PL124685B1 - Method of polishing of glassware in polishing bath containing sulfuric acid and hydrofluoric acid - Google Patents

Method of polishing of glassware in polishing bath containing sulfuric acid and hydrofluoric acid Download PDF

Info

Publication number
PL124685B1
PL124685B1 PL1980228290A PL22829080A PL124685B1 PL 124685 B1 PL124685 B1 PL 124685B1 PL 1980228290 A PL1980228290 A PL 1980228290A PL 22829080 A PL22829080 A PL 22829080A PL 124685 B1 PL124685 B1 PL 124685B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
polishing
bath
acid
sodium
sulfuric acid
Prior art date
Application number
PL1980228290A
Other languages
English (en)
Other versions
PL228290A1 (pl
Original Assignee
Saelzle Erich
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Saelzle Erich filed Critical Saelzle Erich
Publication of PL228290A1 publication Critical patent/PL228290A1/xx
Publication of PL124685B1 publication Critical patent/PL124685B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C03C15/02Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C03C15/02Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface
    • C03C15/025Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface for polishing crystal glass, i.e. lead glass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób polerowania przedmiotów szklanych w kapieli polerskiej, za¬ wierajacej kwas siarkowy i kwas fluorowodoro¬ wy, oraz plukania juz na gotowo wypolerowanych przedmiotów w myjacej kapieli z kwasu siarko¬ wego i/lub z wody.Zastosowanie sposobu wedlug wynalazku rozcia¬ ga sie na przemysl szklarski, przy czym niewy¬ konczone, prasowane lub szlifowane przedmioty poleruje sie powierzchniowo, aby nadac im zada¬ ny polysk.Znane jest polerowanie na drodze chemicznej przedmiotów szklanych, i to zarówno szkla praso¬ wanego jak i szlifowanych przedmiotów szkla¬ nych, przy czym stosuje sie kapiel polerska, za¬ wierajaca kwas fluorowodorowy i kwas siarko¬ wy. Dzieki zachodzacym podczas polerowania kwa¬ sami reakcji ze skladnikami szkla powierzchni przedmiotów tworzy sie na nich silnie zwiazana warstwa produktów reakcji. Te produkty reakcji sa na ogól siarczanami, wodorosiarczanami, fluor¬ kami i szesciofluorokrzemianami kationów zawar¬ tych w szkle. Ta warstwa produktów reakcji za¬ klóca przebieg polerowania, czyli dzialanie kwa¬ sów polerskich na powierzchnie szkla, az reakcje te zupelnie ustana. Bylo wiec dotychczas zawsze niezbedne oderwanie tej warstwy produktów reak¬ cji procesu polerowania od powierzchni szkla, by móc kontynuowac polerowanie. 10 15 20 Dla tego celu polerowanie przerywano a powlo¬ ke odmywano i to powtarzano wielokrotnie, az osiagnieto zamierzony stopien polerowania. Dla od¬ mycia powloki polerskiej stosowano dawniej .wo¬ de, co jednak prowadzilo do zbyt wielkich niedo¬ godnosci, gdyz przez, naprzemienne polerowanie i plukanie bywaly zawleczone do kapieli polerskiej duze ilosci wody, które tym samym kapiel roz¬ cienczaly, a po drugie otrzymywano popluczyny wodne o takiej zawartosci kwasu, ze to prowadzi nie tylko do nadmiernego zuzycia kwasu lecz tez do powaznych problemów, poniewaz te kwasne po¬ pluczyny wodne, nim beda mogly byc spuszczone do scieków, musza zostac zobojetnione w kosztow¬ ny sposób.Wedlug opisu patentowego Republiki Federalnej Niemiec nr 1185780 roztwór kwasu siarkowego o takim stezeniu, ze jest on chlonacym wode, sto¬ sowano jako kapiel myjaca, T tak ze tylko juz na gotowo wypolerowane przedmioty szklane musia¬ ly byc plukane woda. Jednak tez w tym sposobie polerowania z myjaca kapiela z kwasu siarkowe¬ go niezbedne bylo zanurzanie poddawanych pole¬ rowaniu przedmiotów szklanych kilkakrotne, oko¬ lo 10—15nkrotne, w ciagu stosunkowo krótkotrwa¬ lych okresów zanurzenia na przemian w kapieli polerskiej i w kapieli myjacej.Z opisu Republiki Federalnej Niemiec DAS nr 1496666 znane jest utrzymywanie kapieli polerskiej 124 685'* A r r 124685 w warunkach stezenia 'nasycenia kwasem szescio- fluorokrzemowym, przyj czym