i uproszczoną konstrukcję, przy czym roztwór zawiesiny jest natryskiwany w górę korpusu wieży, w której przepływa gaz. Urządzenie to zawiera wieżę, w której korpusie są umieszczone dysze natryskowe do natryskiwania płynnego roztworu zawiesiny w górę, przy czym część wlotowa dysz natryskowych ma kształt dzwonu, zaś materiał dysz natryskowych stanowi kauczuk polieterouretanowy, względnie polietylen.
W opisanym powyżej konwencjonalnym urządzeniu do kontaktowania gazu z płynem, koszty materiału, koszty wytwarzania i koszty montażu dyszy natryskowej są wysokie dla uniknięcia pogorszenia niezawodności pracy w wyniku zużycia itd., w zależności od warunków takich jak duża wysokość kolumny zawiesiny absorbentu lub duże stężenie gipsu w zawiesinie absorbentu, co pogarsza ekonomikę pracy. Gdy kolumna zawiesiny absorbentu ma wysokość przekraczaj ącą 1 m lub gips zawarty w zawiesinie absorbentu ma stężenie przekraczające 15%, wówczas normalnie stosuje się kosztowny materiał taki jak materiał metaliczny mający dużą twardość i odporność na zużycie lub też materiał ceramiczny, co powoduje duże koszty materiałowe, koszty wytwarzania. W szczególności, gdy pożądana jest odporność na korozję, wówczas stosuje się materiał ceramiczny, zaś dla zapewnienia odporności na wstrząsy potrzebna jest szczególna konstrukcja mocująca.
W wyposażeniu odsiarczającym do kotłów spalania węgla itd., w zawiesinie absorbentu w pracy ciągłej występują stałe materiały takie jak siarczyn wapnia, siarczan wapnia (gips), i popioły lotne (pył węglowy) produktu reakcji oraz cząsteczki piasku w węglu. Tego rodzaju materiały stałe przechodzą przez dyszę natryskową tym bardziej gwałtownie, im większa jest wysokość kolumny płynu. Z tego względu materiały z tworzyw sztucznych wzmacnianych włóknami, mające niską odporność na zużycie, ulegają zużyciu w krótkim okresie czasu. Ponadto, w wyposażeniu odsiarczającym do kotłów spalania węgla itd. występująjony chloru w zawiesinie absorbentu, przez co występuje korozja stali nierdzewnej w postaci wżerów osadów, w zależności od stężenia jonów chlorkowych. Materiałem, który wytrzymuje tego rodzaju korozje są stopy na bazie niklu lub stopy na bazie tytanu. Jednakże tego rodzaju stopy są kosztowne, mają mniejszą twardość i mniejszą odporność na zużycie niż stale nierdzewne.
Gdy pożądana jest duża odporność na zużycie i odporność na korozję, wówczas dysze natryskowe wytwarzano dotychczas z materiału stanowiącego ceramikę. Jednakże ceramika jest trudna, także koszt jej wytwarzania jest duży. Ponadto ceramika ma małą odporność na wstrząsy i jest ciężka, tak że ulega łatwo pęknięciu przy mocowaniu dyszy natryskowej w rurze rozgałęźnej. Ponadto ceramiczna dysza rozpryskowa musi posiadać szczególną strukturę, tak aby wstrząsy nie były przenoszone do konstrukcji podpierającej dyszy natryskowej.
Obecnie, przy wyprowadzaniu gazu odlotowego z elektrowni cieplnej lub tym podobnej, instaluje się wyposażenie do odsiarczania gazu odlotowego dla uniknięcia zanieczyszczenia środowiska przez usuwanie S02 z gazu odlotowego.
W konwencjonalnym wyposażeniu odsiarczającym gaz odlotowy, powoduje się przepływ absorbentu S02, takiego jak zawiesina wapna, w dół w wieży absorpcyjnej, która jest wypełniona wypełniaczem takim jak żwir, zaś do wieży absorpcyjnej jest wprowadzany gaz odlotowy, tak aby przepływał w kierunku przeciwbieżnym lub współbieżnym względem zawiesiny wapna. Gazowy SO2 w gazie odlotowym zostaje rozpuszczany w zawiesinie wapna tworząc jony SO2, i reaguje z jonami Ca występującymi w zawiesinie wapna CaSO4. Poprzez usunięcie CaSO4 usuwa się SO2 z gazu odlotowego.
