PL129254B1 - Nozzle for continuously applying a layer of solid material onto substrate - Google Patents

Nozzle for continuously applying a layer of solid material onto substrate Download PDF

Info

Publication number
PL129254B1
PL129254B1 PL1980227980A PL22798080A PL129254B1 PL 129254 B1 PL129254 B1 PL 129254B1 PL 1980227980 A PL1980227980 A PL 1980227980A PL 22798080 A PL22798080 A PL 22798080A PL 129254 B1 PL129254 B1 PL 129254B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
nozzle
chamber
prismatic
edges
layer
Prior art date
Application number
PL1980227980A
Other languages
English (en)
Other versions
PL227980A1 (pl
Inventor
Reinhard Kalbskopf
Otto Baumberger
Original Assignee
Siv Soc Italiana Vetro
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siv Soc Italiana Vetro filed Critical Siv Soc Italiana Vetro
Publication of PL227980A1 publication Critical patent/PL227980A1/xx
Publication of PL129254B1 publication Critical patent/PL129254B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/453Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/245Oxides by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/211SnO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/212TiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152Deposition methods from the vapour phase by cvd

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest dysza do ciaglego nakladania na podloze warstwy materialu stalego przez reakcje co najmniej dwóch reagentów gazowych lub zawiesiny w gazie.Znanym jest nakladanie warstwy materialu stalego w sposób ciagly, przez reakcje dwóch reagentów gazowych, na stosunkowo szerokie podloze w szczególnosci na arkusz plas¬ kiego szkla* Ten sposób jest znany pod skrótem C.VJ). od nazwy angielskiej "Chemical Yapor Deposition"• Za pomoca tego sposobu naklada sie cienkie warstwy przezroczyste SnC^ lub Ti0p przez reakcje z SnCl. odpowiednio TiCl. i HgO rozcienczonych w gazie nosnym doprowadzanym do kontaktu z powierzchnia szkla wstepnie ogrzanego do temperatury rzedu 400 - 600° C.Instalacja do stosowania tego sposobu zawiera dysze posiadajaca trzy przylegle szczeliny prostoliniowe, których scianki boczne ograniczajace brzegi wzdluzne kazdej szczeliny sa zbiezne na wspólnej linii. Przeplywy utworzone na wyjsciu tych szczelin przedstawiaja sie jako trzy odrebne przeplywy laminarne podawane na podloze we wzajem¬ nym kontakcie etycznym. Aby ustalic te trzy przeplywy w kontakcie stycznym, scianki oddzielajace rózne szczeliny musza byc bardzo cienkie i tworzyc w szczególnosci na wyjsciu tych przeplywów krawedzie mozliwie jak najbardziej ostre. Wykonanie takiej dy¬ szy na dlugosci mogacej osiagnac na przyklad trzy metry stawia duze trudnosci w zapew¬ nieniu zeby szerokosc kazdej szczeliny dyszy byla dokladnie stala na calej jej dlugos¬ ci, poniewaz blad w szerokosci powoduje, ze doprowadzany gaz nie bylby rozdzielany regularnie a to powoduje, ze nakladana warstwa nie jest jednorodna. Taka dysza przed¬ stawia nie tylko trudnosci obróbcze ale takze jej temperatura pracy, która wynosi2 129 ?54 okolo 110 stanowi czynnik powodujacy zmiane odleglosci szczelin dyszy, a zwlaszcza regularnosci tego rozstawienia.Nieregularnosci szczelin dyszy odbijaja sie bardzo