czesc kapieli poler¬ skiej odbiera sie i odfizuca, a taka sama czesc objetosci zastepuje sie swiezym kwasem polerskim lu odpowiednio zwiejks&a sie zawartosc fluorowo¬ doru w kwasie polerskitn przez wprowadzenie ga¬ zowego fluorowodoru. Nie dazy sie jednak ani nie osiaga sie na tej drodze usuniecia rozpuszczo¬ nych jonów sodu i potasu z kwasu polerskiego.Celem wynalazku jes4 przeto calkowite lub da¬ leko idace wyeliminowanie tego wielokrotnego na¬ przemiennego traktowania w kapieli polerskiej lub myjacej, albo inaczej mówiac opracowanie takie¬ go sposobu, który pozwolilby na uzyskanie zada¬ nego stopnia wypolerowania w jednym lub co najwyzej w dwóch lub trzech zabiegach zanurza¬ nia.Osiaga sie ten cel za pomoca sposobu wedlug wynalazku, polegajacego na tym, ze z kapieli po¬ lerskie] podczas jej eksploatacji usuwa sie nie- ^ przerwanie, z przerwami lub od czasu do czasu rozpuszczone jony sodu i/lub potasu.Nieoczekiwanie okazalo sie, ze przez usuniecie jonów sodu i/lub potasu z kapieli polerskiej moz¬ na czas polerowania przy jednym zabiegu zanu¬ rzenia znacznie przedluzyc, tj. mozna naprzemien¬ ne traktowanie ograniczyc do kilku razy, albo ze nawet mozliwe jest uzyskanie zamierzonej jakosci powierzchni za pomoca jednego zabiegu polerowa¬ nia i plukania.W sposobi* wedlug wynalazku stosuje sie jak zwykle kapiel polerska, która obok kwasu siar¬ kowego zawiera tez kwas fluorowodorowy. Pole¬ ruje sie przewaznie w podwyzszonej temperaturze, a mianowicie w temperaturze co najwyzej okolo 70 °C, korzystnie w temperaturze 40—60 °C, w za¬ leznosci Od skladu kapieli polerskiej. Na ogól w WftneLL polerskiej stezenie kwasu siarkowego wy¬ nosi 52 i/lub 63V» H2SO4 i wiecej, zas stezenie HF wynosi 3—10%. Dokladny sklad i temperatura kwasti polerskiego zalezy w dalekiej mierze od skladu szkla, z którego wytworzone sa przedmioty poddawtone polerowaniu.Jak juz wspomniano, dla zmniejszenia ilosci za¬ biegów zanudzania poddawanych polerowaniu przedmiotów w kapieli polerskiej i dla zmniejsze¬ nia danych okresów zanurzania okazalo sie celo¬ wym to, zeby powloke, tworzaca sie na podda¬ wanych polerowaniu przedmiotach podczas proce¬ su polerowania z powodu reakcji polerowania, splukiwac nie woda lecz za pomoca myjacej ka¬ pieli z kwasu siarkowego. Stezenie kwasu siarko¬ wego w takiej kapieli myjacej powinno byc tak wysokie, aby dzialalo ono jak odciagajace wode, tzn. by-bylo wieksze niz 67% HzSÓ4. Utworzona powloka solna bedzie wskutek tego porowata, po¬ kruszona lub odlupana, gdyz kwas siarkowy od¬ ciaga z tych soli w nich zawarta wode i umo¬ zliwia tym samym istotna zmiane struktury tej powloki. Celowo stosuje sie przeto kwas siarko¬ wy o stezeniu 68—72% H2SO4. Równiez myjaca kapiel z kwasu siarkowego powinna wykazywac podwyzszona temperature, przy czym korzystnie utrzymuje sie temperature 55—65 °C.Jezeli po pewnej ilosci naprzemiennych trakto- 10 15 25 wan, tzn. zanurzen w kapieli polerskiej i usuniec przy tym utworzonych powlok w myjacej kapieli z kwasu siarkowego, uzyska sie zamierzony sto¬ pien wypolerowania, to juz na gotowo wypolero¬ wany przedmiot przemywa sie ostatecznie woda do usuniecia kwasu i suszy.Ozeste przenoszenie koszy, zaladowanych przed¬ miotami poddawanymi polerowaniu, z kapieli po¬ lerskiej do kapieli w kwasie siarkowym i odwrot¬ nie a wreszcie do ostatecznej kapieli wodnefprzed suszeniem wymaga nie tylko wiele czasu lecz tez wielu prac manipulacyjnyeh i stad tez jest praco¬ chlonne a zatem kosztowne.Podczas toku polerowania w zawierajacym kwas fluorowodorowy kwasie siarkowym powierzchnio¬ we skladniki szkla rozpuszczaja sie. Przy tym jo¬ ny metalu alkalicznego przechodza najpierw do roztworu, lecz po nasyceniu kapieli polerskiej jo¬ nami metalu alkalicznego wytracaja sie one jako wodorosiarczany razem z fluorkami i szesciofluo- rokrzemianami w postaci osadu silnie zwiazanego z powierzchnia szkla.Jesli wówczas z kapieli polerskiej jony metalu alkalicznego usunie sie w dowolny sposób, to kapiel ta bedzie znów w stanie