Jednakże w tego rodzaju konwencjonalnym wyposażeniu do odsiarczania gazu odlotowego, otrzymywany CaSO4 jest na wypełniaczu w rodzaju żwiru. Z tego względu zmniejsza się wydajność absorbowania absorbentu, i wzrasta odporność dla przepływu gazu odlotowego, co powoduje zmniejszenie wydajności odsiarczania. Usuwanie powstającego CaSO4 z wypełniacza wymaga wiele czasu i jest bardzo pracochłonne. Z tego względu istnieje potrzeba udoskonalenia urządzenia do kontaktowania gazu z płynem pracującego w oparciu o zawiesinę absorbentu i gazu odlotowego zamiast wieży absorpcyjnej typu napełnionego, która to wieża jest napełniana żwirem· lub innymi napełniaczami.
Dla opracowania tego rodzaju wieży absorpcyjnej typu natryskowego muszą być rozwiązane następujące problemy. Po pierwsze, dysza do natryskiwania zawiesiny absorbentu musi być wykonana z materiału mającego dużą odporność na zużycie, ponieważ zawiesina absorbentu ma bardzo silne własności ścierające. Dysza wykonana z metalu takiego jak stal nierdzewna lub aluminium ulega nadmiernemu zużyciu, tak że jest trudna do stosowania praktycznego. Konieczne jest stosowanie dyszy wytwarzanej z twardego materiału ceramicznego, który jest mniej podatny na zużycie, takiego jak tlenek glinu o dużej czystości, tlenek cyrkonu, węglik krzemu i węglik wolframu.
Celem wynalazku jest opracowanie urządzenia do kontaktowania gazu z płynem, mającego dysze natryskowe, posiadające dużą odporność na zużycie, odporność na korozję i odporność na wstrząsy, lekkie i niekosztowne a także zapewniające dużą niezawodność i ekonomiczność pracy.
Urządzenie do kontaktowania gazu z płynem, zawierające wieżę, przez którą przechodzi gaz, przy czym w korpusie tej wieży są umieszczone dysze natryskowe do natryskiwania płynnego roztworu zawiesiny w górę, przy czym część wlotowa dysz natryskowych ma kształt dzwonu, zaś materiał dysz natryskowych stanowi kauczuk polieterouretanowy, według wynalazku charakteryzuje się tym, że promień krzywizny kształtu dzwonu części wlotowej dysz natryskowych stanowi przynajmniej 0,2-krotność średnicy otworu wyładowczego dysz natryskowych, a użyty do wytworzenia dysz natryskowych kauczuk polieterouretanowy ma twardość w skali JIS-A wynoszącą 50 do 100.
Druga postać wykonania urządzenia do kontaktowania gazu z płynem, zawierającego wieżę, przez którą przechodzi gaz, przy czym w korpusie tej wieży są umieszczone dysze natryskowe do natryskiwania płynnego roztworu zawiesiny w górę, przy czym część wlotowa dysz natryskowych ma kształt dzwonu, zaś materiał dysz natryskowych stanowi polietylen, według wynalazku charakteryzuje się tym, że promień krzywizny kształtu dzwonu części wlotowej dysz natryskowych stanowi przynajmniej 0,2-krotność średnicy otworu wyładowczego dysz natryskowych, a użytych do wytworzenia dysz natryskowych polietylen ma średni ciężar cząsteczkowy wynoszący 1 000 000 do 4 000 000.
Część wlotowa płynu dyszy natryskowej mająca kształt dzwonu mającego promień krzywizny wynoszący 0,2 lub więcej średnicy otworu wyładowczego płynu dyszy natryskowej pozwala na uniknięcie turbulencji przepływu roztworu zawiesiny w otworze wlotowym płynu i otworze wyładowczym dyszy natryskowej, i zahamowanie zużycia powodowanego przez wytwarzanie pęcherzyków i zużycia w wyniku kawitacji niezależnie od materiału dyszy natryskowej.
Z tego względu, nawet jeżeli zastosuje się niekosztowny, lekki materiał o dużej odporności na wstrząsy, w rodzaju tworzywa sztucznego wzmocnionego włóknem, wówczas uzyska się odporność na zużycie, a także polepszy się ekonomiczność i niezawodność pracy urządzenia do kontaktowania gazu z płynem, i tym samym odpowiedniego wyposażenia.
