PL155571B1 - Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów - Google Patents

Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów

Info

Publication number
PL155571B1
PL155571B1 PL27235988A PL27235988A PL155571B1 PL 155571 B1 PL155571 B1 PL 155571B1 PL 27235988 A PL27235988 A PL 27235988A PL 27235988 A PL27235988 A PL 27235988A PL 155571 B1 PL155571 B1 PL 155571B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
reaction
chlorination
substrate
product
methylchlorosilane
Prior art date
Application number
PL27235988A
Other languages
English (en)
Other versions
PL272359A1 (en
Inventor
Wieslaw Wojnowski
Stanislaw Konieczny
Boguslaw Dreczewski
Aleksander Herman
Original Assignee
Politechnika Gdanska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Gdanska filed Critical Politechnika Gdanska
Priority to PL27235988A priority Critical patent/PL155571B1/pl
Publication of PL272359A1 publication Critical patent/PL272359A1/xx
Publication of PL155571B1 publication Critical patent/PL155571B1/pl

Links

Abstract

Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów, metodą fotochemiczną, znamienny tym, że metylochlorosilan zawierający 1-3 grup metylowych w cząsteczce i czterochlorek węgla albo brom spełniające rolę inicjatora rodnikowego wprowadza się do reaktora, ogrzewa do temperatury wrzenia metylochlorosilanu, a azeotropową mieszaninę par substratu i inicjatora przepuszcza się przez kolumnę rektyfikacyjną i wprowadza się do górnej części pionowej koncentrycznej współosiowo komory reakcyjnej wyposażonej w lampę kwarcową, zaś w przeciwprądzie do spływającego filmu i par, w dolnej części koncentrycznej komory reakcyjnej doprowadza się gazowy chlor z szybkością 180-250 cm3/m in, a mieszanina nieprzereagowanego substratu i produktu jest zawracana grawitacyjnie, w sposób ciągły, do reaktora, gdzie w miarę postępu reakcji wzrasta stężenie chlorometylochlorosilanu, reakcję chlorowania prowadzi się aż do momentu podniesienia się temperatury par uchodzących z kolumny rektyfikacyjnej kilka stopni powyżej temperatury wrzenia substratu, po czym prowadzi się rozdział produktów chlorowania metylochlorosilanu drogą frakcjonowanej destylacji.

Description

RZECZPOSPOLITA
POLSKA
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej @ OPIS PATENTOWY® PL © 155571 © Bl
Numer zgłoszenia: 272359 ——, ©© Intel5:
C07F 7/12 (§) Data zgloszema: 09.05.1988
Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów
Uprawniony z patentu:
Zgłoszeme ogłoszono: Politechnika Gdańska, Gdańsk, PL
13.11.1989 BUP 23/89 Twórcy wynalazku: Wiesław Wojnowski, Gdańsk, PL Stanisław Konieczny, Gdańsk, PL Bogusław Dręczewski, Gdańsk, PL
@) O udzieleniu patentu ogłoszono: 31.12.1991 WUP 12/91 Aleksander Herman, Gdańsk, PL
55571 Bl
57) Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów, metodą fotochemiczną, znamienny tym, że metylochlorosilan zawierający 1-3 grup metylowych w cząsteczce i czterochlorek węgla albo brom spełniające rolę inicjatora rodnikowego wprowadza się do reaktora, ogrzewa do temperatury wrzenia metylochlorosilanu, a azeotropową mieszaninę par substratu i inicjatora przepuszcza się przez kolumnę rektyfikacyjną i wprowadza się do górnej części pionowej koncentrycznej współosiowo komory reakcyjnej wyposażonej w lampę kwarcową, zaś w przeciwprądzie do spływającego filmu i par, w dolnej części koncentrycznej komory reakcyjnej doprowadza się gazowy chlor z szybkością 180-250 cm3/min, a mieszanina nieprzereagowanego substratu i produktu jest zawracana grawitacyjnie, w sposób ciągły, do reaktora, gdzie w miarę postępu reakcji wzrasta stężenie chlorometylochlorosilanu, reakcję chlorowania prowadzi się aż do momentu podniesienia się temperatury par uchodzących z kolumny rektyfikacyjnej kilka stopni powyżej temperatury wrzenia substratu, po czym prowadzi się rozdział produktów chlorowania metylochlorosilanu drogą frakcjonowanej destylacji.
IX
Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów

