CS221940B2 - Method of polishing the glass objects in the polishing bath containing the sulphuric acid and hydrofluoric acid - Google Patents
Method of polishing the glass objects in the polishing bath containing the sulphuric acid and hydrofluoric acid Download PDFInfo
- Publication number
- CS221940B2 CS221940B2 CS808563A CS856380A CS221940B2 CS 221940 B2 CS221940 B2 CS 221940B2 CS 808563 A CS808563 A CS 808563A CS 856380 A CS856380 A CS 856380A CS 221940 B2 CS221940 B2 CS 221940B2
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- polishing
- bath
- acid
- polishing bath
- sodium
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 106
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 75
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 28
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 title 1
- 239000001117 sulphuric acid Substances 0.000 title 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 36
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- -1 sodium fluorosilicate Chemical compound 0.000 claims description 4
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 claims description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 claims 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 239000005401 pressed glass Substances 0.000 abstract description 5
- 239000005337 ground glass Substances 0.000 abstract description 3
- 229910000567 Amalgam (chemistry) Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 abstract description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 2
- 229910001023 sodium amalgam Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 13
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 6
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 229910052936 alkali metal sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910000497 Amalgam Inorganic materials 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZRIZWWOQETQ-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(carboxymethyl)-2-sulfoanilino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O PAAZRIZWWOQETQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSQZLWHRJMYZHD-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound NC1C(=O)NC(=O)NC1=O PSQZLWHRJMYZHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N L-alanine Chemical compound C[C@H](N)C(O)=O QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- AZSFNUJOCKMOGB-UHFFFAOYSA-N cyclotriphosphoric acid Chemical compound OP1(=O)OP(O)(=O)OP(O)(=O)O1 AZSFNUJOCKMOGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000909 electrodialysis Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229940104869 fluorosilicate Drugs 0.000 description 1
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N nitrous oxide Inorganic materials [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical class [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001120 potassium sulphate Substances 0.000 description 1
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- PZZICILSCNDOKK-UHFFFAOYSA-N propane-1,2,3-triamine Chemical compound NCC(N)CN PZZICILSCNDOKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000009991 scouring Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L sodium sulphate Substances [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N triphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000015041 whisky Nutrition 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
- C03C15/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
- C03C15/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface
- C03C15/025—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface for polishing crystal glass, i.e. lead glass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
(54) Způsob leštění skleněných předmětů v leštící lázni obsahující . kyselinu sírovou a kyselinu fluorovodíkovou
Vynález se týká leštícího postupu pro lisované sklo, .nebo pro broušené skleněné předměty, přičemž se leštění provádí jako obvykle v lázni obsahující kyselinu sírovou a fluorovodíkovou a mezi leštícím postupem a po leštícím postupu se oplachuje v lázni kyseliny sírové a/nebo ve vodě. Způsobem podle vynálezu se z leštící lázně odstraňují ionty sodíku a/nebo draslíku vznikající při rozpouštění skleněných součástí a to
a) přidáváním kyseliny fluorokřemičité к leštící lázni za srážení odpovídajících fluorokřemičitanů a odfiltrováním pevné látky, w
b) elektrolýzou ve rtutovém Článku za vzniku amalgamy sodíku a/nebo draslíku,
c) elektrolýzou v článku s membránou semipermeabilní pro kationy, nebo pomocí katexů.
Vynález se týká způsobu leštění skleněných předmětů kyselinou sírovou a fluorovodíkovou.
Způsob podle vynálezu se používá v průmyslu skla, kde se povrchově leští surové, lisované nebo broušené skleněné předměty, aby ' se jim dodal potřebný lesk.
Je známé leštění skleněnýoh předmětů a to jak lisovaného skla tak také broušených skleněných předmětů chemickou cestou, přieemž se používá leštící lázně obSiaihjící kyselinu fluoгovodíkovol a kyselinu sírovou. Reakcemi kyseein se skleněnými povrchu předmětů probíhajícími při leštění se na povrchu předmětů tvoří pevně uLpívaadcí vrstva reakiních produktů. Tyto reakiní produkty jsou sírany, kyselé sírany, fluoridy a fluorokřemiiitany kationtů obsažených ve skle. Tato vrstva reakiních produktů brání leštícímu postupu, tedy vlivu leštících kyseein na povrch skla, dokud tyto reakce · zcela neustanou. Bylo proto dosud vždy třeba tuto vrstvu reakiních produktů leštícího postupu odstraňovat s povrchu skla rozpouštěním, aby se moohlo v leštění pokraiovat. Za tím úielem se leštění přeruší a povlak se smývá. Tento postup se mnohokrát opakuje, až je dosaženo žádaného stupně leštění. Ke smývání povlaku vznikajícího při leštění se dříve pouuívala voda, což však vedlo k velkým nevýhodám, protože střdaavým leštěním a praním se do leštící lázně zavléká velké опо^^ vody, lázeň se tím zřeňuje a oahpar vzo^á prací voda s takovým obsahem kyselin, že to nevede jjeo k nežádoucí spotřebě kyseHo, ale i k závažným problémům, poněvadž se tyto kyselé prací vody před vypouštěním do řek musí nákladiým způsobem ne^^lizovat.