Gdy materiał dyszy natryskowej stanowi guma polieterouretanowa mająca twardość JlS-A wynoszącą 50 do 100 lub polietylen o nadzwyczaj wysokim ciężarze cząsteczkowym, mający średni ciężar cząsteczkowy wynoszący 1 000 000 do 4 000 000, wówczas otrzyma się lekką, niekosztowną dyszę natryskową o dużej odporności na korozję i odporności na wstrząsy, ze względu na właściwości samego materiału. Jednocześnie można uzyskać dużą odporność na zużycie. Z tego względu dysza natryskowa stosowana w wynalazku posiada prostą konstrukcję podporową (może być mocowana bezpośrednio) i jest łatwa do instalowania i łatwa do formowania, jakkolwiek posiada niezawodność tak samo wysokąjak ceramiczna dysza natryskowa odnośnie odporności na zużycie i odporności na korozję, co daje znaczną ekonomikę pracy i istotne polepszenie niezawodności pracy urządzenia do kontaktowania gazu z płynem.
Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykładzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia widok boczny w przekroju, pokazujący główną część urządzenia do kontaktowania gazu z płynem według wynalazku, fig. 2 - widok ilustrujący główną część wyposażenia do odsiarczania gazu odlotowego, z zastosowaniem urządzenia kontaktującego gaz z płynem według wynalazku, a fig. 3 - widok ilustrujący główną część wyposażenia odsiarczającego gaz odlotowy, zawierającego konwencjonalne urządzenie do kontaktowania gazu z płynem.
Na fig. 1 i 2 jest przedstawione wyposażenie do odsiarczania z zastosowaniem urządzenia do kontaktowania gazu z płynem według wynalazku. Wyposażenie odsiarczające według tego rozwiązania charakteryzuje się kształtem dyszy natryskowej 20, zaś inne konfiguracje są takie same jak w konwencjonalnym wyposażeniu odsiarczającym pokazanym na fig. 3, tak, że zastosowano te same oznaczniki cyfrowe do tych samych elementów składowych, i pominięto opis tych elementów.
Na fig. 2 pokazano liczne dysze natryskowe 20 o kształcie cylindrycznym, które są umieszczone pionowo, przez przyłączenie do szczytu rury rozgałęźnej 10 w korpusie wieży 3. Jak pokazano na fig. 1, część wlotowa płynu 21 na stronie podstawowej dyszy ma kształt dzwonu, mającego promień krzywizny R, stanowiący 0,2-krotność lub więcej średnicy d otworu wyładowczego płynu (zwykle około 50 mm). W tym przypadku dysza natryskowa 20 jest wykonana z tworzywa sztucznego wzmacnianego włóknem.
178 313
W opisanym powyżej wyposażeniu odsiarczającym, nie obrobiony gaz odlotowy jest wprowadzany przez kanał 8, kontaktowany z zawiesiną absorbentu S natryskiwaną z dysz natryskowych 20 za pomocą pompy cyrkulacyjnej 4 dla absorbowania i usunięcia gazowego dwutlenku siarki z nieobrobionego gazu odlotowego, i wyładowywany przez kanał 9 jako obrobiony gaz odlotowy, co tworzy zwykłą wieżę absorp^^ji^^ o małej objętości, która oczyszcza gaz odlotowy z SOX z wydajnością usuwania tak dużąjak w przypadku konwencjonalnego wyposażenia odsiarczającego. W tym przypadku, ponieważ część wlotowa płynu 2l (jak na fig. 1) dyszy natryskowej ma kształt dzwonu mającego promień krzywizny R wynoszący 0,2-krotność lub więcej średnicy d otworu wyładowczego płynu, zatem unika się turbulencji przelewu roztworu zawiesiny S, przy otworze wlotowym płynu i otworze wyładowczym dyszy natryskowej 20 i hamuje się zużycie powodowane przez wytwarzanie pęcherzyków lub zużycie powodowane przez kawitację niezależnie od materiału dyszy natryskowej 20.
Z tego względu, jakkolwiek zastosowany może być niedrogi lekki materiał o dużej odporności na wstrząsy taki jak tworzywo sztuczne wzmacniane włóknem, można zapewnić odporność na zużycie, a także można polepszyć ekonomikę i niezawodność pracy urządzenia do kontaktowania gazu z płynem, a tym samym wyposażenia odsiarczającego.