Claims (1)

  1. Zastrzeżenie patentowe
    Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów, metodą fotochemiczną, znamienny tym, że metylochlorosilan zawierający 1-3 grup metylowych w cząsteczce i czterochlorek węgla albo brom spełniające rolę inicjatora rodnikowego wprowadza się do reaktora, ogrzewa do temperatury wrzenia metylochlorosilanu, a azeotropową mieszaninę par substratu i inicjatora przepuszcza się przez kolumnę rektyfikacyjną i wprowadza się do górnej części pionowej koncentrycznej współosiowo komory reakcyjnej wyposażonej w lampę kwarcową, zaś w przeciwprądzie do spływającego filmu i par, w dolnej części koncentrycznej komory reakcyjnej doprowadza się gazowy chlor z szybkością 180-250 cm3/min, a mieszanina nieprzereagowanego substratu i produktu jest zawracana grawitacyjnie, w sposób ciągły, do reaktora, gdzie w miarę postępu reakcji wzrasta stężenie chlorometylochlorosilanu, reakcję chlorowania prowadzi się aż do momentu podniesienia się temperatury par uchodzących z kolumny rektyfikacyjnej kilka stopni powyżej temperatury wrzenia substratu, po czym prowadzi się rozdział produktów chlorowania metylochlorosilanu drogą frakcjonowanej destylacji.
    Przedmiotem wynalazku jest sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów.
    Znany jest z literatury sposób otrzymywania chlorometylotrichlorosilanu na drodze fotochemicznego chlorowania metylotrichlorosilanu, prowadzony w fazie ciekłej.
    Celem uniknięcia wyżej chlorowanych pochodnych, stosuje się duży nadmiar substratu. Maksymalna wydajność tego procesu wynosi do 22%. J. Speier, BP 629719/1949 (Chem. Abs. 1950, 44, 3518).
    Inny znany z literatury sposób podstawiania chloru w grupie metylowej metylotrichlorosilanu metodą chlorowania fotochemicznego, jest prowadzony z ciągłą separacją produktu od substratu. W tym rozwiązaniu do strefy naświetlania promieniami UV kierowany jest jedynie wyjściowy metylotrichlorosilan. Usuwanie produktu ze strefy naświetlania, wraz z pewną ilością substratu, ogranicza wydajność reakcji do 45%. (H.D. Kaesz, F.G.A. stone, J.Org. Chem. 1957, 1433).
    Według opracowania V.F. Mironova, V.A. Ponomarenko (Izvest. Akad. Nauk SSSR, Otdel. Khim. Nauk, 1957,199) reakcję chlorowania fotochemicznego metylotrichlorosilanu prowadzi się w fazie gazowej, bez separacji produktu. Sposobem tym uzyskuje się produkt z około 30% wydajnością.
    Zasadniczą niedogodnością powyższych metod jest konieczność stosowania dużego nadmiaru substratu, będącego balastem obniżającym bezwzględną wydajność. Pomimo stosowania nadmiaru substratu, nie zapobiega się powstawaniu ubocznie znacznych ilości produktów wyżej schlorowanych.
    Według wynalazku sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów, metodą fotochemiczną, charakteryzuje się tym, że metylochlorosilan zawierający 1 4- 3 grup metylowych w cząsteczce i czterochlorek węgla albo brom spełniające rolę inicjatora rodnikowego wprowadza się do reaktora, ogrzewa do temperatury wrzenia metylochlorosilanu, a mieszaninę azeotropową par substratu i inicjatora przepuszcza się przez kolumnę rektyfikacyjną i wprowadza do górnej części pionowej koncentrycznej współosiowo komory reakcyjnej wyposażonej w lampę kwarcową, zaś w przeciwprądzie do spływającego filmu i par, w dolnej części koncentrycznej komory reakcyjnej doprowadza się gazowy chlor z szybkością 180 -i- 250 cm3/min., a mieszanina nieprzereagowanego substratu i produktu jest zawracana grawitacyjnie, w sposób ciągły, do reaktora, gdzie w miarę postępu reakcji wzrasta stężenie chlorometylochlorosilanu, reakcję chlorowania prowadzi się aż do momentu podniesienia się temperatury par uchodzących z kolumny rektyfikacyjnej kilka stopni powyżej temperatury wrzenia substratu, po czym prowadzi się rozdział prooduktów chlorowania metylochlorosilanu drogą frakcjonowanej destylacji.
    155 571
    Przebieg reakcji kontroluje się przy pomocy chromatografii gazowej, względnie spektroskopii 1H-NMR. Szybkość przepływu chloru dobiera się tak, aby jego zużycie było całkowite w strefie reakcji z jednoczesnym maksymalnym wyeliminowaniem reakcji chlorowania drugiego wiązania węgiel - wodór.
