PL163150B1 - Sposób powlekania szkla PL PL PL - Google Patents
Sposób powlekania szkla PL PL PLInfo
- Publication number
- PL163150B1 PL163150B1 PL89281832A PL28183289A PL163150B1 PL 163150 B1 PL163150 B1 PL 163150B1 PL 89281832 A PL89281832 A PL 89281832A PL 28183289 A PL28183289 A PL 28183289A PL 163150 B1 PL163150 B1 PL 163150B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- coating
- glass
- flow
- gas
- stream
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 119
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 108
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 105
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims abstract description 63
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 124
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- LHLMOSXCXGLMMN-CLTUNHJMSA-M [(1s,5r)-8-methyl-8-propan-2-yl-8-azoniabicyclo[3.2.1]octan-3-yl] 3-hydroxy-2-phenylpropanoate;bromide Chemical compound [Br-].C([C@H]1CC[C@@H](C2)[N+]1(C)C(C)C)C2OC(=O)C(CO)C1=CC=CC=C1 LHLMOSXCXGLMMN-CLTUNHJMSA-M 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 abstract description 9
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 abstract description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 abstract 1
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 57
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000004350 Strabismus Diseases 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282994 Cervidae Species 0.000 description 1
- 108010062745 Chloride Channels Proteins 0.000 description 1
- 102000011045 Chloride Channels Human genes 0.000 description 1
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 1
- 241001529559 Rhipidura Species 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 230000037406 food intake Effects 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 239000013529 heat transfer fluid Substances 0.000 description 1
- 239000002362 mulch Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000010944 pre-mature reactiony Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/453—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/241—Doped oxides with halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Insulating Bodies (AREA)
- Table Devices Or Equipment (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
1. Sposób powlekania szkla, obejmujacy po-- krywanie przemieszczajacej sie wstegi goracego szkla powloka wytwarzana z dwóch gazowych reagentów reagujacych ze soba wzajemnie, w którym wytwarza sie pierwszy strumien pierwszego reagenta gazowego i wprowadza sie go wzdluz powierzchni goracego szkla w pierwszym kierunku, równoleglym do kierun- ku przemieszczania szkla, po czym wytwarza sie drugi strumien drugiego reagenta gazowego i wprowadza sie go do pierwszego strumienia w drugim kierunku, nachylonym pod katem do pierwszego kierunku i do powierzchni szkla, a nastepnie przeprowadza sie po- laczony strumien reagentów gazowych wzdluz powie- rzchni goracego szkla przez strefe powlekania, znamienny tym, ze wprowadza sie drugi strumien drugiego reagenta gazowego jako strumien burzliwy w drugim kierunku, a nastepnie przeprowadza sie polaczony strumien reagentów gazowych jako stru- mien burzliwy przez strefe powlekania. Fig 1 PL PL PL
Description
Przedmiotem wynalazku jest spusob powlekania szkła, a zwłaszcza sposób powlekania szkła, w którym wytwarza się powłoką na przemieszczanej wstądze szkła, z co najmniej dwóch gazowych reagentów reagujęcyh ze sobą.
ι/iadomo, ze powłoki o ządanych właściwościach dla zastosowania archieektonizzaego mogą być wytwarzane przy użyciu gazowych reagentów, które rozkładają się na gorącej powierzchni szkła. Tak wiąc powłoki krzemowe, użyteczne jako powłoki reagujące przechodzenie energii słonecznej , zostały wytworzone przez pirolzzę gazu zawierającego silany na gorącej powierzchni szkła. Ponad to wiele propozycci wytwarzania innych powłok regulujących przechodzenie energii świetlnej i zapewniejących małą emisyjność /silne odbijanie promieniowania podczerwonego/ z innych odpowiednich reagentów gazowych. Niestety, w prak tyce przemysłowej trudno było osiągnąć wystaczające równomierne powłoki o ządanej grubości.
163 150
O>!e patentowy Wielkiej Brytanii nr 1 454 377 opieuje sposób, w którym gazowe mieszanina zawierająca przanyjmniej Jeden powlekający reagent Jeet kierowana poprzez dyezę na powlekane podłoże, przy czym lcczba Reynoldsa gazu u wylotu dyszy wyno6i przynajmniej 2500. Powlekający reagent w gazie nośnym jest kier^i^wany na podłoże pod kątem 90° do powierzchni podłoża poprzez podłużną dyszę przebiegającą na całej szerokości pokrywanej wstęgi podłoża, a zużyty gaz powlekający jest wyciągany poprzez kołpaki podciśnieniowe po obu stronach dyszy. Gaz powlekający nie Jest przepuszczany równolegle do powierzchni szkła i nie przewiduje się żadnego specjalnego zastosowania ńeszanm reagentów, które nadają się do reagowania ze sobą przed oeiągnięceem gorącej powierzchni szkła.
Według opisu patentowego wielkiej Erytanm nr 1 507 996 równomierną powłokę nakłada aię przy użyciu gazu biorącego udział w reakcji przez powodowanie przepływu tego gazu równolegle do powierzchni szkła w warunkach przepływu warstwowego. Znowu nie przewiduje się tu specjalnego etosowenia mieszanin reagentów, które mogą reagować ze sobą przed osiągnięceem powierzchni szkła.
Opis Patentowy Wielkiej Brytanii nr 1 516 032 opisuje eposób powlekania szkła przy użyciu czynnika płynnego zawierającego jeden lub kilka reagentów, które mogą być w poetaci ciekłej lub gazowee· przy czym czynnik taki jest kierowany na gorące szkło Jako strumień lub strumienie, z których przynajmniej jeden ma składową prędkość w kierunku ruchu wstęgi i jest nachylany do powierzchni wstęgi pod kątem /lub kątem średnim/ nie większym niż 60°. Zastosowanie tego wynalazku daje powłokę charakteryzującą się stykającą się ze szkłem warstwą o jednorodnej strukturze regularnego rozkładu kryształów. Tam, gdzie do reagowania ze sobą potrzebne są dwa lub więcej składników, mogą być one dostarczane jako oddzielne strumienie poprzez sąsiednie dysze, z których każda służy do podawania strumienia reagenta pod kątem ostrym do powierzchni szkła, tak że reagenty dochodzą do styku ze sąbą w sąsiedztwie szkła. Eweti^aln:ie można stosować pojedynczą dyszę dla doprowadzania pierwszego strumienia reagenta, podczas gdy strumień powietrza służącego jako drugi reagent przepływa do strefy reakcji pod dziaj^^nem pędu i na skutek nachylenia pierwszego strumienia. Kanał wylotowy może być zastosowany za strefą powlekania, aby wyciągnąć gaz ze strefy pok^w^l^^r^ia, a ponadto może byc zastosowany kołpak, który wraz z poi^K^rzchnią szkła tworzy kanał przepływu nad szkłem w kierunku z obszaru uderzenia strumieni płynu w szkło.