utrzy¬ mywac jony metalu alkalicznego ze skladników szkla jako rozpuszczone w roztworze, dzieki cze¬ mu stlumi sie lub opózni sie osadzanie wodoro¬ siarczanów metalu alkalicznego. Nadal zachodzace osadzanie fluorków i szesciofluorokrzemianów w w reakcji polerowania ewentualnie z pewnym u- dziaiem siarczanów, tworzy powloke jednak nie tak silnie przyczepna — jak dotychczasowe war¬ stwy zawierajace w szerokim zakresie wodorosiar¬ czany metalu alkalicznego — i daja sie spluki¬ wac na ogól przez poruszanie przedmiotów szkla¬ nych w kapieli polerskiej.Usuwanie jonów sodu i/lub potasu z kapieli po¬ lerskiej wedlug wynalazku moze zachodzic na róz¬ nych drogach. Szczególnie korzystne jest stracanie za pomoca kwasu szesciofluorokrzemowego, gdyz szesciofluorokrzemiany sodowe lub potasowe sa bardzo trudno rozpuszczalne w kapieli polerskiej.To wytracanie za pomoca kwasu szesciofluoro¬ krzemowego moze nastepowac nieprzerwanie, z przerwami lub od czasu do czasu. Wytracone sze¬ sciofluorokrzemiany oddziela sie na filtrze prze¬ pompowujac przez niego kapiel polerska. Rodzaj w tym celu stosowanego filtra nie ma znaczenia, so Mozna w tym celu stosowac zwykle nucze, a tak¬ ze filtry bebnowe i prasy filtracyjne.Placek filtracyjny, czyli wytracone szesciofluoro¬ krzemiany metalu alkalicznego mozna odprowa¬ dzac do dalszego wykorzystania, zas przesacz, czy- 55 li oczyszczona kapiel polerska zawraca sie po¬ nownie do koryta polerowniezego. Stosowane ilo- * sci kwasu szesciofluorokrzemowego zaleza od cal¬ kowitej ilosci jonów sodu i potasu w pozostajacej do wytracania objetosci kapieli polersikiej. Te ilosc M kwasu szesciofluorokrzemowego oblicza sie latwo ze stezen nasycenia sodem i/lub potasem w posta¬ ci ich wodorosiarczanów, fluorków lub szesciofluo¬ rokrzemianów albo mozna okreslic na drodze lat¬ wych prób wstepnych. 65 Na to stracanie szesciofluorokrzemianów metalu 35 40 455 124 685 6 alkalicznego korzystnie wplywa nieznaczny doda¬ tek kwasu fosforowego l/lub kwasu octowego.. Mozliwe jest tez dodawanie do kapieli poler¬ skiej niewielkiej iloscd kompleksomwórczyeh kwa¬ sów organicznych, takich jak kwas szczawiowy, winowy lub malonowy, dzieki czemu mozna wiecej jonów metalu alkalicznego utrzymywac jako roz¬ puszczone w kapieli polerskiej, a tym samym mo¬ zna stracanie prowadzic za pomoca mniejszych ilo¬ sci kwasu szesciofluorokrzemowego lub w wiek¬ szych przerwach.. Oprócz wyzej omówionych kwasów komplekso- twórczych nadaja sie tez inne substancje chelato- twórcze dla sodu i potasu, pod warunkiem, ze mo¬ glyby one stawic opór silnie kwasnym warunkom srodowiska. Przykladami takich substancji sa 1,2, 3-trójamdnopropan, alanina, glicyna, kwas amino- barbiturowy, kwas N,N^dwuoctowy, kwas nitrylo- trójoctowy, kwas 2-sulfoamlinodwuoctowy, kwas etylmodwuaminoczteroocbowy oraz rózne skonden¬ sowane kwasy fosforowe, takie jak kwas pirofo- sforowy, kwas tetrametafosforowy, kwas trójmeta- fosforowy, kwas trójpolifiosforowy i dalsze, wedlug tej samej idei dzialajace substancje.Dalsza mozliwosc usuwania jonów metalu alka¬ licznego z kapieli polerskiej polega na tym, ze kapiel te prowadzi sie w obiegu bocznym lub od czasu do czasu przez elektrolizer rteciowy, w któ¬ rym katoda rteciowa wychwytuje sód i potas przez tworzenie amalgamatu. Amalgamat poddaje sie zwyklej obróbce. Metale alkaliczne sód i/lub potas, osadzone wobec wysokiego nadnapiecia wo¬ dorowego na katodzie rteciowej, rozpuszczaja sie w rteci z utworzeniem cieklych amalgamatów; te zwykle w naczyniu do rozkladu traktuje sie woda, wskutek czego powstaje lug metalu alkalicznego i wodór, a rtec regeneruje sie dla nowej elektro¬ lizy.Elektrolityczne lub elektrodialityczne usuwanie jonów metalu alkalicznego z kapieli polerskiej jest równiez mozliwe w elektrolizerze membranowym, przy czym jony metalu alkalicznego z kapieli po¬ lerskiej wedruje przez pólprzepuszczalna blone do katolitu. Do tego rodzaju elektrolitycznych lub e- lektrodialitycznych sposobów stosuje sie blony z materialu, który