Podle DE ^tentoíto spisu i. 11 85 780 se jato prací lázeň používá roztok tysehoy sírové takové koncentrace, aby odeHrala vodu, takže se vodou musí oplachovat pouze již hotové vyleštěné skleněné předmmty. Ale i při tomto leštícím postupu s prací lázni hbsaaolící kyselinu sirovou je třeba leštěné skleněné předměty ^ěkoikrát, řádově 10 až 15krát běhám relativně krátkých dob ponořenO, střddavě ponořovat doleštící lázně a do prací lázoě.
Z DASu i. 14 96 666 je_ známé udržovat leštící lázeň při koncenOraci nasyceného roztoku kyseliny f tím, že iást leštící lázně vypiusí a odstraní a nahradí se steOiým objemem ierstvé leštící kyseliny, popřípadě se obsah fluorovodíku v leštící kyselině doplní zaváděním plynného fluoroiodíru. Odstranění rozpuštěných sodíkových a draslíkových íootů z leštící kyselíny se tímto způsobem ani nedaaí, ani se ho nedosáhne.
Úkolem vynálezu je zdela, nebo · co nejvíce oddsranOt toto mnohonásobné působení leštící a prací lázní a vytvooit způsob, který by uméOňňhal dosažení žádaného stupně leštění jediném ponořením, nebo nejvýše dvěma nebo třemi ponořovacími postupy.
Poddtata vynálezu spočívá v tom, že se z leštící lázně během provozu odsíranu^ sodíkové a/nebo draslíkové íooty. ·
Překvapivě se též ukázalo, že se · odstraňováním íootů sodíku a/nebo draslíku z leštící lázně může doba leštění · při ϊ^ο^Ι^ι ponoořenl podstatně prodlou^t, tj. že se střddavé působend může oimezt na malý poiet, nebo dokonce je také možné, jediiým leštícím a pracím postupem dosáhnout požadované jakossi povrchu.
Při způsobu podle vynálezu se jako obvykle·používá leštící lázeň, která vedle kyseliny sírové obsahuje í kyselinu fui^£^:^c^\^o^dd^l^o^v^ou. Leští se nejlépe při zvýšené teplotě a to až asi 70 °C, zejm^a meei 40 a ··60 °C, vždy podle slovní leštící. lázoě. Obecně je toaoUoostní koncentrace kyselíny sírové v leštící lázni mezi 52 a 63 %, nebo nad 63 %·a koncentrace kyselíny ^ис^ус^кс»^ HF meei 3 a 10 %. Přesné · složení a teplota leštící kyselíny závisí hodně na složení skla ze kterého jsou skleněné předměty vyrobené.
Jak již bylo výše uvedeno, ukázalo se pro snížení poitu ponořování leštěných předmětů do leštící lázoě a pro srážení doby ponořování jako úielné, neom^^t povlak tvořící se na základě leštící reakce ' během leštícího postupu na leštěných předmětech vodou, ale prací lázní kyseliny sírové. Koncentrace kyseliny sírové má být v takové prací lázni tak vysoká, aby měla schopnost odebírat vodu, tj. větší než 67 %. Tím se stává vznikající povlak porézním drobivým, popřípadě odprýskavým, poněvadž kyselina sírová odebírá solím jejich obsah vody a tím způsobuje podstatnou změnu struktury povlaku. Používá se proto účelně kyselina sírová o koncentraci 68 až asi 72 %. Prací lázeň kyseliny sírové má také mít zvýšenou teplotu, přičemž se výhodně udržuje teplota mezi 55 a 65 °C.
Dosáhne-li se po určitém počtu střídavého působení, tj. ponoření do leštící lázně a odstranění vznikajícího při tom povlaku v prací lázni kyseliny sírové požadovaného leštícího stupně, tak se vyleštěný předmět omyje od kyseliny vodou a suší se.