niekorzystnie na jakosci nakladanej warstwy. Y/ przypadku warstwy SnO? te nieregularnosci moga powodowac tworzenie sie bialego proszku na powierzchni podloza i na wyjsciu z dyszy zatykajacego stopniowo przelot.Miejscowa zmiana,proporcji miedzy gazami reakcyjnymi moze powodowac zmiane grubosci warstwy i spowodowac teczowe odblaski na powierzchni szkla. Zwazywszy, ze warstwa tlenku cyny je3t nalozona w celu tworzenia warstwy przewodzacej elektrycznie przeznaczonej do ogrzewania szkla zwlaszcza w celu jego odladzania, nieregularnosci grubosci powoduja jeszcze zmiane rezystywnosci warstwy, a wiec niejednakowy rozdzial ciepla.Celem wynalazku jest unikniecie co najmniej .czesciowo wymienionyeh niedogodnosci, a zadaniem wiodacym do tego celu opracowania dyszy wymienionego na wstepie rodzaju, która bedzie prosta w budowie i niezawodna w dzialaniu. Zgodnie z wynalazkiem cen ten osiagnieto dzieki temu, ze dysza zawiera pryzmatyczna komore ze scietym wierzcholkiem, w której umieszczone sa metalowe tasmy usytuowane na calej dlugosci komory, dzielac te komore pryzmatyczna na trzy czesci w przyblizeniu równe, do których doprowadzane sa poszczególne skladniki tworzace warstwe materialu pokryciowego i dzielace otwór wylotowy dyszy na trzy szczeliny.W elementach dyszy wyznaczajacych pryzmatyczna komore w polowie ich wysokosci osadzone sa sruby do korygowania ewentualnych wad plaskosci poprzecznej tasm. Krawedzie tych tasm przeciwne do krawedzi dzielacych otwór wylotowy dyszy sa umieszczone w rowkach elementu rozdzielajacego, zas komora pryzmatyczna jest utworzona miedzy jedna z powierzchni elementu rozdzielajacego gaz i elementu rozkladajacego majacego dwa profile, o przekroju w ksztalcie trapezów prostokatnych, których katy ostre sa przylegle i stanowia odbicie lustrzane, przy czym profile ograniczaja szczeline otworu wylotowego dyszy, która w elemencie ma trzy szeregi przejsc majacych wyloty w komorze pryzmatycznej, a laczacych komore z elementem zasilajacym. Tasmy maja co najmniej jeden z konców osadzony miedzy dwiema szczekami mocuja-; cymi przymocowanymi gwintowanym sworzniem, który przechodzi swobodnie poprzez rure przymo¬ cowana do czesci stalej dyszy i którego czesc wychodzaca z tej rury zawiera nakretke, przy czym miedzy nakretka i koncem rury sa umieszczone sprezyny talerzowe.Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia dysze w przekroju poprzecznym, fig* 2 - jeden z podluznych konców dyszy w przekroju poprzecznym, fig. 3 - przekrój wzdluz linii III-III oznaczonej na fig. 2* W przykladzie przedstawionym korpus dyszy jest utworzony z trzech elementów a miano¬ wicie: elementu zasilajacego 1, elementu rozdzielajacego 2 i elementu rozkladajacego 3 przy czym element zasilajacy 1 i element rozkladajacy 3f sa przymocowane sprezyscie do elementu rozdzielajacego 2 srubami 4 dociskajacymi sprezyny talerzowe 5* Miedzy tymi elementami sa umieszczone uszczelki 6# Element zasilajacy 1 dyszy zawiera trzy komory 7, 8 i 9 usytuowane na calej dlugosci korpusu dyszy, i zawierajace wlot, przy czym jeden wlot 8a komory 8 jest przedstawiony na fig. 1. Wloty sa przesuniete wzdluznie aby umozliwic mocowanie do nich odpowiednich prze¬ wodów zasilajacych. Element rozdzielajacy 2 zawiera wiele przejsc