    Uzyskane sposobem według wynalazku chlorometylochlorosilany, zwłaszcza chlorometylotrichlorosilan, mają zastosowanie jako podstawowy półprodukt przy otrzymywaniu «pochodnych silanowych środków sprzęgających (promotorów adhezji) podobnych w działaniu do importowanych dotąd y-pochodnych silanowych środków sprzęgających. Ponadto substrat wyjściowy metylotrichlorosilan jest najtańszym i najłatwiejszym do otrzymania monomerem silikonowym, co jest niezaprzeczalnym walorem wykorzystania jego chlorometylopochodnej w technologii otrzymywania środków sprzęgających.
    Optymalizacja procesu chlorowania według wynalazku zezwala na stosowanie skali wielkolaboratoryjnej albo ćwierćtechnicznej, z powtarzalnością selektywności i z wydajnością równą i większą 65%.
    Przedmiot wynalazku bliżej obrazują przykłady wykonania.
    Przykład I. W szklanej kolbie umieszcza się 6490 g świeżo przedestylowanego metylotrichlorosilanu (t.wrz. 67°C) i łączy się z aparatem do fotochemicznego chlorowania. Po dodaniu około 10 g czterochlorku węgla (t.wrz. 77°C) zawartość kolby ogrzewa się do wrzenia tak by temperatura rekatyfikatu będącego mieszaniną azoetropową substratu i czterochlorku węgla, na szczycie kolumny nie przekraczała 68,5°C. Rektyfikat kieruje się do strefy reakcji naświetlonej palnikiem UV o mocy 15 W. Chlor przepuszcza się w przeciwprądzie z szybkością 180 cm3/min. Produkt z nieprzereagowanym substratem w sposób ciągły odprowadza się ze strefy reakcji do kolby. Postęp reakcji kontroluje się pobierając próbki co 3 godz. i analizując je metodą chromatografii gazowej. Reakcję przerywa się po osiągnięciu stopnia przereagowania około 70%. Mieszaninę reakcyjną poddaje się frakcjonowanej destylacji i otrzymuje się 4720 g chlorometylotrichlorosilanu (t.wrz. 117-118°C) z wydajnością 69,5%. Pozostałość po destylacji stanowi mieszanina czterochlorku węgla, nieprzereagowany metylotrichlorosilan i dwuchlorometylotrichlorosilan (2% wyd.).
    Przykład II. W szklanej kolbie połączonej z aparaturą do fotochemicznego chlorowania umieszcza się 3960 g dimetylodichlorosilan (t.wrz. 70-71°C). Jako inicjatora rodnikowego dodaje się około 10 g czterochlorku węgla. Zawartość kolby ogrzewa się tak by temperatura na wyjściu z kolumny rektyfikacyjnej wyniosła około 71 °C. Rektyfikat kieruje się do strefy reakcji naświetlonej palnikiem UV 30 W. W przeciwprądzie przepuszcza się chlor z szybkością 200 cm3/min. Produkt z nieprzereagowanym substratem w sposób ciągły odprowadza się ze strefy reakcji do kolby. Reakcję kontroluje się metodą spektroskopii 1H-NMR. Po osiągnięciu stopnia przereagowania substratu około 70% reakcję przerywa się, a produkt rozdziela się na kolumnie z wypełnieniem szklanym. Otrzymuje się 3441 g /chlorometylo/metylodichlorosilanu o t.wrz. 120-122°C z wydajnością 73%, 691 g nieprzereagowanego dimetylodichlorosilanu o t.wrz. 65—118°C, 287 g pogonu.
    Przykład III. W szklanej kolbie umieszcza się 4120g przedestylowanego trimetylotrichlorosilanu (t.wrz. 57-58°C) i łączy się z aparaturą do fotochemicznego chlorowania. Po dodaniu 12 g bromu (t.wrz. 59°C) zawartość kolby ogrzewa się do wrzenia, tak by temperatura reaktyfikatu na szczycie kolumny rektyfikacyjnej nie przekraczała 60°C. Rektyfikat kieruje się do strefy reakcji naświetlanej palnikiem UV o mocy 30 W. Chlor przepuszcza się w przeciwprądzie z szybkością 190-210 cm3/min. Produkt z nieprzereagowanym substratem w sposób ciągły odprowadza się ze strefy reakcji do kolby. Przebieg reakcji kontroluje się metodą spektroskopii 1H-NMR. Po osiągnięciu stopnia przereagowania około 70% reakcję przerywa się a produkt rozdziela się na kolumnie z wypełnieniem szklanym. Otrzymuje się 3750 g /chlorometylo/dimetylochlorosilanu (t.wrz. 115-116°C) wydajność 69%, 1050 g nieprzereagowanego trimetylochlorosilanu i wyżej wrzący pogoń.
PL27235988A 1988-05-09 1988-05-09 Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów PL155571B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL27235988A PL155571B1 (pl) 1988-05-09 1988-05-09 Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL27235988A PL155571B1 (pl) 1988-05-09 1988-05-09 Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL272359A1 PL272359A1 (en) 1989-11-13
PL155571B1 true PL155571B1 (pl) 1991-12-31