Časté přendavání košů naplněných leštěným materiálem z leštící lázně do lázně kyseliny sírové a opět zpět a potom do závěrečné vodní lázně před sušením nevyžaduje jen hodně času, ale i hodně manipulační práce a je proto velmi namáhavé a tím nákladné.
Při leštícím postupu v kyselině sírové s obsahem kyseliny fluorovodíkové se povrchové skleněné součásti rozpouštějí. Přitom přecházejí ionty alkalických kovů nejprve do roztoku, ale po nasycení leštící lázně ionty alkalických kovů se vylučují jako kyselé sírany spolu s fluoridy a fluorokřemičitany ve formě sraženiny pevně ulpívající na povrchu skla. Odstranili! se z leštící lázně ionty alkalických kovů jakýmkoli způsobem, tak je lázeň opět schopna rozpouštět ionty alkalických kovů ze skleněných součástí, čímž se potlačuje, popřípadě oddaluje vylučování kyselých síranů alkalických kovů. Vznikající sraženiny fluoridů a a fluorokřemičitanů z leštící reakce, popřípadě s určitým podílem síranů však neulpívají pevně jako dosavadní vrstvy obsahující ve velkém rozsahu kyselé sírany alkalických kovů a nechají se pohybem skleněných předmětů v leštící lázni spláchnout.
Odstraňování iontů sodíku a/nebo draslíku z leštící lázně se podle vynálezu může provádět různým způsobem. Zvlášt výhodné je vysrážení kyselinou fluorokřemičitou, poněvadž fluorokřemičitany sodné popřípadě draselné jsou v leštící lázni velmi těžko rozpustné. Toto srážení kyselinou fluorokřemičitou se může provádět kontinuálně, šaržovitě nebo občasně. Vysrážené fluorokřemičitany se pak přečerpáním leštící lázně přes filtr oddělí. Druh použitého filtru není důležitý. Mohou se používat obvyklé nuČe, ale i bubnové filtry a kalolisy. Filtrační koláč, tedy vysrážené fluorokřemičitany alkalických kovů se mohou dále využívat, zatímco filtrát, tj. vyčištěná leštící lázeň, se opět vrací do leštící vany. Používané množství kyseliny fluorokřemičité závisí na celkovém množství iontů sodíku a draslíku v objemu leštící lázně připravené ke srážení. Množství kyseliny fluorokřemičité se vypočte jednoduchým způsobem z koncentrace nasyceného roztoku sodíku a/nebo draslíku ve formě jejich kyselých síranů, fluoridů nebo fluorokřemičitanů, popřípadě se nechá zjistit jednoduchým předběžným pokusem.
Vysrážení fluorokřemičitanů alkalických kovů se může usnadnit malým přídavkem kyseliny fosforečné a/nebo kyseliny octové do leštící lázně.
Je také možné к leštící lázni přidávat malá množství komplexotvorných organických kyselin, jako je kyselina štavelová, vinná nebo malonová, čímž se může v leštící lázni ponechat v roztoku více iontů alkalických kovů a tím se srážení může provádět menším množstvím kyseliny fluorokřemičité, popřípadě se srážení může provádět v delších intervalech. Mimo výše jmenované komplexotvorné kyseliny se hodí i jiné látky tvořící chelaty, umožňující pro sodík a draslík odolnost.vůči silně kyselým podmínkám prostředí. Jako příklady jsou 1,2,3-triaminopropan, alanin, glycin, kyselina aminobarbiturové, kyselina Ν,Ν-dioctová, kyselina nitrilotrioctová, kyselina 2-sulfoanilindioctová, kyselina ethylendiamintetraoctová jtikož i různé kondenzované kyseliny fosforečné, jako kyselina pyrofosforečná, kyselina tetramethafosforečná, kyselina trimethafosforečná, kyselina tripolyfosforečná a další látky působící na stejném principu.
D^lSzí možnost odstraňování iontů alkalických kovů z leštící lázně spočívá v tom, že se lázeň vede vedlejší cirkulací nebo občasně rtuoovým elektrolýzním článkem, kde rtutová katoda tvořením amalgamy zachycuje sodík a IrasSík. Amalgama se zpracuje obvyklým způsobem. Alkalické kovy, sodík a/nebo draslík, vyloučené na rtutové katodě se za vysokého přepětí vodíku rozpouští ve rtuti za vzniku amalgamy. Na tuto se obvyklým způsobem působí za účelem rozkladu vodou, čímž vznikají alkalický hydroxid a vodík a rtut se regeneruje pro novou elektrolýzu.