jest selektywnie przepuszczalny tylko dla kationów, czyli w tym przypadku dla sodu lub potasu.Blony do wymiany kationów sa dla elektrolizy i elektrodializy ogólnie znane w technice. Material wymieniacza moze byc przykladowo zywica na o- snowie fenoloformaldehydowych produktów z da¬ jacymi sie wymieniac pobocznie usytuowanymi grupami sulfonowymi, albo tez znanymi materia¬ lami jonitowymi na osnowie zywicy styrenowej zawierajacej jonitowe grupy sulfonowe, odpowia¬ dajacymi produktom handlowym o nazwie Am- berlite i Dowex, które sa najbardziej znanymi.W rachube wchodza tez zywice na osnowie kwa¬ su akrylowego z grupami karboksylowyrnd jako grupami wymiennymi oraz zywice winylowe z grupami sulfonowymi jako wymiennymi. Wreszcie nadaja sie oczywiscie tez nowo opracowane, per- fluorowane homo- i kopolimery etylenu, zawiera¬ jace pobocznie usytuowane grupy sulfonowe i kar¬ boksylowe. Jako katolit nadaje sie np. roztwór kwasu siarkowego, z którego nastepnie wykrysta- lizowuje sie siarczan metalu alkalicznego a kwas zawraca sie do polerowania albo mozna odprowa- 5 dzac do jakiegokolwiek innego wykorzystania.Wreszcie mozliwe jest tez podejmowanie usuwa¬ nia jonów metalu alkalicznego z kapieli polerskiej za pomoca jonitów, przy czym moze tu chodzic o polimeryczne produkty w postaci kwasu lub o zeolitopodobne sita molekularne lub im podobne.Materialy jonowymienne w tym przypadku utrzy¬ muje sie w kolumnie, a kapiel polerska, podda¬ wana uwolnieniu od jonów metalu alkalicznego, prowadzi sie przez nasypowe zloze jonitów* Z jo¬ nitem silnie wiaza sie jony metalu alkalicznego, a zregenerowana kapiel polerska mozna ponownie zawrócic do koryta polerowniczego.Jako nieorganiczne polimeryczne kationity wcho¬ dza w rachube produkty, takie jakie wyzej wy¬ szczególniono dla materialów membranowych. Po¬ nadto nadaja sie tez nieorganiczne jonowymienne substancje w rodzaju permutytów i zeolitów, tj. glinokrzemianów o róznym skladzie, które swa ka¬ tionowa czesc moga wymienic na sód lub potas lub dzialac jako sita molekularne, tj. nie przepu¬ szczac kationów przez swa szkieletowa strukture molekularna.Dalsza zaleta sposobu wedlug wynalazku polega na tym, ze stezenie kwasu siarkowego w kapieli polerskiej nie musi byc utrzymywane dokladnie — tak jak dotychczas — w zakresie 50—60f/t H2SO4, lecz ze zawartosc kwasu siarkowego moze wynosic okolo 40—75%, 00 moze ulatwic robocza eksploatacje kapieli polerskiej i zmniejszyc zuzy¬ cie kwasu siarkowego.Dla pierwszego wariantu postepowania niezbed¬ ny kwas szesciofluorokrzemowy mozna wytwarzac na miejscu i na stanowisku. Jak wiadomo, pod¬ czas procesu polerowania powstaje czterofluorek kraemu, który razem z fluorowodorkiem uchodzi z kapieli polerskiej, skad odciaga sie je pod zmniej¬ szonym cisnieniem i wylapuje w przemywaniu gazu woda* Tak utworzony kwas szesciofluorokrze¬ mowy, ewentualnie po zatezeniu do zadanej war¬ tosci, mozna wówczas stosowac do stracania jo¬ nów metalu alkalicznego. Tym samym tez ko¬ niecznosc zobojetnienia popluczyn wodnych z przemywania gazu jest wyeliminowana, a podczas procesu polerowania zuzywany kwas fluorowodo¬ rowy jest uzyteczny jako srodek stracajacy.Wreszcie stracanie alkaliów umozliwia latwe i niezawodne kontrolowanie i regulowanie skladu kapieli polerskiej. Zakladajac, ze gestosc kapieli polerskiej jest utrzymywana jako wartosc stala, mozna stezenie kwasu fluorowodorowego w kapieli polerskiej okreslac droga pomiarów przewodnosci (dokladnosc ± 10*/o) a przewodnosc przyjac za wielkosc regulacyjna dla odswiezenia kapieli po¬ lerskiej za pomoca kwasu fluorowodorowego. Na tej koncepcji mozna opierac automatyczne stero¬ wanie procesem polerowania.W przypadku • tego automatycznego sterowania procesu polerowania w warunkach stalej gesto¬ sci kapieli polerskiej przez utrzymywanie zasad¬ niczo stalego skladu albo nieprzerwanie rejestruje 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60124 685 7 sie w zwykly sposób przewodnosc kapieli poler¬ skiej albo od czasu