W tabeli 1 poniżej zestawiono rezultaty badań, w których przez dysze natryskowe 20 z tworzywa sztucznego wzmacnianego włóknem jest natryskiwana zawiesina absorbentu S mająca stężenie gipsu wynoszące 20% wagowych, w warunkach, w których prędkość przepływu przy otworze wyładowczym jest ustawiana na 15 m/s i badano stan zużycia dyszy natryskowej 20 w wyniku ciągłej pracy przez 6 miesięcy (próbka nr 2 do 8). Tabela 1 stanowi również zestawienie rezultatów badań dokonanych na konwencjonalnymi dyszami natryskowymi w tych samych warunkach (próbka nr 1) dla porównania. W rozwiązaniu, w którym część wlotowa płynu 21 dyszy natryskowej ma kształt dzwonu mającego promień krzywizny R stanowiący 0,2-krotność lub więcej średnicy otworu wyładowczego płynu, występuje niewielka różnica odnośnie głębokości zużycia pomiędzy częścią wlotową płynu i otworem wyładowczym płynu, przy czym średnia głębokość zużycia wynosi około 12 mm. W przeciwieństwie do tego, dysza natryskowa o kształcie konwencjonalnym zużyła się w znacznym stopniu jako całość, przy czym głębokość zużycia wyniosła około 15 do 16 mm. Zużycie jest szczególnie duże w sąsiedztwie części wlotowej płynu, i znaleziono otwory w dyszy natryskowej o grubości ścianki 20 mm.
T abela 1
Próbka Nr Promień krzywizny powiększonej części przy wlocie płynu dyszy natryskowej Stosunek promienia krzywizny do średnicy otworu wyładowczego płynu z dyszy Wyniki obserwacji zużycia po ciągłym 6-miesięcznym badaniu
1 <0,5 <0,01 Poważne zużycie, głębokość zużycia 15-16 mm, 2 otwory przelotowe blisko części wlotowej
2 10 0,2 Równomierne zużycie od części wlotowej do otworu wyładowczego, głębokość zużycia około 11-13 mm
3 20 0,4 j.w.
4 30 0,6 j.w.
5 40 0,8 j.w.
6 50 1,0 j.w.
7 75 1,5 j.w.
8 100 2,0 j.w.
178 313
Materiałem dyszy natryskowej 20 jest kauczuk polieterouretanowy mający twardość JIS-A wynoszącą 50 do 100 lub też polietylen o nadzwyczaj wysokim ciężarze cząsteczkowym, mający średni ciężar cząsteczkowy od 1 000 000 do 4 000 000. W efekcie otrzymano lekką, niekosztowną dyszę natryskową o dużej odporności na korozję, dużej odporności na wstrząsy i dużej odporności na zużycie, jak pokazano poprzez wyniki badań zestawione w tabeli 2 poniżej.
Tak więc opracowana została dysza natryskowa, która ma prostą konstrukcję podporową lub też może być mocowana bezpośrednio i jest łatwa do instalowania i łatwa do formowania, ale która jednocześnie posiada niezawodność tak dużą jak w przypadku ceramicznej dyszy natryskowej odnośnie odporności na zużycie i odporności na korozję. Ponadto wyposażenie odsiarczające według tego rozwiązania pracuje w sposób bardzo ekonomiczny i ze znaczącym polepszeniem niezawodności.
W tabeli 2 poniżej zestawiono wyniki badań, w których z dysz natryskowych 20 z powyższego materiału natryskiwano zawiesinę adsorbentu w tych samych warunkach jak w przypadku badań zestawionych w tabeli 1, i kontrolowano stan zużycia dyszy natryskowej 20 w wyniku pracy ciągłej przez sześć miesięcy (próbka nr 1 do 10). Zarówno dla kauczuku polieterouretanowego jak i dla polietylenu o nadzwyczaj dużym ciężarze cząsteczkowym, głębokość zużycia wyniosła 0,2 mm lub mniej co ilustruje znaczące polepszenie odporności na zużycie. Porównując tabelę 2 z tabelą 1 wynika, że kauczuk polieterouretanowy mający twardość według JIS-A wynoszącą 50 do 100 lub polietylen o nadzwyczaj dużym ciężarze cząsteczkowym mający średni ciężar cząsteczkowy 1 000 000 do 4 000 000 mają większą odporność na korozję i odporność na wstrząsy niż tworzywo sztuczne wzmocnione włóknem.
Tabela 2
Próbka Nr Materiał Stosunek powiększonej części przy wlocie płynu do średnicy otworu wyładowczego płynu, wynoszącej 50 mm Wynik obserwacji zużycia po ciągłym 6-miesięcznym badaniu
1 2 3 4
1 . polietylen o bardzo dużym ciężarze cząsteczkowym (średni ciężar cząsteczkowy: 1,(000,000) 0,4 Żadnego nienormalnego zużycia, głębokość zużycia nie jest większa niż 0,2 mm
2 polietylen o bardzo dużym ciężarze cząsteczkowym (średni ciężar cząsteczkowy: 3,000,000) 0,2 j.w.