Elektrolytické, popřípadě elektrodiaLytccké odstraňování iontů aLkalicCých kovů z leštící lázně je také možné v membránovém elektroýýzním článku, přčeemž ionty alkalických kovů z leštící lázně přecházeeí sernipermeeablní memtibánou do Catholytu. Pro takový elektrolytický, nebo elektrodialytický způsob se po^ívaa! ·‘ mernmrány z oajeeiálů, který je selektivně permeabilní pouze pro kationty, v·tomto případě tedy pro sódík anebo draslík. Mernmrány jako měniče · kationtů jsou pro elektrolýzu a elektrodialýzu v technice všeobecně známé. Měničový oajteiál může být například pryskyřice na bázi · fenoioormaldehydu s postranními skupinami kyseliny sulfonové, nebo také známé měničové látky na bázi styrenové pryskyřice s měničovými skupinami kyseliny sulfonové, odpeoViljíií obchodním produktům A^m^i^e^it a které jsou nejznámmjší. Také zde přicházejí v úvahu pryskyřice na bázx kyseliny akrylové se skupinou kyseeiny karboxylová jako skupinou miniiovol, jakož i vinylové pryskyřice s měničovou skupinou kyseliny sulfonové. Konečně se samozřejmě hodí i nově vyvinuté peefluorované homo- a kopolymery ethylenu s postranními skupinami kyseliny sulfonové nebo karboxylové a podobně účinné látky. Jako katholyt se hodí například roztok kyseliny sírové, ze kterého pak vykrystoluje síran alkalického kovu a kyselina se vrací k leštění nebo se využívá jným způsobem.
Konečně je také možné provádět odstraňování iontů alkalických kovů z leštící lázně pomocí iontoměničů, přieemž se může jednat o polymerní produkty v kyselinové formě, nebo o zeolitckká moOeldární síta, nebo podobně. Iontoměniče tvoří v tomto případě sloupec a leštící lázeň se za účelem odstranění iontů alkalických kovů vede touto vrstvou tontooěniiů. Na iontoměničích se ionty alkalických kovů zachhtí a regenerovaná leštící lázeň se pak může opět vrátit do leštící vany. Jako anorganické polymerní měniče С^^о^ přicházeeí v úvahu produkty uvedené již pro memmránové látky. Mimo to se také hodí anorganické ionooměničové látky druhu permuuttů a zeeoithů, což jsou křemičitony hlinité různého složení, které umožňují své kationtové čáási vyměnit za sodík nebo draslík, popřípadě pracuj jako mooekulová síta, tj. nepropeoLštёjí kati ony svou skeletovou mooelculovou strukturou.
Daaší výhoda způsobu podle vynálezu spočívá v tom, že se hrnoonoosní koncentrace kyseliny · sírové v leštící lázni nemusí jako dosud udržovat přísně mezi 50 a 60 %, ale že obsah kyseliny sírové může být meei asi 40 a 75 %, čímž se leštící provoz ulehčuje a snižuje se spořeba kyseliny sírové.
Kys^i-na fU.uorokřjoičitá potřebná pro první variantu způsobu se může vyrábět na místě samém. JaC známo, vzniká při leštícím postupu tetrjfluortl křemíku, který uniká s fluorovodíkem z leštící lázně, odsává se a při praní plynu se zachycuje ve vodě. Takto vzniklá kyselina fluoroCřjiičitá, popřípadě po konccnn-rování na žádanou hodnotu, se vede ke srážení iontů alkalických kovů. Tím se eliminuje i nutnost ne^raliz^e prací vody z praní plynu a kyselina fluoгovolíková spotřebovaná při leštícím postupu se vyuužje jako srážecí prostředek.
Odlučování umožňuje konečně jednoduchou a jistou kontrolu a reg^u.a^i složení leštící lázně.
Za předpokladu, že se hustota leštící lázně udržuje konssannní, je možné konceenraci Cyseeioy fuuooovodíkové v leštící lázni stamoovt měřením vodivoosi (přesnost i 10 %) a vodivcst brát jako !Cazaael pro oživení leštící lázně kyselinou fluooovolíкovol. Na tomto principu je možné automatické řízení leštícího postupu. Při tomto automatickém řízení leš ticího postupu, za předpokladu konstantní hustoty leštící lázně dodržováním v podstatě konstantního složení, se obvykle vodivost leštící lázně bud registruje kontinuálně, nebo se občas zjišťuje hodnota vodivosti. Dosáhne-li vodivost leštící lázně určitou mezní hodnotu, která odpovídá určité mezní koncentraci kyseliny fluorovodíkové v lázni, automaticky se uvede v činnost přidávání kyseliny fluorovodíkové a to tak dlouho, až koncentrace kyseliny fluorovodíkové v leštící lázni a tím její vodivost, dosáhne druhé mezní hodnoty.