OJis patentowy 'wielkiej Brytanii nr 1 524 326 opisuje sposób, w którym wymuszony jeet przepływ czynnika gazowego wzdłuż powlekania podłaza jako warstwa zasadniczo pozbawiona turbulencji wzdłuz kanału przepływu utworzonego częściowo przez powierzchnię szkła. Ten kanał przepływu prowadzi do kanału wylotowego, poprzez który gaz resztkowy jest wyciągany od szkła. Gazowe reagenty są wprowadzane w ten kanał przepływu, jak w opisie patenonym Wielkiej Brytanii nr 1 516 032, jako atruManle pod kątem ostrym do szkła.
tyis patentowy 'Wielkiej Brytanii nr 2 026 454 B dotyczy zwłaszcza sposobu wytwarzania pow^ki z tlenku cyny na gorącej powlerzchtl szkła przy użyciu czynnika gazowego zawierającego czterochlorek cynowy w stężeniu idpowίadajęcym ciśnieniu częst^wamu przynajmniej 2,5 x 10“° at i parę wodną w stężeniu idpowladdJęcym ciśnieniu cząs^^emu przynajmniej 1C x 10“° at.
w szczególnie korzystnym przykłaozie wykonania str^unien azotu stanowiącego gaz nośny, zawierający parę czterochlorku cynowego, jest kierowany wzdłuż powierzchni pokrywanego szkła, a strumień powietrza zawierającego parę wodną doprowadzany jest do tego strumienia w miejscu, gdzie przepływa on wzdłuz wymienionej powierzchni. Czynnik domieszkujący, na przykład fluorowodór, doprowadzać ao powierzchni podłoża oddzielnie lub zmieszany z wilgonnym powietrzem. Strumienie gazu są korzystnie doprowadzane do pomerzchni szkła pod kątern ostrym mniejszym niz 45° i są zmuszane do przepływu wzdłuz szkła w warstwie za sadniczo pozbawionej turbulencji w^<^i;uz kanału przepływu, który utworzony jest częściowo przez powierzchnię szkła i prowadzi do kanału wylotowego, poprzez który resztkowy gaz jest wyciągany od szkła.
163 150
O>i8 patentowy Wielkiej Brytanii nr 2 044 137 A opisuje dyszę przeznaczony do stosowania przy kierowaniu strumieni gazowego reagenta na goręcę powierzchnię powlekanego szkła. Aby uniknęć przedwczesnej reakcji zastosowanych gazów powwekajęcych, na przykład czterochlorku cynowego i pary wodnej, dysza zawiera trzy sęsiednie kanały, z których każdy ma otwór wylotowy w kształcie proetokętnej szczeliny. Kanały te sę usytuowane jeden obok drugiego tak, ze ich prostokętne szczeliny sę do siebie równoległe, a ścianki boczne tworzęce kanały przebiegaję zbieżnie ku wyimaginowanej linii prostej wspólnej dla wszystkich trzech kanałów. Podczas działania dysza jeet ustawiona tak, że szczeliny przebiegaję w poprzek wstęgi goręcego szkła, które jest pokrywane, a ^^ι^ι^ηι^θ wyimaginowana prosta leży zasadniczo w płaszczyźnie szkła. Odddielnie strumienie laminane reagenta przepływaję z kanałów i uderzaję w szkło wzdłuż wymienionej wyimaginowanej prostej. Odległość pomiędzy dyszę a szkłem można nieco zmejszyć w praktyce wytwarzajęc stosunkowo intensywnę lokalny turbulencję tam, gdzie strumienie gazu uderzaję w szkło, przez co wspomaga się mieszanie. Resztkowe gazy sę wycięgane ze strefy powlekanie przez kanały wysięgowe przed i za dyszę / w kierunku przepływu/'.
Opis patentowy Wielkiej Brytanii nr 2 113 120 B opisuje mooyfikecję dyszy przedstawionej w opisie patenliwym Wielkiej Brytanii nr 2 044 137 A, gdzie strona czołowe dyszy przy szkle jest ukształliwane tak, aby powodowała przepływ gazów z dyszy głównie w kierunku tylnym ^^glęc^^m kierunku przepływu. Strumienie gazu, które sę laliearee, gdy opuazczeję kanały dyszy, sę odchylone w kierunku ruchu szkła i zasadniczo równolegle do szkła. Uderzaję zatem w szkło łagodniej niż w procesie według opisu patentowego Wielkiej Brytanii nr 2 084 137 A, a stopień turbulencji Jest ilnneJszony, co pomaga w zredukowaniu braku pokrycia, Jaki czasami występuje we wcześniejszych urzędzeniach.
Według alJeen8fiwnegl sposobu opracowanego przez tych samych wynalazców co ορίβ patentowy Wielkiej Brytanii nr 2 044 137 A i opisanego w europejskim opisie patθnliwyl nr O 060 221, strumienie powlekajęcego gazu sę zmuszane do łęczenia się nawzajem przed zetknięciem się z podłożem albo na skutek tego, że poruszaję się z różnymi prędkościami, albo p^zez kierowanie ich je^en na drugi pod kętem większym niż 30o, ał.bo ^przez połęcieeie powyższych sposobów, tak aby spowodować prawie natychmiastowe w^i^mi^t^^c^i^ie na skutek zjawiska mieszania uderzeniowego. W opisanych przykładach wykonanie gazy bioręc usział w reakcji sę doprowadzane poprzez zestaw równoległych dysz kończęcych się bardzo blisko powierzchni szkła, przy czym każda z nich zawiera środkowę rurkę dla pierwszego gazu bioręcego udział w reakcji i drugę współosiowę rurkę dla drugiego gazu bioręcego udział w reakcji. Przegrody w tych rurkach nadaję pίeiwszelu i drugiemu gazowi bioręcemu udział w reakcji przeciwstawny ruch obrotowy, tak ze strumienie gazu spotykaję się u wylotu dyszy i sę meszanl zasadniczo natychmiast zanim którykolwiek gaz zetknie się ze szkłem.
Każda dysza zawiera ponadto trzecię rurkę współosiowę z pierwszymi dwiema rurkami i służęcę do usuwania zużytych gazów bioręcych udział w reakcji ze strefy reakeci.
Według innego sposobu opisanego w zgłoszeniu patenliwym Wielkiej Brytanii nr 2 184 748 A prekursor potoki i gaz utleniajęcy wprowadzane sę w strefę mieszania znacznie powyżej szkła przy przednim końcu komory powlekania /względem kierunku przepływu/. Do strefy mieszania doprowadza się ciepło, a prekursor potoki i gaz utlemajęcy sę starannie mszane w strefie uszania nad podłożem, ale na takiej wysokosśi, ze powstawanie powłoki rozpoczyna się z zasadniczo Jednorodnej mieszaniny par. M.lsiaeiea ta jest następnie zmuszana do przepływu nieprzerwanie przez komorę powlekania w styku z górnę powierichelę szkła. Korzystne jest, by konstrukc ja stropu zmifijszała swę wysokość w kierunku zgodnym z przepływem, na skutek czego następuje dławienie przepływu pary wzdłuz komory powlekania, w pewnych korzystnych przykładach wykonania konstrukcja sufitu obniża się nad szkłem wzdłuz krzywej w kierunku do tylnej części koiny. To, jak stwierdzono, wspomaga gładki przepływ zasadniczo do dołu /w kierunku przepływu,/ pory z prekursorem w l(llorie powwekania, co jest korzystne dla jednorodności pn^stesjęcej powłoki. Korzystnie konora powlekania ma długość przynajmniej 5 metrów. Zastosowanie takiej długiej komory powlekania jest szczególnie
163 150 korzystne dla zwiększenia wydajności powlekania przy tworzeniu stosunkowo grubych powłok na szybko poruszajęcym aię podłożu takim jak wstęga świeżo utworzonego płynnego szkła.
Pomno wszystkich omówionych powyżej dotychczasowych propozycj zgłaszajęcy nie znaję żadnego procesu z zastosowaniem gazów, który jest wykorzystywany przemysłowo do wytwarzania powłok grubszych niz 200 nm na poruszajęcej się wstędze szkła.
Celem wynalazku było opracowanie sposobu, który pozwala uniknęć konieczności stosowania wielokrotnych dysz majęcych tendencję do zatykania się, a jednocześnie pozwalajęcego wytwarzać jednorodne powłoki o grubości większej niz 200 nm z mieszaniny gazowych reagentów na goręcej wstędze płynnego szkła bez konieczności stosowania wspomnianych powyżej długich komór powlekania.
Stwierdzono, że stosunkowo grube powłoki /powyżej 200 nm/ można korzystnie wytwarzać w stosunkowo krótkiej komorze powlekania poprzez proces, w którym meszaninę gazów bioręcych udział w reakcji zmusza się do przepływu wzdłuż powierzchni goręcego szkła w ogólnym kierunku zasadniczo równolegle do kierunku ruchu szkła w przepływie burzlwwym.