3 polietylen o bardzo dużym ciężarze cząsteczkowym (średni ciężar cząsteczkowy: 3,000,000) 0,4 j.w.
4 polietylen o bardzo dużym ciężarze cząsteczkowym (średni ciężar cząsteczkowy: 3,000,000) 1,0 j.w.
5 polietylen o bardzo dużym ciężarze cząsteczkowym (średni ciężar cząsteczkowy: 4,000,000) 0,4 j.w.
6 Kauczuk polieterouretanowy Twardość (JIS-A:50°) 0,4 j.w.
7 Kauczuk polieterouretanowy Twardość (JIS-A:80°) 0,2 j.w.
ciąg dalszy tabeli 2
1 2 3 4
8 Kauczuk polieterouretanowy Twardość (JIS-A:80°) 0,4 j.w.
9 Kauczuk polieterouretanowy Twardość (JIS-A:80°) 1,0 j/w.
10 Kauczuk polieterouretanowy Twardość (JIS-A:100°) 0,4 j.w.
Zastosowanie urządzenia do kontaktowania gazu z płynem według obecnego wynalazku nie jest ograniczone do wieży absorpcyjnej w mokrym typie wyposażenia odsiarczającego gaz odlotowy typu utleniania zbiornikowego jest opisano powyżej ponieważ oczywiste jest, że urządzenie to może być zastosowane w rozmaitych dziedzinach, w których stosowany jest proces, przy którym występuje potrzeba skutecznego kontaktowania gazu z roztworem zawiesiny. Tak samo, jakkolwiek w pokazanym przykładzie urządzenie jest zastosowane w wieży absorpcyjnej w mokrym typie wyposażenia do odsiarczania gazu odlotowego, to jednak można zastosować rozmaite typy urządzeń. Przykładowo, urządzenie może być zastosowane do uproszczonego wyposażenia odsiarczającego typu wbudowanego stosu, w którym stos i wieża absorpcyjna stanowią całość, dla powiększenia ekonomiczności i niezawodności pracy.
Na fig. 3 pokazano typowe wyposażenie do odsiarczania gazu odlotowego (jedynie główną część z zastosowaniem tego rodzaju urządzenia do kontaktowania gazu z płynem).
To wyposażenie do odsiarczania gazu odlotowego jest utworzone przy spodzie wieży absorpcyjnej 1. Wyposażenie odsiarczające gaz odlotowy zawiera zbiornik 2, do którego jest dostarczana zawiesina absorbentu S, składająca się przykładowo z kamienia wapiennego, ze źródła dostarczania zawiesiny (niepokazanego), pompę cyrkulacyjną 4, która przekazuje zawiesinę w zbiorniku 2 do korpusu wieży 3, utworzonego przy górnej części wieży absorpcyjnej 1 dla spowodowania kontaktu zawiesiny z gazem odlotowym, i mieszadło 7, które jest podparte na stropie zbiornika 2 za pomocą obrotowego wału 5, obracane w zawiesinie za pośrednictwem silnika 6. W górnej części korpusu 3 wieży absorpcyjnej 1 i na górnym końcu zbiornika 2 znajdują się odpowiednio kanały 8 i 9, które tworzą wlot lub wylot gazu odlotowego, tak, że gaz odlotowy przepływa w korpusie wieży 3 poprzez przestrzeń nad powierzchnią płynu w zbiorniku 2.
W korpusie 3 wieży jest umieszczona rura rozgałęźna 10, podłączona do końcówki wyładowczej pompy cyrkulacyjnej 4. Na tej rurze rozgałęźnej 10 utworzone są liczne dysze natryskowe 11 dla natryskiwania zawiesiny absorbentu S w górę w postaci kolumny płynu. Otrzymuje się w ten sposób urządzenie kontaktujące gaz z płynem, w którym zawiesina absorbentu S zostaje skutecznie kontaktowana z gazem odlotowym. Jakkolwiek w urządzeniu do kontaktowania gazu z płynem zastosowano kilka rur rozgałęźnych 10 we wspomnianym wyżej wyposażeniu odsiarczającym, to jednak rury te nie zawsze są umieszczone w tej samej płaszczyźnie. Część wlotowa płynu w konwencjonalnej dyszy natryskowej 11 ma kształt mający ostre naroże. Ponadto, gdy kolumna płynu zawiesiny absorbentu S ma wysokość nie większą niż 1 m a gips w zawiesinie absorbentu ma stężenie nie większe niż 15%, wówczas jako materiał konwencjonalnej dyszy natryskowej 11 jest stosowane tworzywo sztuczne wzmocnione włóknem. W bardziej ostrych warunkach, stosuje się normalnie materiał metaliczny mający wysoką twardość i odporność na zużycie lub też materiał ceramiczny taki jak tlenek glinu, tlenek cyrkonu, węglik wolframu, lub węglik krzemu.