Vynález se dále vysvětluje následujícími příklady, v nichž všechna uvedená % znamenají koncentraci hmotnostní, není-li uvedeno jinak.
Příklad 1
Mají se leštit skleněné předměty z olovnatého křišťálu s obsahem kysličníku olovnatého PbO cca 30 %. Jako leštící lázeň slouží roztok obsahující 45 % kyseliny sírové a 2,5 % kyseliny fluorovodíkové HF o teplotě asi 50 °C. К leštící lázni se průběžně přidává tolik 35%ní kyseliny fluorokřemičité H^SiF^, aby to odpovídalo obsahu alkalických kovů skleněných součástí rozpuštěných při leštění. Při tom nemá přebytek kyseliny fluorokřemičité překročit 1 %.
Oplachuje se v 66 až 76%ní kyselině sírové při teplotě asi 70 °C. Je třeba trojnásobného střídavého působení a celý leštící postup je během 12 minut ukončen.
Příklad 2
Leští se lisované talíře z olovnatého křišťálu s obsahem kysličníku olovnatého PbO 24 %. Leštící lázeň obsahuje 65 % kyseliny sírové H^SO^ a 6 % kyseliny fluorovodíkové HF,i,. a má teplotu 55 °C. Po 10 minutách je leštící postup ukončen.
Po třech šaržích se к leštící lázni přidá tolik kyseliny fluorokřemičité, aby vznikl její 0,5%ní přebytek. Vysrážené fluorokřemičitany sodné a/nebo draselné se na konci každé vsázky z leštící lázně oddělí.
Příklad 3
Leští se kalíškovina z olovnatého křišťálu s obsahem kysličníku olovnatého PbO 24 %, mající velmi drsný, diamantem broušený povrch. Leštící lázeň obsahuje 45 % hmotnosti kyseliny sírové H2SO4, 0,8 % hmotnosti kyseliny fluorovodíkové HF a 1 % objemu kyseliny fosforečné (85%ní). Jediným ponořením se leštící postup za 14 minut ukončí. Po třech šaržích se provede vysrážení fluorokřemičitanů alkalických kovů kyselinou fluorokřemičitou.
Příklad 4
Leští se mísy z lisovaného skla. Leštící lázeň obsahuje 55 % hmotnosti kyseliny sírové H2S04, 2,5 % hmotnosti kyseliny fluorovodíkové HF a 0,3 % objemu kyseliny fosforečné Н^РОд. Jako prací lázeň slouží 75%ní kyselina sírová o teplotě 75 °C. Dvěma ponorovacími postupy do leštící lázně a prací lázně je po celkem 9 minutách dosaženo žádaného stupně vyleštění. Vysrážení fluorokřemičitanů alkalických kovů se provádí tím, že se v leštící lázni stále udržuje malý přebytek potřebné kyseliny fluorokřemičité.
Příklad 5
Leští se odlivky na Whisky s diamantovým výbrusem. Dešticí lázeň obsahuje 65 % kyseliny sírové H2SO4, 1,8 % kyseliny fluorovodíkové HF a 0,4 % kyseliny vinné a má teplotu 50 °C. Jediným ponořením na dobu 18 minut se dosáhne potřebného stupně vyleštění. Po 10 šaržích se přidáním kyseliny fluorokřemičité vysráží fluorokřemičitany a oddělí se z leštící lázně.
б
Příklad '6
Leští se lisované šálky z olovnatého krištálu s obsahem kysličníku olovnatého PbO 24 %. Leššicí lázeň obsahuje 70 % kyseliny sírové H^O^, 3 % kyseliny fUuooovodíkové HP a 0,3 % kyseliny štavel^ové a má teplotu 60 °C. Jediným ponořením na dobu 12 minut se dosátoe žádaného stupně vyleštění. Po 10 až 15 šaržích se z leštící lázně vysráží kyselinou fluorokřemičitou fluorokřemičitany alkalických kovů a odděělí se.