Family

ID=20042074

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL27235988A PL155571B1 (pl) 1988-05-09 1988-05-09 Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL155571B1 (pl)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104558003A (zh) * 2015-01-27 2015-04-29 荆州市江汉精细化工有限公司 一种液相氯化反应制备氯甲基三氯硅烷的方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104558003A (zh) * 2015-01-27 2015-04-29 荆州市江汉精细化工有限公司 一种液相氯化反应制备氯甲基三氯硅烷的方法
CN104558003B (zh) * 2015-01-27 2017-08-29 荆州市江汉精细化工有限公司 一种液相氯化反应制备氯甲基三氯硅烷的方法

Also Published As

Publication number Publication date
PL272359A1 (en) 1989-11-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0881477A (ja) 水素含有メチルクロルシランの製法
KR940010291B1 (ko) 비스실릴알칸 및 그들의 제조방법
US3404169A (en) Preparation of vinylsilanes by si-h-acetylene addition
US5075477A (en) Direct synthesis of methylchlorosilaakanes
US3432537A (en) Process for splitting silanes
JPH0832711B2 (ja) ジシリル化合物及びその製造方法
JP2804202B2 (ja) 3−クロルプロピルシランの製造方法
US5336799A (en) Process for the removal of hydrogen-containing silanes from methylchlorosilanes
EP0421644B1 (en) Method for preparation of organoalkoxysilanes
JP2785622B2 (ja) 3−[n−(2−アミノエチル)]アミノプロピルアルコキシシランの製造方法及びその製造装置
PL155571B1 (pl) Sposób selektywnego chlorowania metylochlorosilanów
JPH0635466B2 (ja) ジオルガノハロゲノシランの製造方法
JPS59110697A (ja) メチルハイドロジエンシラン類の製造方法
JP2008074849A (ja) メチルクロロシランの製造方法
US8278472B2 (en) Method of preparing allylchlorosilane derivative
US20050113591A1 (en) Process for preparing alkylchlorosilanes from the residues of direct synthesis of alkylchlorsilanes
PL206344B1 (pl) Sposób i urządzenie do wytwarzania silanów zawierających grupy chlorometylowe
JPH0637503B2 (ja) t−アルキルジメチルハロゲノシランの製造方法
JP2797881B2 (ja) 3−[n−(2−アミノエチル)]アミノプロピルアルコキシシランの連続的製造方法及びその製造装置
US3555064A (en) Method for the manufacture of phenyl and methylphenylchlorosilanes
JP2511244B2 (ja) トリス(シリル)アルカンとその製造方法
JP4574351B2 (ja) オルガノジアルキルアルコキシシランの製造方法
US2510149A (en) Chlorination of organosilicon compositions
US3844915A (en) Process for preparing organochlorosilanes
US4196139A (en) Process for the production of ethylsilanes