pionowych 10 laczacychi \ 129254 3 kazda komore 7, 8 i 9 z lelementem rozkladajacym 3« Wykladziny 11 z masy z otwartymi porami, z teflonu, sa umieszczone' przed wejsciami a takze na wyjsciu przejsc pionowych 10. Te wy¬ kladziny sluza do tworzenia znacznych spadków cisnienia przeznaczonych do jednorodnego rozdzielania gazu na cala dlugosc korpusu dyszy* Element rozkladajacy 3 zawiera dwa profile 12 i 13. które w przekroju poprzecznym sa trapezami prostokatnymi i sa rozmieszczone jako lustrzane odbicia w stosunku do plaszczyzny pionowej przechodzacej przez srodek korpusu dyszy majac katy ostre przyleglych przekrojów w plaszczyznie srodkowej. Powierzchnie nachylone tych dwóch trapezów ograniczaja miedzy soba komore pryzmatyczna 14, której trzeci bok jest zamkniety przez powierzchnie dolna elementu rozdzielajacego 2. Y/yjscia trzech szeregów równoleglych przejsc 10 maja wyloty w czesci powierzchni dolnej elementu rozdzielajacego 2 zamykajac komore pryzmatyczna 14.Komora 14 jest podzielona na trzy czesci przez dwie metalowe tasmy 15 i 16, które sa usytuowane wzdluznie na calej dlugosci komory pryzmatycznej 14. Tasmy 15 i 16 sa skierowa¬ ne poprzecznie do scietego wierzcholka pryzmatycznej komory 14, a krawedzie sa usytuowane miedzy odsunietymi krawedziami profili 12 i 13 tworzac w ten sposób równolegle szczeliny rozkladajace, usytuowane na wyjsciu z komór pryzmatycznych 14a, 14b i 14c wydzielonych w komorze 14 przez tasmy 15 i 16. Objetosci komór 14a, Hb i 14c sa w przyblizeniu równe a tasmy 15 i 16 sa umieszczone tak, ze kazda z komór 14a, 14b i 14c jest polaczona za posrednictwem jednego szeregu przejsc 10 z komorami 7,8 19. Jedna z krawedzi tasm 15, 16 jest umieszczona w rowku podluznym 19, 20 i uszczelniona uszczelkami 17, 18 dociskanymi przez dwie tasmy dociskowe 21, 22 przymocowane srubami 23* Przez korpus dyszy przechodzi obieg oleju, który jest przedstawiony jako kanal wloto¬ wy 24 i dwa kanaly wzdluzne 25 i 26 utworzone w profilach 12? 13. Ten obieg oleju jest polaczony z zewnetrznym ukladem termostabilizacyjnym korpusu dyszy tak aby utrzymac jego o temperature w poblizu 110 C.Na fig* 2 i 3 przedstawiono srodki prowadzace i mocujace tasmy 15 i 16 do dwóch konców korpusów dyszy. Kazda tasma 15, 16 spoczywa na powierzchni podpierajacej 27, 28 nadajacej tasmom 15$ 16 odpowiednie nachylenie tak, zeby one dzielily komore pryzmatyczna 14 na trzy w przyblizeniu równe objetosci i aby te tasmy byly skierowane poprzecznie tak, ze ich przedluzenia przechodza przez sciety wierzcholek komory pryzmatycznej 14, a krawedzie tych tasm tworza trzy równolegle szczeliny i o tej samej szerokosci miedzy krawedziami profili 12 i 13. Przeciwne konce tasm 15 i 16 opieraja sie o dwie powierzchnie prowadzace usytuo¬ wane na innym koncu dyszy* Te powierzchnie podpierajace 27 i 28 sa przymocowane prosto¬ padle do dwóch scianek 359 36 usytuowanych na przedluzeniu korpusu dyszy.Kazdy koniec tych tasm jest zamocowany miedzy dwiema szczekami 29, 30 polaczonymi srubami 31 • Uklad mocujacy jest identyczny dla czterech konców dwóch tasm i zostanie tu opisane tylko jedno z tych mocowan. Jedna z tych szczek 30 jest przymocowana gwintowanym sworzniem 32 umieszczonym swobodnie w gwintowanej zewnetrznie