Spoeób powlekania szkła, według wynalazku, obejmujęcy pokrywanie przemieszczajęcej się wstęgi goręcego szkła powłokę wytwarzanę z dwóch gazowych reagentów reagujęcych ze sobę wzajemnie, w którym wytwarza 6ię pierwszy strumień pierwszego reagenta gazowego i wprowadza się· go wzdłuż powierzchni goręcego szkła w piewwszym kierunku, równoległym do kierunku przemieszczania szkła, po czym wytwarza się drugi strumień drugiego reagenta gazowego i wprowadza się go do pierwszego strumienia w drugim kierunku, nachylonym pod kętem do pierwszego kierunku i do powierzchni szkła, a następnie przeprowadza się połęczony strumień reagentów gazowych wzdłuz powierzchni goręcego szkła przez strefę powlekanie, charakteryzuje się tym, ze wprowadza się drugi strumień drugiego reagenta gazowego jako strumień burzliwy w drugim kierunku, a następnie przeprowadza się połęczony strumień reagentów gazowych jako strumień burzlwwy przez strefę powlekania.
Korzystnie podczas przeprowadzania strumienia przez strefę powlekania odcięga się zużyty gaz znad powierzchni goręcego szkła.
Korzystnie wprowadza się drugi reagent gazowy pod Itętem oltoło 9°° do kierunku przepływu pierwszego reagenta gazowego i do powierzchni szkła.
Korzystnie w połęczonym strumieniu utrzymuje się liczbę Reynoldsa , co najmniej 6000.
Korzystnie jako pierwszy reagent gazowy wprowadza się chlorek cynowy.
Korzystnie wraz z drugim reagentem gazowym bioręcym udział w reakcji wprowadza się parę wodnę.
Korzystnie w drugim reagencie gazowym wprowadza się jako domieszkę fluorowodór. Korzystnie połęczony strumień przeprowadza się poprzez strefę powlekania pod wpływem pode i śnienia wytworzonego przy tylnym końcu strefy powlekania.
Korzystnie połęczony strumień reagentów gazowych przeprowadza się przez strefę powlekania do utworzenia powłoki o grubości co najmniej 200 nm.
Zarówno pierwszy jak i drugi przepływ może zawierać Jeden lub kilka reagentów powlekajęcych i gaz nośny, na przykład azot lub powietrze, chociaż pożędane jest unikane mieszania, w plewwszym lub drugim przepływie, gazów, które będę reagować ze sobę i wytwarzać nepozędany osad w postaci ciała stałego na szkle lub na urzędzeniu do powlekana zaum pierwszy i drugi przepływ zmieszaję się ze sobę.
Drugi przepływ tworzony jest jako przepływ burzliwy, gdyż stwierdzono, ze jest to konieczne dla uzyskania zadawalajęcego stopnia mieszania z piewwszym przepłwwem, który jest juz w styku ze szkłem. Turbulencja drugiego przepływu powoduje szybkie mtszanit się obu gazów i nolina osadzanie zadowalajęco jednorodnej powwoki, w krótkiej strefie powlekana jak omówiono poniżaj.
Użyte tu określenie przepływ burzliwy oznacza przepływ, w którym zmiany prędkości i kierunku, które sę przypadkowe w czasie i w przestrzeni, sę nałożona ii średnie warunki przepływu. Żędany przepływ burz lwy m^iżna uzyskać przez działanie przy stosunkowo dużej lcczbie Reynoldsa /zwykle przynajmniej 2500/ lub przez działanie przy nieco mniejszej liczbie Reynoldsa i poddawanie przepływu wystarczaj^mu zakończeniu w górnej strefie przepły6
163 150 wu. eby zapewnić burzlwwość. Chociaż można stosować liczbę Reynoldsa poniżej 2500, pod warunkiem że przepływ poddany jeet wystarczajęcym zakłócenOom w swej górnej strefie, to zwykle potrzebna będzie liczba Reynoldsa przynajmniej 1700 dla uzyskania żjdanej turbulencji, chociaż przepływ, bui^zlwy można uzyskać nawet przy mniejszych liczbach Reynoldsa jeżeli stosuje się wystarczające ścinanie.
Połęczony strumień będzie zwykle mieć liczbę Reynoldsa przynajmniej 2500, a korzrzystme przynajmniej 6000.
Liczba Reynoldsa, R, jest wielkością bezwymiarowa. Dla gazu przepływającego poprzez kanał można ję obliczyć ze wzoru.
Liczba Reynoldsa = W · θ' gdzie w = prędkość przepływu gazu w kanale
C = gęstosć gazu w kanale = dynamiczna lepkość gazu płynęcego w kena.le L = hydrauliczna średnica kanału * = 4 x pole przekroju poprzecznego kanału zwilżany obwód ' kanału
Pierwszy przepływ może być przepływem burzHwym lub warsw^owym. 0e6t on korzystnie zgodny z kierun^en ruchu szkła, a przy swym ogólnym kierunku zasadniczo równoległym do kierunku ruchu szkła może on być nieco zbieżny do szkła lub rozbieżny od azkła. Ponadto nie jest istotne, by połączony przepływ był dokładnie równoległy do szkła, na przykład średni przepływ szkła może być zbieżny nieco do szkła lub rozbieżny nieco od szkła, pod warunkiem, ze jest on zasadniczo zgodny z kierunkemm ruchu szkła lub przeciwny do tego kierunku i styka się ze szkłem w strefie powlekania.
Należy zasadniczo uniemożliwić przepływ wsteczny drugiego gazu bioręcego udział w reakcji w piewwszym przepływie pierwszego gazu bioręcego udział w reakcji. Taki przepływ wsteczny powodował by nleóównom.irni lokalne osadzanie mtt^nału powłoki przed / w kierunku przepływu/ mejscem, w którym przepływ drugiego gazu bioręcego udział w reakcji jest wprowadzany w przepływ piewwszego gazu bioręcego udział w reakcji. Tak więc, taki przepływ wsteczny należy zasadniczo unlemożliyić, aby uniknęć lokalnego osadzania się maeriółb powłoki, co powodowałoby by znacznę nie^^c^r^oi^t^c^ność w uzyskiwanej powłoce.
Aby zasadniczo uniknęć wstecznego przepływu drugiego gazu bioręcego udział w reakcji w piewwszym przepływie, drugi przepływ będzie korzystnie tworzony i wprowadzany w pierwszy przepływ pod pewnym kętem nie większym niż około 90° do (pierwszego przepływu. praktyce korzystnie jest stosować: kęt oltoło 9°ο, ponieważ, jak stwierdzono, zas tosowanie tego kęta zmniejsza do mmmm osadzanie się maaenału powłoki, w wylocie kanału prowadzęcego drugi przepływ, przy równoczesnym uniernozżiwieniu wstecznego przepływu drugiego gazu bioręcego udział w reakcji w przepływie.
Stwierdzono, że cechy strukturalne dużej skali w przepływie, takie jak zawirowania, sę skłonne do powodowania nleiednzrodnoścl powłoki i dlatego należy ich unikać. W praktyce zastosowanie przepływu burzHwego łagodzi takie właściwości. Można je ponadto zmniejszyć przez zwiększenie prędkości przepływu drugiego gazu bioręcego udział w reakcji wprowadzanego w przepływ piewiszeco gazu bioręcego udział w reakcji i/lub przez działanie z prędkoscię połączonego przepływu mniejszę niż prędkość drugiego przepływu, przy czym gaz drugiego przepływu zwalnia, gdy jest kierowany wzdłuz goręcej powierzchni szkła. 2 drugiej strony właściwości strukturalne maej skali, np. właściwości, które maję maksymalny wymiar mały /przykaddowo mniejszy niz 20.j i korzystnie mejszy mz 10%/ w porównaniu z długościę tej części strefy powlekania, w której osaczana jest większość grubości, powłoki, mogę być tonowane bez iiezopuszizαlπegz odchodzenia od jednorodności. Tak więc wtaścności maej skali, które sę nie dc uniknięcia w przepływie burzHwym, mogę być tolerowane.