W tego rodzaju urządzeniu, nieobrobiony gaz odlotowy jest wprowadzany przykładowo kanałem 8, kontaktowany z zawiesiną absorbentu S natryskiwaną z dysz natryskowych 11 za pomocą pompy cyrkulacyjnej 4 dla absorbowania i usuwania gazowego dwutlenku siarki w nieobrobionym gazie odlotowym i wyładowywany przez kanał 9 jako obrobiony gaz odlotowy. Zawiesina absorbentu S, która jest natryskiwana z dysz natryskowych 11 i przepływa w dół absorbując gazowy dwutlenek siarki, kontaktuje się z licznymi pęcherzykami wytwarzanymi
178 313 przez środki dostarczające powietrze (niepokazane) przy jednoczesnym mieszaniu za pomocą mieszadła 7 w zbiorniku 2 i utlenia się, po czym jest wyprowadzana na zewnątrz jako gips (produkt pośredni).
Jednocześnie, zawiesina absorbentu S natryskiwana z dysz natryskowych 11 przechodzi w górę w postaci kolumny płynu, jest rozpraszana przy szczycie wieży i opada. Opadająca zawiesina absorbentu S i przechodząca w górę zawiesina absorbentu S uderzają o siebie i tworzą drobne cząsteczki. Z tego względu, ta wieża absorpcyjna posiada dużą powierzchnię kontaktu gazu z płynem na objętość jednostkową jakkolwiek posiada prostą konstrukcję w porównaniu z wieżą absorpcyjną typu wypełnianego. Tak samo gaz odlotowy jest skutecznie przechwytywany przez przepływ zawiesiny absorbentu S w sąsiedztwie dyszy tak, że zawiesina absorbentu i gazów odlotowych zostają skutecznie zmieszane, co daje dużą wydajność kontaktowania gazu z płynem. Otrzymuje się w ten sposób prostą więżę absorpcyjną 1 o małej objętości, która oczyszcza gaz odlotowy z dużą skutecznością usuwania SOX.
Ponadto, wysokość kolumny płynu w postaci zawiesiny absorbentu S natryskiwanej z dysz natryskowych 11 może być regulowana przez ustawianie ciśnienia wyładowania pompy cyrkulacyjnej 4. Z tego względu skutecznie można zmieniać wydajność kontaktu gazu z płynem, a zatem wydajność usuwania SOX.
178 313
F I G. 2
F I G. 3
178 313
FIG.!
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz. Cena 2,00 zł.

Claims (2)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Urządzenie do kontaktowania gazu z płynem, zawierające wieżę, przez którą przechodzi gaz, przy czym w korpusie tej wieży są umieszczone dysze natryskowe do natryskiwania płynnego roztworu zawiesiny w górę, przy czym część wlotowa dysz natryskowych ma kształt dzwonu, zaś materiał dysz natryskowych stanowi kauczuk polieterouretanowy, znamienne tym, że promień krzywizny (R) kształtu dzwonu części wlotowej dysz natryskowych (20) stanowi przynajmniej 0,2-krotność średnicy otworu wyładowczego dysz natryskowych (20), a użyty do wytworzenia dysz natryskowych kauczuk polieterouretanowy ma twardość w skali JIS-A wynoszącą 50 do 100.
  2. 2. Urządzenie do kontaktowania gazu z płynem, zawierające wieżę, przez którą przechodzi gaz, przy czym w korpusie tej wieży są umieszczone dysze natryskowe do natryskiwania płynnego roztworu zawiesiny w górę, przy czym część wlotowa dysz natryskowych ma kształt dzwonu, zaś materiał dysz natryskowych stanowi polietylen, znamienne tym, że promień krzywizny (R) kształtu dzwonu części wlotowej dysz natryskowych (20) stanowi przynajmniej 0,2-krotność średnicy otworu wyładowczego dysz natryskowych (20), a użyty do wytworzenia dysz natryskowych polietylen ma średni ciężar cząsteczkowy wynoszący 1 000 000 do 4 000 000.