do czasu okresla sie wartosc przewodnosci. Jesli wówczas przewodnosc kapieli polerskiej osiagnie okreslona wartosc graniczna, która odpowiada okreslonemu stezeniu graniczne¬ mu kwasu fluorowodorowego w kapieli, to auto¬ matycznie uruchomi sie zasilanie kwasem fluoro¬ wodorowym, zasilajac kapiel tak dlugo, az steze¬ nie kwasu fluorowodorowego w kapieli polerskiej a prczeto i jej przewodnosc osiagna druga wartosc graniczna.Podane nizej przyklady objasniaja sposób we¬ dlug wynalazku.Przyklad 1. Nalezalo wypolerowac przedmio¬ ty szklane ze szkla olowiowego krysztalowe o za¬ wartosci okolo 30% PbO. Jako kapiel polerska sto¬ sowano roztwór 45% wagowych H2SÓ4 i 25% wa¬ gowych HF o temperaturze okolo 50 °C. Do tej kapieli polerskiej na biezaco dodawano taka ilosc 35% H2&iF6, aby odpowiadala zawartosci alkaliów z rozpuszczonych podczas polerowania skladników szkla. Przy tym nadmiar kwasu szesciofluorokrze- mowego nie powinien' przewyzszac 1%.Plukano w 66—76% kwasie siarkowym o tempe¬ raturze okolo 70 °C. Niezbedne bylo tylko trzy¬ krotne traktowanie naprzemienne, a caly proces polerowania byl zakonczony po uplywie 12 minut.Przyklad II. Najezalo wypolerowac praso¬ wane talerze ze szkla olowiowego krysztalowego o zawartosci 24% PbO. Kapiel polerska zawierala 65% wagowych H2SO4 i 6% wagowych HF i wy¬ kazala temperature 55 °C. Po uplywie 10 minut proces polerowania byl zakonczony.Po trzech szarzach do kapieli polerskiej dodano taka ilosc kwasu szesciofluorokrzemowego, ze sta¬ nowilo to 0,5%-wy nadmiar H2SiF6. Wytracone szesciofluoroikrzemiany sodowe i/lub potasowe od¬ dzielano od kapieli polerskiej przy koncu kazdej zmiany.Przyklad III. Nalezalo wypolerowac kielichy szklane ze szkla olowiowego o zawartosci 24% PbO, wykazujace bardzo szorstki szlif diamento¬ wy. Kapiel polerska zawierala 45% wagowych H2SO4, 0,8% wagowych HF i 1% objetosciowy 85% HsP04. Po jednokrotnym zanurzeniu proces polerowania konczyl sie po uplywie 14 minut. Po trzech szarzach nastepowalo stracanie szesciofluo- rokrzemianów metalu alkalicznego za pomoca kwa¬ su szesciofluorokrzemowego.Przyklad IV. Nalezalo wypolerowac spodki ze szkla prasowanego. Kapiel polerska zawierala 55% wagowych H2SO4, 2,5% wagowych HF i 0,3% objetosciowych HsP04. Jako kapiel myjaca stoso¬ wano 75% kwas siarkowy o temperaturze 75 °C.W dwóch zabiegach zanurzania w kapieli poler¬ skiej i w kapieli myjacej osiagano po uplywie lacznie 9 minut zamierzony stopien polerowania.Stracenie szes^ofluorokrzemianów nastepowalo w ten sposób, ze w kapieli polerskiej utrzymywano stale nieznaczny nadmiar niezbednego kwasu sze- sciofluoroikrzemowego.Przyklad V. Nalezalo wypolerowac przezna¬ czone na wódke Whisky kieliszki ze szlifem dia¬ mentowym. Kapiel polerska zawierala 65% wago¬ wych H2SO4, 1,8% wagowych HF i 0,4% wago- 8 wych kwasu winowego i wykazywala temperature 50 °C. W jednorazowym zabiegu zanurzania po u- plywie 18 minut osiagano zamierzony stopien po¬ lerowania. Po 10 szarzach stracono szesciofluoro- 5 krzemiany dodatkiem kwasu szesciofluorokrzemo¬ wego i oddzielano z kapieli polerskiej.Przyklad VI. Na^zalo wypolerowac spodecz- ki wyprasowane ze szkla olowiowego krysztalo¬ wego o zawartosci 24% PbO. Kapiel polerska za- 10 wierala 70% wagowych H2SO4, 3% wagowe HF i 0,3% wagowych kwasu szczawiowego i wykazy¬ wala temperature 60 °C. Po jednorazowym zabiegu zanurzenia po uplywie 12 minut osiagnieto zamie¬ rzony stopien polerowania. Po 10—15 szarzach z 15 kapieli polerskiej stracano szesciofluorokrzemiany metali alkalicznych za pomoca kwasiu szesciofluoro¬ krzemowego i wydzielano jako osad.Przyklad VII. Nalezalo wypolerowac recznie szlifowane spodki ze szkla olowiowego krysztalo- 20 wego o zawartosci 24% PbO. Kapiel polerska za¬ wierala 70% wagowych H2SO4 i 6% wagowych HF i wykazywala temperature 55 °C. Jako kapiel my¬ jaca stosowano 75% roztwór kwasu siarkowego o temperaturze 75 °C. Po dwukrotnym zanurzeniu i 25 obróbce myjacej osiagano po uplywie lacznie 8 minut zamierzony stopien