Sposób według przoGO’ lotonego wynalazku nadaje się zwłaszcza do wytwarzania powłok z tlenku cyny odbijających pronieni^i^wanie podczerwone przy użyciu przykaadowo chlorku cyno163 150 wego jako pierwszego gazu biorącego udział w reakcji i pary wodnej jako drugiego gazu biorącego udział w reakcji. Aby zwiększyć współczynnik odbijania promieniowania podczerwonego przez powłokę, w gazach biorących udział w reakcji może być zawarta domieszka, taka jak źródło antymonu lub fluoru. Inne powłoki, takie jak tlenek tytanu lub azotek tytanu, mogę również być nakładane sposobem według wynalazku. Aby nałożyć powłokę z tlenku tytanu, Jako pierwszy gaz bioręcy udział w reakcji można użyć czterochlorek tytanu, podczas gdy parę wodnę stosuje się Jako drugi gaz bioręcy udział w reakcci. Aby uzyskać powłokę z azotku tytanu, jako pierwszy gez bioręcy udział w reakcji m^^na zastosować czterochlorek tytanu, natomiast jako drugi gaz bioręcy udział w reakcji stosuje się amoniak.
Wynalazek jest dokładniej opisany na podstawie rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urzędzenie do nakładania powłoki spoeobem według wynalazku w przekroju wzdłużnym, fig. 2- urzędzenie w widoku czołowym w kierunku pokazanym strzałkę 2 na fig. 1, a fig. 3 przedstawia bardziej szczegółowo ogranicznik przepływu gazu zawarty w urzędzeniu z fig. 1 w przekroju.
Na rysunku podobne oznaczenia odnoszę się do podobnych części.
w części opisu oraz w zastrzeżeniach patentowych określenia przepływ do przodu i przepływ do tyłu używane sę w odniesieniu do kierunku przepływu gazów biorących udział w reakcji i płynęcych przez komorę powlekania. korzystnie, jak w specyficznym, opisanym poniżej przykładzie wykonania. Jest to przepływ w tym 6amym kierunku co ruch szkła, ale niekoniecznie musi tak być 1 zastosowanie wynalazku może być również korzystne, kiedy kierunek przepływu gazu biorącego udział w reakcji jest w przeci^wprądzie w stoeunku do ruchu szkła.
□ak pokazano w szczególności na fig. 1 i 2 urzędzenie do powlekania 1 zawieszone jest nad wstęgę szkła 12, która porusza się po rolkach /nie pokazano/ od lewej strony do prawej.
Urzędzenie to jest zawieszone na wózku 2, który zawiera płytkę poziomę 3, której górna powierzchnia Jest przyepawane do przednich wsporników montażowych 5 i tylnych wsporników montażowych 4 patrząc w kierunku przesuwu wstęgi szkła 12. Przeważnie stosuje się trzy przednie wsporniki m^r^^0zooe i trzy tylne wsporniki montażowe umieszczone na całej szerokości urzędzenia do powlekania. V.' każdym przypadku jeden wspornik jest zamontowany pośrodku, a pozostałe dwa wsporniki sę zamontowane w pobliżu boków urzędzenie. Każdy ze wsporników montażowych 4, 5 Jest zawieszony pod odpowiednię chłodzonę wodę belkę / nie pokazano/, która przebiega w poprzek powlekanej wstęgi szkła 12.
Doi na część urzędzenie zawiera pewnę lcczbę ukszfalowanych korpusów węglowych 32, 34, 36, 38, 4Q 1 42, które przebiegają poprzecznie do długości zgodnie z szerokością powierzchni powlekanego szkła 12. Korpusy węglowe 32, 34, 35, 38, 40 i 42 tworzę wraz z powierzchnię szkła 12 komorę powlekania 10, która posiada sufit 9a 9b w układzie schodkowym, przy czym sufit 9a komory powlekania 10 przed drugim kanałem wicowym 15 jest usytuowany wyżej niz sufit 9b komory powlekanie 10 za drugim kanałem 15. Korpusy węglowe 32, 34 tworzę również pierwszy pionowy kanał wylotowy 14 słuzęcy do wprowadzania do komory powlekania 10 pierwszego gazu biorącego udział w reakcji, drugi pionowy kanał wlotowy 15 do wprowadzenia do komory powlekania 10 drugiego gazu borącego udział w reakcji, drogę przepływu 16 w komorze powlekania 10 pomiędzy piawwszyn kanałem wicowym 14 a drugim kanałem wicowym 15, kanał wio towy 18 słuzęcy do usuwania zużytych gazów z komory powlekania 10 oraz etrefę powlekania 17 utworzonę przez drogę przepływu w komorze powlekania 10 pomiędzy drugim kanałem wloowym 15 a kanałem νιγίοονίγη 18.
Każdy z różnych korpusów węglowych 32, 34, 36, 40, 42, jest zawieszony pod poziomę płytą 44. Korpusy 32, 34, 36, 40, 42 zawieraję kanały /nie pokazano/ na przenoszęcy ciepło płyn, taki jak woda chłodzęca, a podczas pracy urzędzenia temier^tura korpusów węglowych 32, 34, 36, 40, 42 Jest regulowana przez przepuszczanie wody chłodzęcej przez te kanały.
Komora powlekania 10 Jest otwarta od strony powlekanej wstęgi szkła 12. Przy przednim końcu komory powlekania 10 /w stosunku do kierunku przepływu/ korpusy węglowe 32 i 34 tworzę pierwszy pionowy kanał wzlotowy 14, poprzez który pierwszy gazowy reagent jest wpro8
163 150 wadzony do komory 10. Za tym pierwszym kanałem wlotowym 14 pomiędzy korpusami węglowymi i 36 utworzony jest drugi pionowy kanał wlotowy 15 słuzęcy do wprowadzania drugiego gazowego reagenta do komory powlekania 10.
Przy tylnym końcu komory powlekania 10 /w kierunku przepływu/ korpusy węglowe 40 i tworzę kanał wylotowy 18 słuzęcy do usuwania zużytych gazów z komory powlekania 10.
Pierwszy gaz bioręcy udział w reakcji jest doprowadzany do pierwszego kanału wlotowego 14 2 kanału zasilania gazem /nie pokazano,/ poprzez rozdzielacz 19 i ogranicznik 22 orzepływu gazu. Rozdzielacz 19 utworzony jest pomiędzy przednię i tylnę ściankę 20 i 21 ·. kształcie odwróconych wachlarzy, przy czym te ścianki przednia 20 oraz tylna 21 sę zbiezne w kierunku do dołu, aby utworzyć u dołu rozdzielacza 19 węskę szczelinę 48 przebiegajęcę wzdłuz szerokości powlekanej wstęgi szkła 12.
Pierwszy gaz bioręcy udział w reakcji, wypływajęcy ze szczeliny 48 u dołu rozdzielacza 19 przechodzi przez ogranicznik przepływu gazu 22, który jest zamontowany poniżej rozdzielacza 19.
Ogranicznik 22 przepływu gazu przedstawia dokładniej na fig. 3. Zawiera on pary przeciwległych podłużnych ścianek 120, 122 i 121, 123, które tworzę podłużnę komorę 124. Podłużne ścianki 120, 122 i 121, 123 przebiegają poprzecznie względem powlekanej wstęgi szkła 12, przy czym ścianki 120 i 121 sę to ścianki przednie, a ścianki 122 i 123 sę to ścianki tylne względem kierunku przepływu. Przy każdym końcu podłużnej komory 124 znajduję się przeciwległe ścianki końcowe 126, przy czym każda z tych ścianek końcowych 126 jest usytuowana równolegle do kierunku ruchu wstęgi szkła 12.
