Przedmiotem wynalazku jest kineskop masko¬ wy zwlaszcza zawierajacy maske cieniowa z ukla¬ dem podluznych szczelinowych otworów.Znane sa kineskopy z maska cieniowa posiada¬ jace uklad pasków luminoforu, które rozciagaja sie od góry do dolu ekranu. Maska cieniowa jest umieszczona w poblizu ekranu i sklada sie ona z arkusza metalu majacego- uklad podluznych szcze¬ linowych otworów. Otwory sa umieszczone w rze¬ dach, które sa osiowane z paskami luminoforu i sa wydluzone w kierunku rzedów. Kazdy z otwo¬ rów jest oddzielony od sasiedniego otworu w tym samym rzedzie przez zeberko.Przy wytwarzaniu tego typu masek cieniowych pozadany uklad otworów jest najpierw wytrawio¬ ny w plaskim arkuszu metalu, który jest nastepnie formowany w pozadany ksztalt. Formowanie uzys¬ kuje sie w operacji tloczenia dla wytwarzania ksztaltu zazwyczaj zakrzywionego- kopulasto, a samopodtrzymujacy obszar srodkowy ma zagieta cylindryczna czesc peryferyjna. Operacja tloczenia wywoluje w arkuszu z otworami naprezenia po¬ przeczne, które czesto powoduja pekanie zeberek pomiedzy otworami. Te naprezenia i pekanie ze¬ berek wystepuje zwlaszcza, w poblizu brzegów maski gdzie maska jest zagieta celem wytworzenia cylindrycznego obszaru, który wchodzi wewnatrz lub na zewnatrz ramy (fig. 1). Powodem tych pek¬ niec jest to, ze arkusz materialu pomiedzy sasied- 10 15 20 25 30 nimi rzedami otworów jest bardziej masywny i mocniejszy niz same zeberka.Problem naprezen i pekniec przy tworzeniu szczelinowej maski cieniowej byl uwzgledniany w dotychczas znanych rozwiazaniach. Na przyklad z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Amery¬ ki nr 3 916 243 znana jest maska zawierajaca ka¬ naly rozciagajace sie na calej powierzchni maski, pomiedzy sasiednimi rzedami otworów w celu zmniejszenia naprezen powodujacych pejkniecia zeberek podczas formowania maski. Dodanie ta¬ kich kanalów powoduje nowy problem nadmier¬ nego oslabienia uformowanej maski w miejscu naciecia podczas wstepnej obróbki i podczas wy¬ ginania, ksztaltu kopulastego oraz przez rozszerzal¬ nosc cieplna maski podczas operacji w wykancza¬ nym kineskopie. Ponadto uzycie prostych kanalów nie umozliwia optymalnego umieszczenia srodków zmniejszajacych naprezenia.Celem wynalazku jest opracowanie konstrukcji kineskopu maskowego, który nie ma wad kines¬ kopów znanych ze stanu techniki.Cel wynalazku zostal osiagniety przez to, ze maska zawiera wneki powierzchniowe sasiadujace z przeciwleglymi koncami pojedynczych zeberek w danym rzedzie otworów i wchodzace w zeberka pomiedzy dwoma sasiednimi otworami. Kazda z wnek jest korzystnie mniejsza niz otwór w masce i zawiera czesc, która jest bocznie oddalona od linii srodkowej rzedu otworów przeciwleglego ob- 117 549llTStt 3 szaru zeberek maski i korzystnie rozciagajacych sie do zeberek. Takie wneki sluza do zmiany cha¬ rakterystyk naprezen w masce i do zmniejszenia prawdopodobienstwa pekniecia zeberek podczas formowania maski t)ez jednoczesnego znacznego ograniczenia wytrzymalosci wyciec w formowanej masce.Przedmiotem wynalazku jest uwidoczniony w przykladzie wykonanift na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia kineskop maskowy wedlug wy¬ nalazku w przekroju, fig. 2 — fcragmend; maski cieniowej z fig. 1 w powdejkszeniu i w widoku z góry, fig. 3 — maske cieniowa z fig. 2 w przekro¬ ju wzdluz linii 3 — 3 oznaczonej na fig. 2.Jak przedstawiono na fig. 1 kineskop 10 sklada sie z i #budowy 12 zawierajacej plyte czolo¬ wa 14 stopiona swym otwartym koncem z czlonem stozkowym 16 w miejscu oznaczonym liczba 18.Pljfta czolowa H zawiera prostokatna czesc 20 i boczne scianki 22.Mozaikowy ekran 26 luminoforowy, zawierajacy wiele pasków luminoforu emitujacych rózne kolo¬ ry, umieszczony jest na wewnetrznej powierzchni czesci plyty czolowej 20. Ekran 26 moze byc alu¬ miniowany znanym sposobem.Maska cieniowa 30 jest umieszczona w sasiedz¬ twie ekranu luminoforowego i jest wspólrozcia- gaiaca sifi, z mozaikowym ekranem lunainolopo- wym 26. Maska cieniowa 30 sklada sie z wlasci¬ wej maski stanowiacej zawierajacy