rurze 33. Ta rura jest wkrecona w plyte 34 przymocowana do dwóch scianek 35 i 36 usytuowanych na przedluzeniu profilów 12 i 13, i zawierajacych powierzchnie podparcia 27 i 28. Gwintowane otwory, w które sa wkrecone rury 33, sa oddalone od plaszczyzny pionowej przechodzacej przez sciety wierzcholek komory pryzmatycznej 14 i tworza kat z ta plaszczyzna tak, ze4 129 254 wierzcholek kata jest usytuowany w przyblizeniu na poziomie powierzchni podpierajacych 27, 28, Do rury 33 jest przymocowana nakretka 37 na zewnatrz przestrzeni utworzonej miedzy sciankami 35, 36 i plyta 34. Druga nakretka 38 do regulacji, jest wkrecona na koniec zewnetrzny sworznia 32. Miedzy nakretkami 37 i 38 sa umieszczone sprezyny talerzowe 39, aby zapobiegac przedwczesnemu obrotowi nakretki regulacyjnej 38.Na koncu elementu rozdzielajacego 2 jest umieszczony element 40 w ksztalcie trójkata, wkrecony miedzy powierzchniami podparcia 27 i 28, sluzacy do zamkniecia konca komory pryzmatycznej 14• Uwzgledniajac sile rozciagajaca i kat pod którym jest ona wywierana na konce tasm 15 i 16, tasmy sa podparte na waskich powierzchniach podpierajacych 27 i 28 i maja takie same nachylenie poprzeczne jak nachylenie powierzchni podparci?*-* Naki id^r.c tasm 15 i 16 na powierzchnie z pewnym naprezeniem umozliwia zachowanie ich dokladnego polozenia wzdluz calej dyszy tak, ze oddalenie trzech szczelin rozdzielajacych utworzonych miedzy krawedziami profilów 12 i 13 bedzie zawsze regularne i niezalezne od rozszerzal¬ nosci wywolujacej sily rozciagajace wywierane na tasme, W polowie wysokosci profilów 12, 13 osadzone sa sruby regulacyjne 41, które przechodza przez profile 12 i 13 równolegle do ich podstawy. Sruby 41 sa przeznaczone do dzialania na tasmy 15 i 16, Plaskosc poprzeczna tasm 15 116 nie jest doskonala z tego powodu, ze tasmy sa otrzymane przez wykrawanie. Sily ciecia, które dzialaja podczas tej operacji tworza niewielka deformacje poprzeczna tasmy. Sily rozciagania wywierane na tasmy maja tendencje do zwiekszania tego odksztalcenia miedzy dwiema powierzchniami prowadzacymi 27, 28 nadajac im ksztalt o niewielkim luku w kierunku poprzecznym tasmy. Sruby regulacyjne 41 rozmieszczone wzdluz calej komory pryzmatycznej 14 sa przeznaczone do dzialania na strone wypukla tasm 15 i 16. Lekki docisk tych srub do srodka tasmy w regularnych odstepach wzdluz kazdej z tych tasm umozliwia przywrócenie plaskosci poprzecznej tasmom bez wplywu na prostoliniowosc dwóch konców krawedzi tasm.Nalezy starannie wykonczyc elementy wyznaczajace komore pryzmatyczna'14 i wzdluzne tasmy 15 i 16 rozdzielajace te komore, w celu zapewnienia przeplywu laminarnego i styczne- go skladników gazowych az do tego miejsca, gdzie kontaktuje sie z pokrywanym podlozem.Wszystkie powierzchnie stykajace sie z gazem reakcyjnym musza byc wykonane z materialu odpornego na korozje wywolywana przez te gazy. W opisanym przykladzie wszystkie powierzch¬ nie tasm 15 i 16 zostaly pokryte galwanicznie warstwa zlota. Wykonane próby za pomoca takiej dyszy pozwolily wykonac powloki o bardzo dobrej jakosci i regularnosci.Zastrzezenia patentowe 1. Dysza do ciaglego nakladania na podloze warstwy materialu stalego przez reakcje co najmniej dwóch gazów ^reakcyjnych lub zawiesiny