Przy wlotowym końcu ogranicznika 22 przepływu gazu znajduje się przewężenie wlotowe 127, które zawiera podłużnę płytę wlotową 128 rozciągającą się w poprzek komory 124. Ta płyta wlotowa 128 Jeat szczelnie zamocowana pomiędzy przeciwległe położonymi parami poziomych' płyt 130, 132, przy czym każda para płyt 130, 132 Jest przymocowana, na przykład przez spawanie, do odpowwedniej wzdłużnej ściany przedniej i tylnej 120, 122 oraz do rozdzielacza 19. Płyty każdej pary 130, 132 sę połączone ze sobę szczelnie za pomocę połączeń gwintowanych 134. Pomiędzy każdę parę płyt 130, 132 a płytą wlotowę 128 umieszczone sę uszczelki /ne pokazane/.
Wzdłuż płyty wlotowej 128 usytuowany jest rzęd otworów 136, które łączą wlotowy koniec ogranicznika 22 przepływu gazu z resztą komory 124. Otwory 136 sę otworami kołowymi, korzystnie o średnicy 2-10 mm. W szczególnie korzysmyrn przykładzie wykonania otwory 136 maję średnicę 4 mm, a ich środki sę usytuowane w odstępie 20 mm od siebie. Rzęd otworów 136 usytuowany jest w przedniej części podłużnej komory 124/względem kierunku przepływu,/, to znaczy rzęd otworów 136 znajduje się bliżej przedniej ściany 120 niż tylnej ściany 122 komory 124.
Przy wylocie 110 ogranicznika 22 przepływu gazu usytuowane jeet wylotowe przewężenie 138. To przewężenie 138 ma zasadniczo takę sarnę konstrukcję jak przewężenie wlotowe 127, to znaczy zawiera ono podłużnę płytę wlotowę 140, które jest szczelnie zamocowana pomiędzy onerna przeciwległe położonymi parami płyt 142, 144, przy czym górna płyta każdej z tych par płyt 142, 144 jest połączona, na przykład przez spawanie, z odpowiednię podłużnę ścianę 121, 123. Płyty 142, 144 sę oddzielone od płyty wylotowej 140 uszczelkami /nie pokazano,/. Płyty 142, 144 sę szczelne połączone ze sobę za pomocę połączeń gwintowanych, 146, które mocuję również szywno płyty 142, 144, a więc i ogranicznik przepływu gazu 22 do płyty 44, pod którą zawieszone sę korpusy grafiowre 32, 34. Płyta wylotowa 140 ma rzęd otworów 152, które korzystnie maję średnicę 2 - 10 mm a w szczególności w korzysmyrn przykładzie wykonania maję średnicę 4 mm i odległość pomiędzy swymi środkami 10 mm. Ten rzęd otworów 152 usytuowany jest w przedniej części komory wzdłużnej 124 /względem kierunku przepływu,/.
Przy wylocie 110 ogranicznika przepływu gazu 22, poniżej płyty wylotowej 140 zamontowany jest odchylacz 154 przepływu gazu. Odchylacz 154 zawiera podłużny człon 156 w kształcie litery L, który jest Integralnie połączony z jednym z kołnierzy 142 i jest usytuowany
163 150 przy otworach 152. Wolne ranię 158 członu 156 w kształcie lieery L rozcięga się do góry w kierunku płyty wylotowej 140 tworzęc szczelinę 160, poprzez którę gaz bioręcy udział w reakcji płynęcy otworami 152 musi przechodzić po odchyleniu przez ramiona poziome 162 członu 156 w kształcie lieery L.
Zadaniem odchylacza Jest zniesienie pewnych lokalnych wzrostów natężenia przepływu gazu, które mogę występie w bezpośrednim pobliżu każdego z otworów 152 w płycie wylotowej 140 poniżej tej płyty 140. Obecność odchylacza 154 wyrównuje te lakalne zwiększenie natężenia przepływu. W pewnych przypadkach mooliwe Jest odchylenie odchylacza 154 od ogranicznika 22 przepływu gazu według wynalazku.
Pomiędzy przewężeniem wlotowym 127 a przewężeniem wylotowym 138 usytuowane jest przewężenie pośrednie 164. Przewężenie 164 ma tekę samą konstrukcję jak przewężenie wlotowe 127 i zawiera pośredmię płytę wzdłużnę 166 z rzędem otworów 168. Płyta pośrednia 166 jest szczelnie zamocowana pomiędzy przeciwległe położonymi parami poziomych płyt 170, 172, które sę przymocowane, na przykład przez spawanie, do podłużnych ścian 120, 121, 122 i 123. Pomiędzy płytami 170, 172 a płytę pośrednię 166 umieszczone sę uszczelki /nie pokazano/. Płyty 170, 172 sę szczelnie połęczone ze sobę za pomocę połęczeń gwintowanych 174. Rzęd otworów 168 płyty pośredniej 166 jest w przeciwieństwie do płyt wlotowej 128 i wylotowej 140 umieszczony w tylnej części wzdłużnej komory 124 /w kierunku przepływu/, to znaczy rzęd otworów 168 jest usytuowany bliżej tylnych ścianek 122, 123 niz przednich ścianek 120, 121 komory 124. Dzięki takiemu roz^^ęzaniu rzędy otworów w sąsiednich płytach wzdłużnych nie sę ustawione zgodnie ze sobą.
Drugi gaz biorący udział w reakcji Jest doprowadzany do drugiego kanału wlotowego 15 z drugiego kanału zasilania gazem /nie pokazano/ poprzez drugi rozdzielacz 24, który ma takę sarnę konstrukcję jak rozdzielacz 19, a następnie poprzez ogranicznik 25 przepływu gazu, który me takę eamę konstrukcję Jak ogranicznik 22.
Gazy wylotowe wypływajęce z kanału wylotowego 18 przechodzę poprzez kanał 50 w zespole dystansowym 52 i następnie do wachlarzowego wylotu 26, który ma przednę ściankę 27 i tylnę ściankę 28 usytuowane na kształt odwróconego wachlarza, i.ucd^rzowy wylot 26 odprowadza zużyte gazy, iitpΓzeteagonait gazy bior^ęce udział w reakcji i gazy nośne do kanału wylotowego /nie pokazano/.
Odpowiednie wysokość i korpusów węglowych 32, 34 i 36, które tworzę pierwszy kanał wlotowy 14 i drugi kanał wlotowy 15 sę dobrane tak, ze sufit 9a , 9b komory powlekania 10 ma układ schodkowy w miejscu pomęczenia drugiego ka^^łu wlotowego 15 i komory poudekenia 10, przy czym sufit 9a komory 10 w przedniej części drugiego kanału wlotowego 15 /względem kierunku przepływu// ma poziom wyższy niż sufit 9b komory powlekania 10 w tylnej części drugiego kanału wlotowego 15 i Jak to widać na fig. 1 lima, jakę tworzy wzdłużny przekrój sufitu jest rnecięgła i ma kształt schodkowy. Spód korpusu 35 może znajdować się 10 mm poniżej spodu korpusu 34. Na skutek tego podstawa ścianki przedniej 54 drugiego kanału wlotowego 15 może znajdować się 10 mm wyżej niz podstawa ścianki tylnej 56 drugiego kanału wlotowego 15, przez co powstaje szczelina wlotowe 58 o kształcie schodkowym. Taka schodkowa szczelina wlotowa 56 zmn^jsza do nmum, jak s twierozono, ϊSość stałego materiału powlektjęcegs osadzającego się na bocznych ściankach drugiego kanału wlotowego 15 w pobliżu szczeliny wlotowej 58. Dolny narożnik korpusu węglowego 36 /przedni w stosunku do kierunku przepływu/ może być wykonany z krzywiznę wypukłę /me pokazano/, na przykład promień krzywizny dla schodkowej szczeliny wlotowej 58 ze schodkiem o wysokości 10 ii wynosi 10 mm.