Příklad 7
Leští se ručně broušené mísy z olovnatého křištálu s obsahem kysličníku olovnatého PbO 24 %· Leešicí lázeň obsahuje 70 % kyseliny sírové H^SO^ a 6 % kyseliny fuooovoodíkové HF a má tepltou 55 ' °C. Jako prací lázeň slouží 75%ní oozt,ok kyseliny sírové o teplotě ' 75 °C. Po dvojím ponoření a omyrtí se po celkem 8 minutách dosáhne požadovaného stupně vyleštění. Leešicí lázeň se občas vede do o^^uš^^^é^h^o elektrolýzního článku, kde se zbaví rozpuštěných alkalií a vrací se do další šarže k leštění
Příklad 8
M1:í se leštit vinné sklenky v leštící lázni obsaahujcí 65 % kyseliny sírové HgSO^ a 1,5 % kyseliny fí^oo<^\^^d:^l^c^^é HF při teplotě 45 °C. Leešicí lázeň se trvale přečerpává z leššicí vany elektrolýzním článkem a z něho opět do lešticí vany. Elektrolýzní článek obsahuje mezi elektoodovými komorami semiperineebilní memtbánu, která propouuší pouze ionty alkalických kovů. Leešicí lázeň se vede do anodové komory a jako katholyt se používá roztok kyseeiny sírové. Elektrolýzou přechází ionty alkaicckých kovů z anodové komory do katodové komory a tam vzniká síran alkaicckých kovů. Při dosažení koncentrace nasyceného roztoku síranů v katholytu se nechuj po ochlazení sírany vykrystalovat. Pomooí elektrolýzy je možné konceetnci alkalických kovů v lešticí lázni udržovat dlouhou dobu konstantní. Při tomto postupu je třeba 15 minut jako doby leštění. V lešticí lázni s ko^ž^tta^ltnrí hustotou je možné p^i^u^í-t vodivost jako funkci regulace doplňování kyseliny fluosovsdíkové do lešticí lázně.
Příklad 9
Leští se vázy získané odstředivým liííni a pak broušené, z olovnatého křištálu s obsahem kysličníku olovnatého PbO 30 %, a to v lešticí lázni obsaauljcí 45 % kyseeiny sírové 112SO4 a 1,5 % kyseliny fluorovodíkové HF při teplotě 50 °C. Z lešticí vany se lešticí lázeň kontinuálně vede přes předčištsvbcí filtr do kolony, která jako kationtů obsahuje zeeoít v H' formě. Po odstranění iontů alkaicckých kovů z lešticí lázně se lázeň vrací opět do lešticí vany. Skleněné předměty se leští 8 minut třemi strddavými působeními za pouHtí kyseliny sírové jako prací lázně. V koloně se také osvěědčl organický měnič kationtů se skupinami kyseliny sulfonové. Po nějaké době se iontoměnič může obvyklým způsobem regenerovat.
Claims (6)
- PŘEDMĚT _ VYNÁLEZU1 . Způsob leštění skleněných předmětů v lešticí lázni obsbIu^cí kyselinu sírovou a kyselinu fuuoo©vodíkovou s oplachováním vyleštěných předmětů v prací lázni kyseliny sírové a/nebo ve vodné, vyznačený tím, že se z lešticí lázně kontinuálně, šaržoví^, nebo občas odstraňuj rozpuštěné ionty sodíku a/nebo draslíku.
- 2. Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že se odstraňování iontů sodíku a/nebo draslíku z lešticí lázně provádí přidáním kyseliny fluorokřeoičité a oddělením vysráženého fluorokřemičitanu sodného, popřípadě flusrskřemičilanl draselného.
- 3. Způsob podle bodu 2, vyznačený tím, že se navíc do leštící lázně přidá kyselina fosforečná a/nebo octová.
- 4. Způsob podle bodu 2 nebo 3, vyznačený tím, že se do leštící lázně navíc přidá kyselina malonová, štavelová nebo vinná.
- 5. Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že ionty sodíku a/nebo draslíku se z leštící lázně odstraní elektrolýzou ve rtutovém článku, nebo v článku s membránou semipermeabilní pro kationy.