w gazie, doprowadzanych bezposrednio w poblize podloza podgrzanego do temperatury zblizonej do temperatury reakcji tych skladników, znamienna tym, ze zawiera pryzmatyczna komore /14/ ze scietym wierzcholkiem, w której umieszczone sa metalowe tasmy /15/, /16/ usytuowane na calej dlugosci komory, dzielace komore pryzmatyczna /14/ na trzy czesci w przyblizeniu równe, do których doprowadzane sa poszczególne skladniki tworzace warstwe materialu pokryciowego i dzielace otwór wylotowy dyszy na trzy szczeliny.I 129254 * 2# Dysza wed :ug zastrz. 1, znamienna tym, ze w elementach dyszy wyzna¬ czajacych pryzmatyczna komore /H/ w polowie ich wysokosci osadzone sa sruby /H/ do kory¬ gowania^ ewentualnych wad plaskosci poprzecznej tasm /15/# /16/. 3. Dyaza wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze krawedzie tych tasm /15/f /16/ przeciwny do krawedzi dzielacych otwór wylotowy dyszy sa umieszczone w rowkach elementu rozdzielajacego /2/. 4. Dysza Wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze komora pryzmatyczna /14/ jest utworzona miedzy jedna z powierzchni elementu rozdzielajacego /2/ gaz i elementu *rozkladajacego /3/ majacego dwa profile /12/, /13/, o przekroju w ksztalcie trapezów prostokatnych, których katy ostre sa przylegle i stanowia odbicia lustrzane, przy czym profile /12/, /13/, ograniczaja szczeline otworu wylotowego dyszy, która w elemencie /2/ ma trzy szeregi przejsc /10/ majacych wyloty w komorze pryzmatycznej /H/ a laczacych komore /H/9 z elementem zasilajacym /!/• 5* Dysza wedlug zaetrz, 1, znamienna tym, ze tasmy /15/, /16/, maja co najmniej jeden z konców osadzony miedzy dwiema szczekami mocujacymi /29/, /30/, przy¬ mocowanymi gwintowanym sworzniem /32/f który przechodzi swobodnie poprzez rure /33/ przy¬ mocowana do czesci stalej dyszy, i którego czesc wychodzaca z rury /33/ zawiera nakret¬ ke /38/t przy czym miedzy nakretka /3Q/ i koncem rury /33/ sa umieszczone sprezyny talerzowe /39/» §s« FIG. I129 254 r M "I M FIG. 2 34 36 FIG. 3 Pncownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 cgz.Cena 100zl PL PL PL PL

Claims (5)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Dysza do ciaglego nakladania na podloze warstwy materialu stalego przez reakcje co najmniej dwóch gazów ^reakcyjnych lub zawiesiny w gazie, doprowadzanych bezposrednio w poblize podloza podgrzanego do temperatury zblizonej do temperatury reakcji tych skladników, znamienna tym, ze zawiera pryzmatyczna komore /14/ ze scietym wierzcholkiem, w której umieszczone sa metalowe tasmy /15/, /16/ usytuowane na calej dlugosci komory, dzielace komore pryzmatyczna /14/ na trzy czesci w przyblizeniu równe, do których doprowadzane sa poszczególne skladniki tworzace warstwe materialu pokryciowego i dzielace otwór wylotowy dyszy na trzy szczeliny.I 129254 *
2. # Dysza wed :ug zastrz. 1, znamienna tym, ze w elementach dyszy wyzna¬ czajacych pryzmatyczna komore /H/ w polowie ich wysokosci osadzone sa sruby /H/ do kory¬ gowania^ ewentualnych wad plaskosci poprzecznej tasm /15/# /16/.
3. Dyaza wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze krawedzie tych tasm /15/f /16/ przeciwny do krawedzi dzielacych otwór wylotowy dyszy sa umieszczone w rowkach elementu rozdzielajacego /2/.