    * * *
PL95308079A 1994-04-11 1995-04-11 Urządzenie do kontaktowania gazu z płynem PL178313B1 (pl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06072047A JP3132957B2 (ja) 1994-04-11 1994-04-11 セラミックス製ノズルの支持構造
JP30868094A JP3297230B2 (ja) 1994-12-13 1994-12-13 気液接触装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL308079A1 PL308079A1 (en) 1995-10-16
PL178313B1 true PL178313B1 (pl) 2000-04-28

Family

ID=26413173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL95308079A PL178313B1 (pl) 1994-04-11 1995-04-11 Urządzenie do kontaktowania gazu z płynem

Country Status (9)

Country Link
US (2) US5605655A (pl)
EP (3) EP0676230B1 (pl)
KR (1) KR0158258B1 (pl)
CN (2) CN1072518C (pl)
DK (3) DK0676230T3 (pl)
ES (3) ES2148462T3 (pl)
PL (1) PL178313B1 (pl)
TR (1) TR28904A (pl)
TW (1) TW259725B (pl)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3025147B2 (ja) * 1994-05-17 2000-03-27 三菱重工業株式会社 湿式排煙脱硫装置
DE69526030T2 (de) * 1994-06-13 2002-11-14 Chiyoda Corp., Yokohama Gasdispersionsrohr zum gas-flüssigkontakt und diese anwendende vorrichtung
PL183927B1 (pl) * 1996-02-01 2002-08-30 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Układ odsiarczania gazu spalinowego
JP3382778B2 (ja) * 1996-06-04 2003-03-04 三菱重工業株式会社 気液接触装置
EP0878221B1 (de) * 1997-05-16 2003-11-05 Sulzer Chemtech AG Verteilvorrichtung für eine Kolonne
US7143434B1 (en) * 1998-11-06 2006-11-28 Seungyup Paek Video description system and method
KR20020035273A (ko) * 2000-11-06 2002-05-11 임정홍 오염기체 정화장치용 액체분사장치
WO2003051031A2 (en) * 2001-12-06 2003-06-19 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Method and apparatus for planarization of a material by growing and removing a sacrificial film
EP1532812A4 (en) * 2002-04-26 2007-10-10 Univ Columbia OPTIMAL VIDEO TRANSCODING METHOD AND SYSTEM BASED ON UTILITY PROGRAM FUNCTION DESCRIPTERS
US6672518B1 (en) 2002-06-12 2004-01-06 Ronald D. Mudge Spinning disc resin atomizer
JP2005000837A (ja) * 2003-06-12 2005-01-06 Kyoritsu Gokin Co Ltd スパイラルノズル
US20050046052A1 (en) * 2003-07-11 2005-03-03 Kenichi Okada Exhaust gas treating tower
JP2006122862A (ja) * 2004-11-01 2006-05-18 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 排ガス処理装置
WO2006096612A2 (en) * 2005-03-04 2006-09-14 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York System and method for motion estimation and mode decision for low-complexity h.264 decoder
DE102006003317B4 (de) * 2006-01-23 2008-10-02 Alstom Technology Ltd. Rohrbündel-Wärmetauscher
US7465241B2 (en) * 2007-03-23 2008-12-16 Acushnet Company Functionalized, crosslinked, rubber nanoparticles for use in golf ball castable thermoset layers
WO2009126785A2 (en) * 2008-04-10 2009-10-15 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Systems and methods for image archaeology
WO2009155281A1 (en) * 2008-06-17 2009-12-23 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York System and method for dynamically and interactively searching media data
US9557119B2 (en) 2009-05-08 2017-01-31 Arvos Inc. Heat transfer sheet for rotary regenerative heat exchanger
US8608833B2 (en) 2010-06-09 2013-12-17 Uop Llc Selective absorption of gas components in co-current contacting apparatuses
US9200853B2 (en) 2012-08-23 2015-12-01 Arvos Technology Limited Heat transfer assembly for rotary regenerative preheater
US10175006B2 (en) 2013-11-25 2019-01-08 Arvos Ljungstrom Llc Heat transfer elements for a closed channel rotary regenerative air preheater
CN104771998A (zh) * 2015-03-23 2015-07-15 武汉奇斯科技有限公司 一种消除脱硫塔突发事件的喷淋装置
US10094626B2 (en) 2015-10-07 2018-10-09 Arvos Ljungstrom Llc Alternating notch configuration for spacing heat transfer sheets
CN106964249A (zh) * 2017-04-06 2017-07-21 江苏国强环保集团有限公司 一种新型脱硫塔陶瓷喷淋管
JP2019188291A (ja) * 2018-04-20 2019-10-31 三菱日立パワーシステムズ株式会社 脱硫装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3953555A (en) * 1974-05-06 1976-04-27 Envirex Inc. Diffuser connector for aeration header
JPS5953828A (ja) * 1982-09-21 1984-03-28 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 画像記録複写装置
DE8506586U1 (de) * 1985-03-07 1987-03-05 Wuppertal Muellverbrennung Balgenwaschvorrichtung
GB2196877B (en) * 1986-11-05 1990-11-14 Acme Marls Ltd Nozzle assemblies.