- 6. Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že se ionty sodíku a/nebo draslíku z leštící lázně odstraní pomocí katexů.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2949383A DE2949383C2 (de) | 1979-12-07 | 1979-12-07 | Verfahren zur Schwefelsäure-Flußsäure-Polieren von Glasgegenständen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS221940B2 true CS221940B2 (en) | 1983-04-29 |
Family
ID=6087901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS808563A CS221940B2 (en) | 1979-12-07 | 1980-12-05 | Method of polishing the glass objects in the polishing bath containing the sulphuric acid and hydrofluoric acid |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4332649A (cs) |
| EP (1) | EP0030361B1 (cs) |
| JP (1) | JPS5939380B2 (cs) |
| AT (1) | ATE6766T1 (cs) |
| BG (1) | BG39975A3 (cs) |
| CA (1) | CA1151514A (cs) |
| CS (1) | CS221940B2 (cs) |
| DD (1) | DD155058A5 (cs) |
| DE (1) | DE2949383C2 (cs) |
| IE (1) | IE50486B1 (cs) |
| PL (1) | PL124685B1 (cs) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3215963A1 (de) * | 1982-04-29 | 1983-11-03 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zum verbessern des netzverhaltens von glasoberflaechen |
| ES525932A0 (es) * | 1982-10-13 | 1984-11-16 | Saelzle Erich | Metodo de pulir articulos de vidrio |
| US5120605A (en) * | 1988-09-23 | 1992-06-09 | Zuel Company, Inc. | Anti-reflective glass surface |
| US4944986A (en) * | 1988-09-23 | 1990-07-31 | Zuel Company | Anti-reflective glass surface |
| US5164018A (en) * | 1992-03-18 | 1992-11-17 | Barcelona Jr Russell L | Water-spot remover containing hydrofluoric acid, ammonium fluoride, and an alcohol |
| DE4217057A1 (de) * | 1992-05-22 | 1993-11-25 | Saelzle Erich | Verfahren zur Verminderung der Blei- und/oder Bariumemission von Blei und/oder Barium enthaltenden Kristallglasgegenständen bei Berührung mit einer flüssigen Phase |
| US5391258A (en) * | 1993-05-26 | 1995-02-21 | Rodel, Inc. | Compositions and methods for polishing |
| KR0180850B1 (ko) | 1996-06-26 | 1999-03-20 | 구자홍 | 유리기판 에칭장치 |
| US6630052B1 (en) | 1996-06-26 | 2003-10-07 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Apparatus for etching glass substrate |
| KR100265556B1 (ko) | 1997-03-21 | 2000-11-01 | 구본준 | 식각장치 |
| US6327011B2 (en) | 1997-10-20 | 2001-12-04 | Lg Electronics, Inc. | Liquid crystal display device having thin glass substrate on which protective layer formed and method of making the same |
| KR100272513B1 (ko) | 1998-09-08 | 2001-01-15 | 구본준 | 유리기판의 식각장치 |
| KR100308157B1 (ko) | 1998-10-22 | 2001-11-15 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시소자용 유리기판 |
| US6083840A (en) * | 1998-11-25 | 2000-07-04 | Arch Specialty Chemicals, Inc. | Slurry compositions and method for the chemical-mechanical polishing of copper and copper alloys |
| CN1422314A (zh) * | 2000-04-11 | 2003-06-04 | 卡伯特微电子公司 | 用于优先除去氧化硅的系统 |
| JP2002087844A (ja) * | 2000-09-14 | 2002-03-27 | Sony Corp | 表示パネルの製造方法 |
| US6929861B2 (en) | 2002-03-05 | 2005-08-16 | Zuel Company, Inc. | Anti-reflective glass surface with improved cleanability |
| DE10228116A1 (de) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Sälzle, Erich, Dr. | Verfahren zum Polieren von Glasgegenständen |
| US20040035696A1 (en) * | 2002-08-21 | 2004-02-26 | Reinhard Fred P. | Apparatus and method for membrane electrolysis for process chemical recycling |
| JP4324742B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2009-09-02 | シャープ株式会社 | 研磨ガラス基板の製造方法 |
| US9926225B2 (en) | 2011-12-30 | 2018-03-27 | Corning Incorporated | Media and methods for etching glass |
| WO2013181213A1 (en) | 2012-05-31 | 2013-12-05 | Corning Incorporated | Systems and methods for acid-treating glass articles |
| CN110828290A (zh) * | 2018-08-10 | 2020-02-21 | 东莞新科技术研究开发有限公司 | 一种硅片的清洗方法及硅片 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3321388A (en) * | 1962-08-09 | 1967-05-23 | Asahi Denka Kogyo Kk | Process for coordinated operation of diaphragm and mercury cathode electrolytic cells |