polerowania. Kapiel po¬ lerska od czasu do czasu doprowadzano do elek- trolizera rteciowego, w którym kapiel uwalniano od rozpuszczonych alkaliów, a nastepnie zawra- 30 camo do polerowania kolejnej szarzy.Przyklad VIII. Nalezalo wypolerowac prze¬ znaczone na wino kieliszki szklane w kapieli po¬ lerskiej, zawierajacej 65% wagowych H2SO4 i 1,5% wagowych HF, o temperaturze 45 °C. Kapiel po- 35 lerska przepompowano nieprzerwanie z koryta po¬ lerowniczego przez elektrolizer do ponownie koryta polerowniczego. Elektrolizer zawieral miedzy ko¬ morami elektrod pólprzepuszczalna blone, która pozwalala tylko na przejscie jonów metali alka- 40 licznych. Kapiel polerska wprowadzano do komory anodowej, a jako katolit stosowano roztwór kwa¬ su siarkowego. Dzieki elektrolizie jony metalu al¬ kalicznego wedrowaly z komory anodowej do ko¬ mory katodowej i tworzyly tam siarczan metalu 45 alkalicznego. Po osiagnieciu stezenia nasycenia siarczanami katolitu wykrystalizowano je w wa¬ runkach ochlodzenia. Za pomoca tej elektrolizy u- dawalo sie utrzymywac stale stezenie alkaliów w kapieli polerskiej w ciagu dluzszego czasu. Przy 50 tym sposobie postepowania polerowanie wymagalo 15 minut. W kapieli polerskiej o stalej gestosci mozna przewodnosc stosowac jako wielkosc regu¬ lacyjna dla zasiania kwasem fluorowodorowym kapieli polerskiej. 55 Przyklad IX. Otrzymane przez odlewanie od¬ srodkowe i szlifowane wazy ze szkla olowiowego krysztalowego o zawartosci 30% PbO polerowano w kapieli polerskiej ,zawiorajacej 45% wagowych H2SO4 i 1,5% wagowych HF o temperaturze 50 °C. 60 Z koryta polerowniczego nieprzerwanie w obiegu bocznym prowadzono kapiel polerska przez filtr wstepny do kolumny, w której byl zawarty zeolit w postaci H+ jako kationit. Po usunieciu jonów metalu alkalicznego z kapieli polerskiej zawracano 65 te kapiel do koryta polerowniczego. Przedmioty /9 124 685 10 szklane w trzech naprzemiennych traktowaniach wobec stosowania kapieli myjacej z kwasu siar¬ kowego polerowano w ciagu 8 minut. W kolumnie tej równie uzyteczny okazal sie organiczny katio- nit z grupami sulfonowymi. Po uplywie pewnego 5 okresu czasu mozna jonit regenerowac w znany sposób.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób polerowania przedmiotów szklanych w kapieli polerskiej, zawierajacej kwas siarkowy i kwas fluorowodorowy, oraz plukania juz na go- towo wypolerowanych przedmiotów w myjacej kapieli z kwasu siarkowego i/lub z wody, zna¬ mienny tym, ze z kapieli polerskiej usuwa sie roz¬ puszczone jony sodu i/lub potasu. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze usuwanie jonów sodu i/lub potasu z kapieli po¬ lerskiej prowadzi sie dodajac kwas szesciofluoro- krzemowy i oddzielajac wytracone szesciofluoro- knzemiany sodu lub potasu. 3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze dodatkowo wprowadza sie kwas fosforowy i/lub octowy do kapieli polerskiej. 4. Sposób wedlug zastrz. 2 albo 3, znamienny tym, ze dodatkowo wprowadza sie kwas malono- wy, kwas szczawiowy lub kwas winowy do karpieli polerskiej. 5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jony sodu i/lub potasu usuwa sie z kapieli po¬ lerskiej droga elektrolizy w elektrolizerze rtecio¬ wym lub w elektrolizerze z blona pólprzepuszczal- na dla kationów. 6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jony sodu i/lub potasu usuwa sie z kapieli poler¬ skiej za pomoca kationitu. 10 15 PL

Claims (6)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób polerowania przedmiotów szklanych w kapieli polerskiej, zawierajacej kwas siarkowy i kwas fluorowodorowy, oraz plukania juz na go- towo wypolerowanych przedmiotów w myjacej kapieli z kwasu siarkowego i/lub z wody, zna¬ mienny tym, ze z kapieli polerskiej usuwa sie roz¬ puszczone jony sodu i/lub potasu.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze usuwanie jonów sodu i/lub potasu z kapieli po¬ lerskiej prowadzi sie dodajac kwas szesciofluoro- krzemowy i oddzielajac wytracone szesciofluoro- knzemiany sodu lub potasu.