4. Dysza Wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze komora pryzmatyczna /14/ jest utworzona miedzy jedna z powierzchni elementu rozdzielajacego /2/ gaz i elementu *rozkladajacego /3/ majacego dwa profile /12/, /13/, o przekroju w ksztalcie trapezów prostokatnych, których katy ostre sa przylegle i stanowia odbicia lustrzane, przy czym profile /12/, /13/, ograniczaja szczeline otworu wylotowego dyszy, która w elemencie /2/ ma trzy szeregi przejsc /10/ majacych wyloty w komorze pryzmatycznej /H/ a laczacych komore /H/9 z elementem zasilajacym /!/•
5. * Dysza wedlug zaetrz, 1, znamienna tym, ze tasmy /15/, /16/, maja co najmniej jeden z konców osadzony miedzy dwiema szczekami mocujacymi /29/, /30/, przy¬ mocowanymi gwintowanym sworzniem /32/f który przechodzi swobodnie poprzez rure /33/ przy¬ mocowana do czesci stalej dyszy, i którego czesc wychodzaca z rury /33/ zawiera nakret¬ ke /38/t przy czym miedzy nakretka /3Q/ i koncem rury /33/ sa umieszczone sprezyny talerzowe /39/» §s« FIG. I129 254 r M "I M FIG. 2 34 36 FIG. 3 Pncownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 cgz. Cena 100zl PL PL PL PL
PL1980227980A 1979-11-21 1980-11-20 Nozzle for continuously applying a layer of solid material onto substrate PL129254B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1037779 1979-11-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL227980A1 PL227980A1 (pl) 1981-09-04
PL129254B1 true PL129254B1 (en) 1984-04-30

Family

ID=4362579

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1980227980A PL129254B1 (en) 1979-11-21 1980-11-20 Nozzle for continuously applying a layer of solid material onto substrate

Country Status (16)

Country Link
US (1) US4361284A (pl)
EP (1) EP0029809B1 (pl)
JP (1) JPS5687451A (pl)
KR (2) KR830004448A (pl)
AU (1) AU544964B2 (pl)
CA (1) CA1150749A (pl)
CS (1) CS274255B2 (pl)
DD (1) DD154584A5 (pl)
DE (1) DE3066643D1 (pl)
ES (1) ES8107052A1 (pl)
IT (1) IT1134153B (pl)
MX (1) MX153336A (pl)
PL (1) PL129254B1 (pl)
SU (1) SU1187705A3 (pl)
TR (1) TR21534A (pl)
ZA (1) ZA807242B (pl)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH643469A5 (fr) * 1981-12-22 1984-06-15 Siv Soc Italiana Vetro Installation pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide.
US4524718A (en) * 1982-11-22 1985-06-25 Gordon Roy G Reactor for continuous coating of glass
EP0162842A1 (en) * 1983-12-01 1985-12-04 Shatterproof Glass Corporation Gas distribution system for sputtering cathodes
US4928627A (en) * 1985-12-23 1990-05-29 Atochem North America, Inc. Apparatus for coating a substrate
DE3869793D1 (de) * 1987-01-27 1992-05-14 Asahi Glass Co Ltd Gaszufuehrungsrohr fuer die reaktive abscheidung aus der gasphase.
US4793282A (en) * 1987-05-18 1988-12-27 Libbey-Owens-Ford Co. Distributor beam for chemical vapor deposition on glass
US5136975A (en) * 1990-06-21 1992-08-11 Watkins-Johnson Company Injector and method for delivering gaseous chemicals to a surface
DE4103413C1 (pl) * 1991-02-05 1992-11-12 Gunter M. 8918 Diessen De Voss
US6379466B1 (en) * 1992-01-17 2002-04-30 Applied Materials, Inc. Temperature controlled gas distribution plate
FR2724923B1 (fr) * 1994-09-27 1996-12-20 Saint Gobain Vitrage Technique de depot de revetements par pyrolyse de composition de gaz precurseur(s)
JP3836217B2 (ja) * 1997-05-21 2006-10-25 株式会社ベルデックス 封止液供給器具および方法
KR101309334B1 (ko) * 2004-08-02 2013-09-16 비코 인스트루먼츠 인코포레이티드 화학적 기상 증착 반응기용 멀티 가스 분배 인젝터
DE102006043542B4 (de) * 2006-09-12 2012-05-16 Innovent E.V. Verfahren zum Beschichten von Oberflächen
DE102006043543B4 (de) * 2006-09-12 2012-05-10 Innovent E.V. Homogenisator für der Beschichtung von Oberflächen dienende Gasströme
US8431187B2 (en) * 2006-12-28 2013-04-30 Korea Institute Of Industrial Technology Manufacturing method of filter media available at medium and high temperature exhaust gas using foam coating technology and filter media manufactured thereby
JP5116313B2 (ja) * 2007-02-07 2013-01-09 東洋刃物株式会社 塗布ヘッド
WO2009143142A2 (en) * 2008-05-19 2009-11-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Apparatus and method of vapor coating in an electronic device
TR201903701T4 (tr) * 2011-03-23 2019-04-22 Pilkington Group Ltd İnce film kaplamaların çöktürülmesi için düzenek ve bu düzeneğin kullanılması için çöktürme usulü.