Podczas działania, urządzenie powlekające 1, według wynalazku, jest zawieszone nad wstęgę szkła 12, która przemieszczana jest na rolkach /ne pokazano/ od lewej strony do prawej. Urządzenie do powlekania 1 jest zawieszone nad wstęgę szkła 12 na takiej wysokości, ze korpus węglowy 42 przy tylnym końcu urzęozema i /względem kierunku przepływu/ jest utrzyrnywany na wysokości rzędu 10 mm nad powierzchnię wstęgi szkła 12, która ma być powlekana. Pierwszy gaz biorący udział w reakcji, zwykle rozcieńczony w gazie nośnym, jest doprowadzany do rozdzielacza wychlarzowego 19 i ogranicznika gazu 22, który zapewnia równo10
163 150 merne rozłożenie gazu na całej szerokości powlekanego szkła 12. Gaz wypływający z ogranicznika 22 przechodzi przez pierwszy kanał wlotowy 14 do wnętrza komory powlekania 10, gdzie przepływa w kierunku, zasadniczo równolegle do szkła 12 wzdłuz drogi przepływu 16 w komorze 10 w kierunku podstawy drugiego kanału wlotowego 15. Drugi gaz bioręcy udział w reakcji, zwykle rozcleńczony w gazie nośnym, jest doprowadzany do rozdzielacza wachlarzowego 24 i do ogranicznika 25, tak aby zapewnić równomierne rozłożenie drugiego gazowego reagenta na całej szerokości szkła 12.
□rugi gaz bioręcy udział w reakcji, zawarty w dowolnym gazie nośnym, jest doprowadzany do wachlarzowego rozdzielacza 24 z prędkościę wystarczającą dla zapewnienia burzliwego wypływu gazu, bioręcego udział w reakcjo., z drugiego kanału wlotowego 15 w strumień pierwszego gazu bioręcego udział w reakcji w komorze powwekania 10, przy czym względne prędkości pierwszego i drugiego przepływu 9ę dobrane tak, aby uniknęć przepływu wstecznego drugiego gazu bioręcego udział w reakcji w pientszym gazie. Połączony strumień gazu jest kierowany Jako strumień o przypływie burzowym na pot^K^i*zchnię szkła 12 poprzez strefę powlekania 17, gdzie te dwa gazy reaguję ze sobą, aby spowodować o6adzenie powłoki na goręcej powierzchni szkła 12. Gaz nośny, niaprzereggowane gazy bioręce udział w reakcji i gazy odlotowe z reakcji sę iycięgenr ze strefy powlekania 10 od goręcego szkła poprzez kanał wylotowy 18 stosujęc podciśnienie wytwarzanego przy wachlarzowym wylocie 28 zawierającym rozbieżne ku górze ścianki przedmę 27 i tylnę 28 usytuowane na kształt odwróconego wachlarza. Podciśnienie może być wytwarzane przez wentylator lylotowy - nie pokazany. Podciśnienie nie tylko wycięga gaz ze strefy powlekania 10, ele może również wymuszać przepływ pomiędzy przednim 29 i tylnym 30 końcem urządzenia do powlekania 1.
Pierwszy strumień pierwszego gazu bioręcego udział w reakcj, wprowadzany poprzez pierwszy kanał wlotowy 14, może mieć charakter burzliwy łub laminarny.
Zastosowanie komory powlekania, która ma sufit o układzie schodkowym, w miejscu gdzie wchodzi drugi kanał wlotowy, umooż^wii działanie urzędzenia przez dłuższy czas bez niepożądanego zatykania drugiego kanału wlotowego w wyniku osadzania się materiału pgwlekβjąlrgo w tym kanale wlotowym.
Poniższe przykłady ilustrują sposób powlekania szkła, według wynalazku, za pomocą urządzenia opisanego powyżej Na gorącą wstęgę 9zkła nakłada eię powłokę tlenku cyny z domieszkę fluoru.
Przykład I. Wstęgę ciekłego szkła 4 mm umieszcza się pod urządzeneem do powlekania przedstawocnym na fig. 1 - 3, z prędkościę 540 m/h. Urządzenie do powlekania jest usytuowane przed wejściem do odprężarki tunelowej, a temperotura szkła pod urządzeniem do powlekania wynosi 580°C. Pierwszy gaz bioręcy udziBł w reakcj, zawierający czterochlorek cyny zawarty w pogrzanym eucfiym powietrzu o romperaturze 354°^ jako gazie nośnym, Oprowadza się do wlotu wachlarzowego rozdzielacza 19. Chlorek cynowy dostarcza się w ilości 84 kg/h, a suche powwetrze dopro^^a się z pr^kością 1°5 m^/Yh /mierzone w warunl<ach nor maany ch/.
Pierwszy gaz bioręcy udział w reakcji przechodzi przez wachlarzowy rozdzielacz 19 i ogra nicznik 22 przepływu gazu, które rpzprowadzają gaz na szerokości komory powlekania 10, aby zapewnić zasadniczo równomierny przepływ pierwszego gazu bioręcego udział w reakcji na szerokości komory powlekania 10 do kanału wlotowego 14. Gaz wypływający z kanału wlotowego 14 łączy się ze strumienimm powietrza płynącym od przedniego końca 29 i przepływa w pierwszym kierunku równolegle do szkła 12 wzdłuz drogi przepływu 16 do drugiego kanału wlotowego 15 1 strefy powlekania 17. Liczba Reynoldsa gazu wypływającego z kanału wlorowego 14 wynosi 1300.
Drugi gaz bioręcy udział w reakcji, zawierający 20,„ fluorowodoru w podgrzanym powietrzu o tempera turze 402°0 doprowadza się do wlotu rozdzielacza wachlarzowego 24. Fluororodór d^ro^dza sią w ilości 34 kg/h, a powietrze róprowadza się w ilości 620 rn3/n /rnierzone w warunkach normalnych/. Drugi gaz bioręcy udział w reakcji przechodzi przez rozdzielacz wachlarzowy 24 i ogranicznik 25 przepływu gazu, który rozprowadza gaz na szerokości
163 150 urzędzenia do powlekania 1 aby zapewnić zasadniczo równomierny przepływ drugiego gazu bioręcego udział w reakcji na szerokości urzędzenia do powlekania 1 do kanału wlotowego
15. Gaz wypływajęcy z drugiego kanału wlotowego 15 w przepływie burzliwym i łęczy się z pierwszym strumieniem pierwszego gazu bioręcego udział w reakcji zachodzęcej nad powierzchnię szkła. Liczba Reynoldsa gazu wypłyiaJęclgo z kanału wlotowego 15 w/noei 4750.
Po wprowadzeniu drugiego gazu z kanału wlotowego 15 do gazu wypływającego z kanału Hotc^wego 14 i przepływającego w^(^J:uz drogi przepływu 16, gazy bioręce udział w reakcji gwałtownie mieszaję się ze sobę tworzęc łęczny strumień płynęcy poprzez komorę powlekania 10. Liczba Reynoldsa połączonego strumienia w komorze powlekania 10 wynosi 7600, co urnmoliwia przepływ gazu do tylnego końca 29 urzędzenia do powlekania 1. Przepływ wsteczny drugiego gazu bioręcego udział w reakcji z strumieniem pierwszego gazu jeet uniemożliwiony przez ograniczenie natężenia przepływu drugiego strumienia poprzez kanał wlotowy 15 i utrzymywanie wystarczająco dużego natężenia przepływu poprzez kanał wylotowy 18
Zużyty gaz powlekajęcy odcięga się od goręcego ezkłar 12 poprzez kanał wylotowy 18 i wachlarzowy wylot 26 dzięki wytworzeniu podciśnienia /7,5 mbar poniżej ciśnienia a^oese-/ rycznego/ przy ^^chla^rowy/m wylocie 26.