  3. 3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze dodatkowo wprowadza sie kwas fosforowy i/lub octowy do kapieli polerskiej.
  4. 4. Sposób wedlug zastrz. 2 albo 3, znamienny tym, ze dodatkowo wprowadza sie kwas malono- wy, kwas szczawiowy lub kwas winowy do karpieli polerskiej.
  5. 5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jony sodu i/lub potasu usuwa sie z kapieli po¬ lerskiej droga elektrolizy w elektrolizerze rtecio¬ wym lub w elektrolizerze z blona pólprzepuszczal- na dla kationów.
  6. 6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jony sodu i/lub potasu usuwa sie z kapieli poler¬ skiej za pomoca kationitu. 10 15 PL
PL1980228290A 1979-12-07 1980-12-05 Method of polishing of glassware in polishing bath containing sulfuric acid and hydrofluoric acid PL124685B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2949383A DE2949383C2 (de) 1979-12-07 1979-12-07 Verfahren zur Schwefelsäure-Flußsäure-Polieren von Glasgegenständen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL228290A1 PL228290A1 (pl) 1981-08-21
PL124685B1 true PL124685B1 (en) 1983-02-28

Family

ID=6087901

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1980228290A PL124685B1 (en) 1979-12-07 1980-12-05 Method of polishing of glassware in polishing bath containing sulfuric acid and hydrofluoric acid

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4332649A (pl)
EP (1) EP0030361B1 (pl)
JP (1) JPS5939380B2 (pl)
AT (1) ATE6766T1 (pl)
BG (1) BG39975A3 (pl)
CA (1) CA1151514A (pl)
CS (1) CS221940B2 (pl)
DD (1) DD155058A5 (pl)
DE (1) DE2949383C2 (pl)
IE (1) IE50486B1 (pl)
PL (1) PL124685B1 (pl)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3215963A1 (de) * 1982-04-29 1983-11-03 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zum verbessern des netzverhaltens von glasoberflaechen
ES525932A0 (es) * 1982-10-13 1984-11-16 Saelzle Erich Metodo de pulir articulos de vidrio
US5120605A (en) * 1988-09-23 1992-06-09 Zuel Company, Inc. Anti-reflective glass surface
US4944986A (en) * 1988-09-23 1990-07-31 Zuel Company Anti-reflective glass surface
US5164018A (en) * 1992-03-18 1992-11-17 Barcelona Jr Russell L Water-spot remover containing hydrofluoric acid, ammonium fluoride, and an alcohol
DE4217057A1 (de) * 1992-05-22 1993-11-25 Saelzle Erich Verfahren zur Verminderung der Blei- und/oder Bariumemission von Blei und/oder Barium enthaltenden Kristallglasgegenständen bei Berührung mit einer flüssigen Phase
US5391258A (en) * 1993-05-26 1995-02-21 Rodel, Inc. Compositions and methods for polishing
US6630052B1 (en) 1996-06-26 2003-10-07 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus for etching glass substrate
KR0180850B1 (ko) 1996-06-26 1999-03-20 구자홍 유리기판 에칭장치
KR100265556B1 (ko) * 1997-03-21 2000-11-01 구본준 식각장치
US6327011B2 (en) 1997-10-20 2001-12-04 Lg Electronics, Inc. Liquid crystal display device having thin glass substrate on which protective layer formed and method of making the same
KR100272513B1 (ko) 1998-09-08 2001-01-15 구본준 유리기판의 식각장치
KR100308157B1 (ko) 1998-10-22 2001-11-15 구본준, 론 위라하디락사 액정표시소자용 유리기판
US6083840A (en) * 1998-11-25 2000-07-04 Arch Specialty Chemicals, Inc. Slurry compositions and method for the chemical-mechanical polishing of copper and copper alloys
KR20020086949A (ko) * 2000-04-11 2002-11-20 캐보트 마이크로일렉트로닉스 코포레이션 실리콘 옥사이드의 선택적 제거를 위한 시스템
JP2002087844A (ja) * 2000-09-14 2002-03-27 Sony Corp 表示パネルの製造方法