CN102921600B (zh) * 2012-11-30 2016-04-06 贵州贵航汽车零部件股份有限公司 涂油机涂油装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3511703A (en) * 1963-09-20 1970-05-12 Motorola Inc Method for depositing mixed oxide films containing aluminum oxide
GB1282866A (en) * 1968-08-16 1972-07-26 Pilkington Brothers Ltd Improvements in or relating to the production of glass having desired surface characteristics
CH544156A (de) * 1971-04-16 1973-11-15 Bbc Brown Boveri & Cie Verfahren zur Herstellung von oxydischen Halbleiterschichten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US3970037A (en) * 1972-12-15 1976-07-20 Ppg Industries, Inc. Coating composition vaporizer
GB1516032A (en) * 1976-04-13 1978-06-28 Bfg Glassgroup Coating of glass
US4270702A (en) * 1978-04-26 1981-06-02 Albany International Corp. Adjustable orifice air knife
CH628600A5 (fr) * 1979-02-14 1982-03-15 Siv Soc Italiana Vetro Procede pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede.

Also Published As

Publication number Publication date
AU544964B2 (en) 1985-06-27
CS274255B2 (en) 1991-04-11
US4361284A (en) 1982-11-30
SU1187705A3 (ru) 1985-10-23
CA1150749A (fr) 1983-07-26
ES497005A0 (es) 1981-10-01
ES8107052A1 (es) 1981-10-01
ZA807242B (en) 1981-11-25
TR21534A (tr) 1984-08-22
EP0029809A1 (fr) 1981-06-03
JPS6148988B2 (pl) 1986-10-27
KR860000024Y1 (ko) 1986-01-30
DE3066643D1 (en) 1984-03-22
IT8025742A0 (it) 1980-11-03
IT1134153B (it) 1986-07-31
PL227980A1 (pl) 1981-09-04
DD154584A5 (de) 1982-04-07
KR830004448A (ko) 1983-07-13
MX153336A (es) 1986-09-22
AU6440480A (en) 1981-05-28
CS797580A2 (en) 1990-09-12
EP0029809B1 (fr) 1984-02-15
JPS5687451A (en) 1981-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL129254B1 (en) Nozzle for continuously applying a layer of solid material onto substrate
US4524718A (en) Reactor for continuous coating of glass
KR100355058B1 (ko) 단일체 분사기 및 증착 챔버
CN102176978B (zh) 用于向基体上施加液体薄膜的涂覆工具
KR100359958B1 (ko) 다층슬라이드다이피복방법및장치
US8636847B2 (en) Chemical vapor deposition flow inlet elements and methods
US4019906A (en) Curtain coating method
EP0276796B1 (en) Gas feeding nozzle for a chemical vapor deposition apparatus
US20020134507A1 (en) Gas delivery metering tube
KR970700788A (ko) 박막을 성장시키기 위한 방법 및 장치(method and equipment for growing thin films)
WO1999002755A1 (en) Chemical vapor deposition manifold
KR20010042259A (ko) 화학 기상 증착 동안 오염을 줄이기 위한 챔버
US4041897A (en) Cascade coater
EP0534869A1 (en) Liquid distribution system for photographic coating device
US20040139913A1 (en) Extrusion type nozzle and coating apparatus using the same
EP0618487B1 (en) Coating hopper inserts
CN115245889B (zh) 模头
US4690628A (en) Adjustable feed block for coextrusion die
EP0800755B1 (en) Dual air knife for hot air solder levelling
US6352424B1 (en) Extrusion die membrane assembly
CZ317694A3 (en) Method of producing a coating on a glass substrate and apparatus for making the same
US4245584A (en) Apparatus for applying paste upon blank strips for cerment electrodes of alkaline storage batteries
SE461038B (sv) Saett foer framstaellning av belagt, plant glas
US7455897B2 (en) Die lip for strip coating
KR20170108994A (ko) 대면적 기판을 코팅하기 위한 장치