JPS63151412A (ja) * 1986-12-16 1988-06-24 Nanba Press Kogyo Kk 発泡体製品のモ−ルドレス成形方法
JP2617544B2 (ja) * 1988-11-14 1997-06-04 三菱重工業株式会社 気液接触方法
US4960601A (en) * 1989-06-19 1990-10-02 Amf Machinery Systems, Inc. Method for pumping, homogenizing and dividing dough and the like
US5071331A (en) * 1990-08-27 1991-12-10 Cabot Safety Corporation Mold for foam products
DE4109567C3 (de) * 1991-03-22 1997-03-13 Precitec Gmbh Einrichtung zur Bearbeitung eines Werkstücks mit Hilfe eines Laserstrahls
US5126080A (en) * 1991-04-18 1992-06-30 Dri Steem Humidifier Company Rapid absorption steam humidifying system
US5338496A (en) * 1993-04-22 1994-08-16 Atwood & Morrill Co., Inc. Plate type pressure-reducting desuperheater

Also Published As

Publication number Publication date
DK0968749T3 (da) 2002-09-09
TW259725B (pl) 1995-10-11
CN1072518C (zh) 2001-10-10
DK0676230T3 (da) 2000-11-13
CN1124173C (zh) 2003-10-15
CN1124671A (zh) 1996-06-19
CN1282623A (zh) 2001-02-07
KR0158258B1 (ko) 1998-11-16
EP0968750A1 (en) 2000-01-05
KR950028811A (ko) 1995-11-22
PL308079A1 (en) 1995-10-16
EP0676230A2 (en) 1995-10-11
EP0676230B1 (en) 2000-07-12
TR28904A (tr) 1997-07-17
US5605655A (en) 1997-02-25
ES2148462T3 (es) 2000-10-16
US5616290A (en) 1997-04-01
ES2180247T3 (es) 2003-02-01
EP0968749A1 (en) 2000-01-05
EP0676230A3 (en) 1996-06-26
EP0968750B1 (en) 2002-07-17
EP0968749B1 (en) 2002-07-17
ES2181354T3 (es) 2003-02-16
DK0968750T3 (da) 2002-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL178313B1 (pl) Urządzenie do kontaktowania gazu z płynem
US5674459A (en) Hydrogen peroxide for flue gas desulfurization
DK174985B1 (da) Apparat af afsvovling af røggas ved vådbehandling
CA2177309C (en) Process for the desulfurization of sulfurous acid gas-containing waste gas
JP2006511324A5 (pl)
JP4734537B2 (ja) 排煙脱硫装置の吸収塔
EP0712655A1 (en) Gas-liquid contact gas dispersion pipe, and gas-liquid contact method and apparatus using the same
EP0811415B1 (en) Gas-liquid contact apparatus
JP4544017B2 (ja) 散気処理装置
CN207025036U (zh) 管式串级空气射流氧化和搅拌装置
CN206103695U (zh) 一种脱硫吸收塔
KR20230126271A (ko) 소화가스 재활용 시스템
JP3868290B2 (ja) 気液接触装置および気液接触装置用スプレーノズル
US20220134272A1 (en) Compact venturi scrubber and method to treat gas streams utilizing the compact venturi scrubber
CN1266046C (zh) 烟气脱硫中间产物-亚硫酸钙的强制氧化方法及其装置
CN107983139A (zh) 一种用于焦化厂烟气脱硫的系统
RU2715844C1 (ru) Устройство для абсорбции отдельных компонентов в газах
JP3297230B2 (ja) 気液接触装置
MXPA95001696A (en) Gas liquid contact apparatus
CN111203075A (zh) 气动乳化处理装置
JPH0975662A (ja) 排ガス湿式処理装置
MXPA97004117A (en) Combusti gas washing machine
CN105688628A (zh) 气动水处理脱硫塔