| DE1189681B (de) * | 1963-10-26 | 1965-03-25 | Erich Saelzle Dipl Chem Dr | Verfahren zum Polieren von Gegenstaenden aus Kristall- oder Bleikristallglas |
| DE1496666C3 (de) * | 1965-05-26 | 1974-04-04 | Erich Dipl.-Chem.Dr. 8000 Muenchen Saelzle | Verfahren zum Polieren von Glasgegenständen in einem Flußsäure und Schwefelsäure enthaltenden Polierbad |
| US3560281A (en) * | 1967-10-02 | 1971-02-02 | Owens Illinois Inc | Process for regenerating an acid bath |
| DE1920009B2 (de) * | 1969-04-19 | 1971-11-11 | Dunchen, Hannes, 3340 Wolfen buttel | Verfahren und vorrichtung zum behandeln von feststoffhaltiger poliersaeure |
-
1979
- 1979-12-07 DE DE2949383A patent/DE2949383C2/de not_active Expired
-
1980
- 1980-11-19 US US06/208,452 patent/US4332649A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-12-02 JP JP55170194A patent/JPS5939380B2/ja not_active Expired
- 1980-12-03 EP EP80107553A patent/EP0030361B1/de not_active Expired
- 1980-12-03 AT AT80107553T patent/ATE6766T1/de not_active IP Right Cessation
- 1980-12-05 CA CA000366267A patent/CA1151514A/en not_active Expired
- 1980-12-05 PL PL1980228290A patent/PL124685B1/pl unknown
- 1980-12-05 CS CS808563A patent/CS221940B2/cs unknown
- 1980-12-05 IE IE2557/80A patent/IE50486B1/en not_active IP Right Cessation
- 1980-12-08 DD DD80225840A patent/DD155058A5/de not_active IP Right Cessation
- 1980-12-08 BG BG049912A patent/BG39975A3/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IE802557L (en) | 1981-06-12 |
| PL124685B1 (en) | 1983-02-28 |
| JPS5939380B2 (ja) | 1984-09-22 |
| CA1151514A (en) | 1983-08-09 |
| DD155058A5 (de) | 1982-05-12 |
| EP0030361A1 (de) | 1981-06-17 |
| ATE6766T1 (de) | 1984-04-15 |
| JPS5692137A (en) | 1981-07-25 |
| US4332649A (en) | 1982-06-01 |
| EP0030361B1 (de) | 1984-03-21 |
| PL228290A1 (cs) | 1981-08-21 |
| BG39975A3 (en) | 1986-09-15 |
| DE2949383C2 (de) | 1982-01-21 |
| IE50486B1 (en) | 1986-04-30 |
| DE2949383B1 (de) | 1980-12-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CS221940B2 (en) | Method of polishing the glass objects in the polishing bath containing the sulphuric acid and hydrofluoric acid | |
| CS196315B2 (en) | Method of glass etching | |
| CS250235B2 (en) | Method of glass articles polishing | |
| US20050230355A1 (en) | Method for reducing and controlling hexafluorosilicate concentration during the polishing of glass objects in a polishing bath containing sulphuric acid and hydrofluoric acid | |
| JP3623663B2 (ja) | ガラス洗浄用溶液の再生方法と再生装置、および珪酸塩ガラスの洗浄方法と洗浄装置 | |
| JP3677164B2 (ja) | ガラス洗浄用溶液の再生方法と再生装置、および珪酸塩ガラスの洗浄方法と洗浄装置 | |
| US5472585A (en) | Regeneration of spent electroless copper plating solution | |
| JPH04270122A (ja) | 弗化物含量の少ない金属水酸化物を得る方法 | |
| KR100361800B1 (ko) | 유리 세정용 용액의 재생방법과 재생장치, 규산염 유리의세정방법과 세정장치 및 음극선관 | |
| US3290193A (en) | Method of polishing crystal glass and lead crystal glass articles | |
| JP4439771B2 (ja) | 使用済み梅漬調味液の脱塩・脱酸処理方法 | |
| JP3677163B2 (ja) | ガラス洗浄用溶液の再生方法と再生装置、および珪酸塩ガラスの洗浄方法と洗浄装置 | |
| US3397133A (en) | Apparatus for producing silver nitrate | |
| JPH0450859B2 (cs) | ||
| SU1435660A1 (ru) | Способ регенерации железомеднохлоридных растворов | |
| JPS5823479B2 (ja) | 被メッキ物の付着メッキ液除去・回収方法 | |
| RU1806108C (ru) | Способ электрохимической полировки стеклоизделий | |
| EP0369831B1 (fr) | Procédé de traitement chimique des effluents de régénération de résines échangeuses d'ions de décoloration de solutions de sucre pour leur réutilisation comme régénérant | |
| SU990802A1 (ru) | Способ получени виннокислой извести из барды-отхода винодельческого производства | |
| JPH0474440B2 (cs) | ||
| JPH02198127A (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の化成装置の整備方法 | |
| JPH04304393A (ja) | 塩浴液の処理方法 | |
| IE48123B1 (en) | Ion exchanger regeneration | |
| JPS55145200A (en) | Refining method for electrolytic polishing waste liquid | |
| JPS57200549A (en) | Continuous regeneration of chemical copper plating liquid |