Stwierdzono, le opisany proces daje w wyniku równomίθrną powłokę z tlenku cyny domie3Zkowanego fluorem o średniej grubości 270 nm, przy zakresie grubości 250-275 nm /za wyjątkiem krawęddi/ przy zastosowaniu stosunkowo krótkiej strefy powlekania 17 o długości około 75 cm pomięczy kanałem wlotowym 15 i kanałem wylotowym 18. Powleczone szkło ma opalizujące barwy , które można ze względu na mały znkree zmian grubości powwoki /- 5%, łatwo wytłumić za pomocę dolnej warstwy tłumięcej barwę według zgłoszenia patentowego Wielkiej Brytanii nr 2 199 848 A.
Przykłao II. Prowadzi się sposób powlekania szkła podobnie jak w przykładzie I l naatępujęcymi zmianami. W pietw8zyi gazie bioręcym udział w reakcji, czterochlorek cyny doprowadza się w ilości 74 kg/h, e podgrzane suche powletrzl o temperaturze 300°C doprowadza się w ilości 180 rn /h /mierzone w warunkach normaanych/. Liczba Reynoldsa gazu wypływającego z kanału wlotowego 14 wynosi 1900. Drugi gaz bioręcy udział w reakcji oprócz 20% fluorowodoru i podgrzanego powwetrza o temperaturze 250°C zawiera parę wodnę. Parę wodr^ dostarcza eię w ilości l20 kg/h, fluorowrdór w ilości 35 kg/^ a powietrze w ilości 576 m3/!. /murzone w warunkach normaanych/. Liczbs Reynoldsa gazu wypływajęcego z kanału wlotowego 15 wynosi 6100, a liczba Reynoldsa połęczonego etrum.lnia p^nęc^o poprzez komorę powlekania 10 w^i^o^iL 8400. Pode^5γ^ιιπιι zastosowane do odzyskania zużytego gazu powlekajęcego z powierzchni szkła wynosi 5 mbar poniżej atmosferycznego.
Opisany proces, jak stwierdzono, daje w wyniku równommernę powłokę z tlenku cyny domieszkowanego fluo^m o grubości w zakresie od 303 nm do 320 nm. Powleczone szkło ma zielonę, opalizujęcę barwę, którę ze względu na wąski zakres zmian grubości powWoki, można było łatwo wytłumić przez zastosowanie dolnej warstwy tłumięcej barwę według zgłoszenia patentowego Wielkiej Brytanii nr 2 199 848 A.
'.'..dać zatem, ze przedmiotowy wynalazek umirlllla osadzenie stosunkowo grubej porWoki /ponad 200 nu/ z zadowalajęcę ^Ίηοπίετηοucię w strefie porlekania, która może być krótsza niz 2 metry, a korzystnie jest krótsza niz 1 meer.
163 150
F/g. J
163 150
ZP
Fig. 2
163 150
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 10 000 zł
Claims (5)
- Zastrzeżenia patentowe1. Sposób powlekania szkła, obejmujący pokrywanie przemieszczającej się oetęgi gorącego szkła powłoką wytwarzaną z dwóch gazowych reagentów reagujących ze 9obą wzajemnie, o którym wytwarza sią pierwszy strumień pierwszego reagenta gazowego i wprowadza się go wzdłuż powierzchni gorącego szkła w piewwszym kierunku, równoległym do kierunku przemieszczania szkła, po czym wytwarza się drugi strumień drugiego reagenta gazowego i wprowadza się go do pierwszego strumienia w drugim kierunku, nachylonym pod kątem do piecwszego kierunku i do powierzchni ezkła, a nastąpnie przeprowadza się połączony strumień reagentów gazowych wzdłuz powierzchni gorącego szkła przez strefę powlekania, znamienny t y m. Ze wprowadza się drugi strumień drugiego reagenta gazowego Jako strumień burzlówy w drugim kierunku, a nastąpnie przeprowadza aią połączony strumień reagentów gazowych jako strumień burzliwy przez etrefę powlekania.
- 2. Spoeób, według zaetrz. 1,znamienny tym, ze podczae przeprowadzania strumienia przez strefę powlekania odciąga sią zuZyty gez znad powierzchni gorącego ezkła.
- 3. Sposób według zastrz. 1,znamienny tym. Ze wprowadza eię drugi reagent gazowy pod kątem około 90° do kierunku przepływu pierwszego reagenta gazowego i do powierzchni szkła.
- 4. Sposób według zastrz. 1,znamienny tym, ze w połączonym strumieniu utrzymuje się liczbę Reynoldsa, co najmniej 6000.
5. Sposób, według zastrz. 1, z i a m 1 6 n n y t y rn , ie aaoo paβow8zy eaagent ga- zowy wprowadza się chlorek cynowy. 6. Sposób, według zastrz. 1, z n a m 1 e n n y t y m. ie wraz z reageneem gazowym biorącym udział w reakcji wprowadza się parą wodną . 7. Sposób, według zastrz. 6, z n a m 1 e i i y i y m, ze w drugmm reagencie gazowmm wprowadza sią jako domieszką fluorowodór B. Sposób, według zastrz. 4, z i i m 1 s i n y t y m , ze połączony stlmaθfι przepro wadza sią poprzez strefę powlekania pod wpływem podciśnienia wytwarzanego przy ty^ym koń- cu strefy powlekania. - 9. Sposób według za6trz. i, znamienny tym, ze połączony strumień reagentów gazowych przeprowadza się przez strefę powlekania do utworzenia powłoki o grubości co najmniej 200 nm.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB888824104A GB8824104D0 (en) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | Process for coating glass |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL163150B1 true PL163150B1 (pl) | 1994-02-28 |
Family
ID=10645194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL89281832A PL163150B1 (pl) | 1988-10-14 | 1989-10-13 | Sposób powlekania szkla PL PL PL |
Country Status (25)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5041150A (pl) |
| EP (1) | EP0365239B1 (pl) |
| JP (1) | JP2833797B2 (pl) |
| KR (1) | KR960010097B1 (pl) |
| CN (1) | CN1024271C (pl) |
| AT (1) | ATE88684T1 (pl) |
| AU (1) | AU625350B2 (pl) |
| BG (1) | BG50833A3 (pl) |
| BR (1) | BR8905217A (pl) |
| CA (1) | CA2000266A1 (pl) |
| CZ (1) | CZ283793B6 (pl) |
| DD (1) | DD301877A9 (pl) |
| DE (2) | DE365239T1 (pl) |
| DK (1) | DK509889A (pl) |
| ES (1) | ES2013986T3 (pl) |
| FI (1) | FI94620C (pl) |
| GB (2) | GB8824104D0 (pl) |
| HU (1) | HU212792B (pl) |
| MX (1) | MX171376B (pl) |
| NO (1) | NO175426C (pl) |
| PL (1) | PL163150B1 (pl) |
| PT (1) | PT91988B (pl) |
| RO (1) | RO104573B1 (pl) |
| TR (1) | TR23967A (pl) |
| YU (1) | YU47025B (pl) |
Families Citing this family (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IN177541B (pl) * | 1990-06-29 | 1997-02-08 | Geoffrey Norman Pain | |
| GB2247691B (en) * | 1990-08-31 | 1994-11-23 | Glaverbel | Method of coating glass |
| FR2672518B1 (fr) * | 1991-02-13 | 1995-05-05 | Saint Gobain Vitrage Int | Buse a alimentation dissymetrique pour la formation d'une couche de revetement sur un ruban de verre, par pyrolyse d'un melange gazeux. |
| FR2677639B1 (fr) * | 1991-06-14 | 1994-02-25 | Saint Gobain Vitrage Internal | Technique de formation par pyrolyse en voie gazeuse d'un revetement essentiellement a base d'oxygene et de silicium. |
| GB2268509B (en) * | 1992-07-11 | 1996-01-31 | Pilkington Uk Ltd | Coatings on glass |
| GB9400323D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
| GB9400320D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coating on glass |
| GB9400319D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
| US6200389B1 (en) * | 1994-07-18 | 2001-03-13 | Silicon Valley Group Thermal Systems Llc | Single body injector and deposition chamber |
| US6022414A (en) * | 1994-07-18 | 2000-02-08 | Semiconductor Equipment Group, Llc | Single body injector and method for delivering gases to a surface |