US6929861B2 (en) 2002-03-05 2005-08-16 Zuel Company, Inc. Anti-reflective glass surface with improved cleanability
DE10228116A1 (de) * 2002-06-24 2004-01-29 Sälzle, Erich, Dr. Verfahren zum Polieren von Glasgegenständen
US20040035696A1 (en) * 2002-08-21 2004-02-26 Reinhard Fred P. Apparatus and method for membrane electrolysis for process chemical recycling
JP4324742B2 (ja) * 2006-04-28 2009-09-02 シャープ株式会社 研磨ガラス基板の製造方法
US9926225B2 (en) 2011-12-30 2018-03-27 Corning Incorporated Media and methods for etching glass
US9505651B2 (en) 2012-05-31 2016-11-29 Corning Incorporated Systems and methods for acid-treating glass articles
CN110828290A (zh) * 2018-08-10 2020-02-21 东莞新科技术研究开发有限公司 一种硅片的清洗方法及硅片

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3321388A (en) * 1962-08-09 1967-05-23 Asahi Denka Kogyo Kk Process for coordinated operation of diaphragm and mercury cathode electrolytic cells
DE1189681B (de) * 1963-10-26 1965-03-25 Erich Saelzle Dipl Chem Dr Verfahren zum Polieren von Gegenstaenden aus Kristall- oder Bleikristallglas
DE1496666C3 (de) * 1965-05-26 1974-04-04 Erich Dipl.-Chem.Dr. 8000 Muenchen Saelzle Verfahren zum Polieren von Glasgegenständen in einem Flußsäure und Schwefelsäure enthaltenden Polierbad
US3560281A (en) * 1967-10-02 1971-02-02 Owens Illinois Inc Process for regenerating an acid bath
DE1920009B2 (de) * 1969-04-19 1971-11-11 Dunchen, Hannes, 3340 Wolfen buttel Verfahren und vorrichtung zum behandeln von feststoffhaltiger poliersaeure

Also Published As

Publication number Publication date
IE50486B1 (en) 1986-04-30
DD155058A5 (de) 1982-05-12
CS221940B2 (en) 1983-04-29
US4332649A (en) 1982-06-01
DE2949383B1 (de) 1980-12-11
IE802557L (en) 1981-06-12
ATE6766T1 (de) 1984-04-15
BG39975A3 (en) 1986-09-15
JPS5939380B2 (ja) 1984-09-22
EP0030361A1 (de) 1981-06-17
CA1151514A (en) 1983-08-09
JPS5692137A (en) 1981-07-25
DE2949383C2 (de) 1982-01-21
EP0030361B1 (de) 1984-03-21
PL228290A1 (pl) 1981-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL124685B1 (en) Method of polishing of glassware in polishing bath containing sulfuric acid and hydrofluoric acid
US3658470A (en) Metal ion recovery system
IE832401L (en) Polishing glass articles in an acid bath
CA2148876A1 (en) Ion exchange resin regeneration apparatus
US20080087357A1 (en) Pretreatment of aluminum surfaces
CZ160394A3 (en) Process of treating waste water from lead accumulator production
JP4658339B2 (ja) 金属表面処理方法
KR20010106235A (ko) 금속 표면-처리 방법
KR100322267B1 (ko) 주석-동 화학 합금 도금방법
RU2481425C2 (ru) Способ очистки электролитов хромирования
JP2003088872A (ja) 使用済み梅漬調味液の脱塩・脱酸処理方法
SU1294873A1 (ru) Способ регенерации растворов хроматировани
JPH0338360B2 (pl)
DE19820001C2 (de) Verfahren zur Entfernung von Metallschichten auf Metall, Glas, Keramik und Kunststoffteilen
JPH0356320B2 (pl)
RU1806108C (ru) Способ электрохимической полировки стеклоизделий
JPH05293339A (ja) 廃硫酸の処理方法及び装置
JPS61106800A (ja) 亜鉛系片面電気めつき鋼板の製造方法
JPS6196086A (ja) アルミニウム又はアルミニウム合金の表面処理方法
JPH0515798B2 (pl)
DE19957406A1 (de) Ein elektrochemisches Verfahren zur Reinigung wasserführender Systeme und Anlagen von Kesselsteininkrustationen
JPH05115681A (ja) 洗濯方法及び洗濯装置
JPS60234998A (ja) 金属材表面の除染清浄化方法
DE1118566B (de) Verfahren zum Regenerieren verbrauchter, Eisensalze enthaltender Schwefelsaeure- oder Phosphorsaeurebeizen
SU1294881A1 (ru) Способ промывки металлов