| FR2724923B1 (fr) * | 1994-09-27 | 1996-12-20 | Saint Gobain Vitrage | Technique de depot de revetements par pyrolyse de composition de gaz precurseur(s) |
| FR2736632B1 (fr) | 1995-07-12 | 1997-10-24 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage muni d'une couche conductrice et/ou bas-emissive |
| GB9515198D0 (en) * | 1995-07-25 | 1995-09-20 | Pilkington Plc | A method of coating glass |
| US6238738B1 (en) | 1996-08-13 | 2001-05-29 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass |
| GB9616983D0 (en) * | 1996-08-13 | 1996-09-25 | Pilkington Plc | Method for depositing tin oxide and titanium oxide coatings on flat glass and the resulting coated glass |
| GB9619134D0 (en) * | 1996-09-13 | 1996-10-23 | Pilkington Plc | Improvements in or related to coated glass |
| US5855673A (en) * | 1996-10-17 | 1999-01-05 | Dehn; David L. | Apparatus for coating edges |
| US7096692B2 (en) * | 1997-03-14 | 2006-08-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same |
| US6027766A (en) * | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
| US6268019B1 (en) * | 1998-06-04 | 2001-07-31 | Atofina Chemicals, Inc. | Preparation of fluorine modified, low haze, titanium dioxide films |
| US20010047756A1 (en) * | 1999-05-17 | 2001-12-06 | Bartholomew Lawrence Duane | Gas distribution system |
| US6602606B1 (en) | 1999-05-18 | 2003-08-05 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass sheet with conductive film, method of manufacturing the same, and photoelectric conversion device using the same |
| GB9913315D0 (en) | 1999-06-08 | 1999-08-11 | Pilkington Plc | Improved process for coating glass |
| US8093490B2 (en) * | 2001-12-03 | 2012-01-10 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for forming thin film, substrate having transparent electroconductive film and photoelectric conversion device using the substrate |
| WO2003050324A1 (en) * | 2001-12-03 | 2003-06-19 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for forming thin film, substrate having thin film formed by the method, and photoelectric conversion device using the substrate |
| JP4984562B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2012-07-25 | Jfeスチール株式会社 | 金属ストリップ表面へのTiN成膜方法およびTiN連続成膜装置 |
| FI122502B (fi) * | 2007-12-20 | 2012-02-29 | Beneq Oy | Menetelmä ja laite lasin pinnoittamiseksi |
| JP2014520201A (ja) | 2011-03-23 | 2014-08-21 | ピルキントン グループ リミテッド | 薄膜コーティングを被覆するための装置およびこのような装置を用いた被覆方法 |
| WO2013078040A1 (en) * | 2011-11-23 | 2013-05-30 | Corning Incorporated | Vapor deposition systems and processes for the protection of glass sheets |
| JPWO2014081030A1 (ja) * | 2012-11-26 | 2017-01-05 | 旭硝子株式会社 | 薄膜形成方法 |
| DE102013219816B4 (de) | 2013-09-30 | 2023-06-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung mit Abscheidekammer mit turbulenter Gasführung zur kontinuierlichen Beschichtung von Substraten mittels Gasphasenabscheidung sowie Verfahren zu diesem Zweck unter Verwendung einer solchen Vorrichtung |
| CN114420008B (zh) * | 2022-02-10 | 2023-11-03 | 深圳市飞帆泰科技有限公司 | 带有低辐射玻璃的电子显示屏 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1282866A (en) * | 1968-08-16 | 1972-07-26 | Pilkington Brothers Ltd | Improvements in or relating to the production of glass having desired surface characteristics |
| US3850679A (en) * | 1972-12-15 | 1974-11-26 | Ppg Industries Inc | Chemical vapor deposition of coatings |
| GB1454567A (en) * | 1974-03-07 | 1976-11-03 | Ball Corp | Method and apparatus for treating vitreous surfaces |
| GB1524326A (en) * | 1976-04-13 | 1978-09-13 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
| GB2026454B (en) * | 1978-07-20 | 1982-07-21 | Bfg Glassgroup | Coating glass with tin oxide |
| US4325987A (en) * | 1979-07-31 | 1982-04-20 | Societa Italiana Vetro-Siv-S.P.A. | Process for the production of an electrically conducting article |
| US4524718A (en) * | 1982-11-22 | 1985-06-25 | Gordon Roy G | Reactor for continuous coating of glass |
| US4584206A (en) * | 1984-07-30 | 1986-04-22 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of a reflective film on the bottom surface of a float glass ribbon |
-
1988
- 1988-10-14 GB GB888824104A patent/GB8824104D0/en active Pending
-
1989
- 1989-10-04 AU AU42554/89A patent/AU625350B2/en not_active Ceased
- 1989-10-06 CA CA002000266A patent/CA2000266A1/en not_active Abandoned
- 1989-10-10 RO RO141944A patent/RO104573B1/ro unknown
- 1989-10-12 BG BG089992A patent/BG50833A3/xx unknown
- 1989-10-12 DD DD33353289A patent/DD301877A9/de unknown
- 1989-10-12 HU HU895302A patent/HU212792B/hu not_active IP Right Cessation
- 1989-10-12 US US07/420,368 patent/US5041150A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-12 TR TR89/0881A patent/TR23967A/xx unknown
- 1989-10-13 AT AT89310562T patent/ATE88684T1/de active
- 1989-10-13 JP JP1265307A patent/JP2833797B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-13 PT PT91988A patent/PT91988B/pt not_active IP Right Cessation
- 1989-10-13 FI FI894860A patent/FI94620C/fi not_active IP Right Cessation
- 1989-10-13 DK DK509889A patent/DK509889A/da not_active Application Discontinuation
- 1989-10-13 NO NO894094A patent/NO175426C/no unknown
- 1989-10-13 CZ CS895827A patent/CZ283793B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1989-10-13 EP EP89310562A patent/EP0365239B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-13 PL PL89281832A patent/PL163150B1/pl unknown
- 1989-10-13 DE DE198989310562T patent/DE365239T1/de active Pending
- 1989-10-13 DE DE89310562T patent/DE68906236T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-13 YU YU198589A patent/YU47025B/sh unknown
- 1989-10-13 ES ES198989310562T patent/ES2013986T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-13 GB GB8923060A patent/GB2227029B/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-13 MX MX017944A patent/MX171376B/es unknown
- 1989-10-13 BR BR898905217A patent/BR8905217A/pt not_active IP Right Cessation
- 1989-10-14 KR KR1019890014710A patent/KR960010097B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-14 CN CN89107933A patent/CN1024271C/zh not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL163150B1 (pl) | Sposób powlekania szkla PL PL PL | |
| US4508054A (en) | Device for depositing a mineral oxide coating on a substrate | |
| US3888649A (en) | Nozzle for chemical vapor deposition of coatings | |
| US6112554A (en) | Device for forming a pyrolytic coating | |
| US5022905A (en) | Method and apparatus for coating glass | |
| CA1138725A (en) | Glass coating | |
| US4642130A (en) | Apparatus for and method of coating glass | |
| JPS5827215B2 (ja) | コ−ティング装置 | |
| US3951100A (en) | Chemical vapor deposition of coatings | |
| US3942469A (en) | Vapor deposition nozzle | |
| EP0369602B1 (en) | Glass coating apparatus | |
| RU1838262C (ru) | Способ нанесени покрыти на движущуюс ленту гор чего стекла | |
| NZ230881A (en) | Process and apparatus for coating hot sheet glass |