wiele otworów arkusz metalu zamontowany na ramie 32. Otwory w masce 30 sa ulozone w równolegle rzedy, które sa osiowane z paskami luminoforu na ekranie 26.Z wewnetrznej powierzchni scianek bocznych 22 plyty czolowej jest wyprowadzonych wiele kol¬ ków mocujacych. Wieksza ilosc mocujacych spre¬ zyn plytkowych 4^ jest zamocowana jednymi kon¬ cami do ramy 82. Plytkowe sprezyny mocujace ty zawieraja odpowiednie otwory usytuowane w po¬ blizu ich drugich konców, w które to otwory wchodza kolki 36 dla montazu maski cieniowej 28 do plyty czolowej 14.Zespól wyrzutni elektronowej 41 jest umieszczo¬ ny w czesci szyjkowej stozka 16. Zespól wyrzutni elektronowej 41 jest przystosowany do wystrzeliwa nia wielu-, na przyklad trzech^ wiazek elektrono¬ wych poprzez otwory w masce 30 na mozaikowy ekran himkioforowy 26.Jak lepiej widac z fig. 2 i a maska aperturowa 3# zawiera uklad zasadniczo prostokatnych otwo- rAw #2 szczelinowych, które sa rozmieszczone w równolegle rzedy i sa wydluzone w kierunku rze¬ dów. Kazdy z otworów 42 jest oddzielony od sa¬ siedniego otworu w tym samym rzedzie przez ze¬ berko 4#: Kazdy otwór zweza sie stopniowo tak, ze na ixrzedniei stronie maski 30 (strony od wy¬ rzutni elektronowej 41) otwór ma mala prostokat¬ na powierzchnie 46, a na tylnej stronie maski (stronie od ekranu 26) ma duza prostokatna po¬ wierzchnie 48* To stopniowe zwezenie otworu 42 zabezpiecza, przed niepozadanym uderzeniem ele¬ ktronów w sciany otworu i zmniejsza emisje ele¬ ktronów wtórnych. Taki ksztalt otworu jest kon- wencjonakiy i dobrze znany w stanie techniki do¬ tyczacym masek cieniowych.Na przedniej stronie maski 30 znajduje sie uklad dyskretnych wnek powierzchniowych 50.Wneki powierzchniowe 50 sa korzystnie trawione w masce podczas procesu trawienia w niej otwo- 5 rów 42. Powierzchniowe wneki 50 moga zawierac pólkoliste otwory, kitóre sa zaglebione na czesci grubosci maski 30. Kazda wneka 58 korzystnie ma mniejsze rozmiary niz same otwory 42 w kie¬ runku rzedów otworów. W ten spo#ób sa one zlo- 10 kalizowane w sasiediztwie zeberek i korzystnie nie rozciagaja sie jako nieprzerwany kanal wzdluz, rzedu otworów. Korzystnie kazda wneka 50 ma mniejsza powierzchnie niz kazdy % otworów 42 i jest umieszczona dokladnie po obu stronach ze- 15 berka 44 i zaglebia sie w zeberko.Przekrój na fig. 3 przeprowadzony jest przez dwie wneki 50. Na fig. .tej pokazano takze linia przerywana sasiedni otwór 42. Jak przedstawiono na fig, 3 wneki 50 sa umieszczone-tak blisko linii 20 srodkowej rzedu otworów jak tylko to jest mozli¬ we jednak nadal pozostaje niezawierajacy szcze¬ lin obszar 52 maski pomiedzy wneka 50 a otwo¬ rem 42. Grubosc obszaru 52 jest oznaczona przez x na fig. 3. Obszar 52 maski wystepuje pomiedzy 25 zewnetrznym obszarem zeberka 1 naroznym ob¬ szarem prostokajtnego otworu 48. To rozmieszcze¬ nie obszaru 52 sluzy skutecznemu przedluzeniu boeaaie rozciagnietych czesci maski (która, ber wneki 50 jest samo zeberko 44) tak, ze mniejsza 30 czesc naprezenia pojawiajacego sie podczas for¬ mowania maski wystepuje w zeberku.Obecnosc wnek 50 w sasiedztwie zeberek 44 po¬ woduje oslabienie maski 30 w obszarze 52 na ty¬ le, ze gdy maska 30 jest naprezana podczas pro- 35 cesu formowania, zeberka 44 nie otrzymuja pelne¬ go naprezenia powodujacego pekniecie. Natomiast wytstepuje pewne naprezenie w obszarze 52 pomie¬ dzy wnekami 50 a otworami 42. Poniewaz wneki 50 sa zlokalizowane w poblizu zeberka wytrzyma- 40 losc maski 30 nie jest nazbyt mala. Ponadto zmniejszenie naprezen przez dyskretne wneki, a nie przez proste wydluzone kanaly umozliwia, ze wneki moga byc korzystnie umiejscowione tak,, ze wchodza w obszar zeberka pomiedzy dwoma o-two- 45 rami w rzedzie otworów. To zlokalizowanie wnek, powoduje powstanie obszaru 52 wlasnie na grani¬ cach pomiedzy zeberkami 44 a otworami 42 dostar¬ czajac optymalnego zmniejszenia- naprezen w ze¬ berkach. 50 Wneki 5t sa przedstawione w ksztalcie kola, lecz ich ksztalt nie powoduje krytycznego oslabie¬ nia maski 30. Ponadto aktualne rozmieszczenie wnek 54* od srodkowej linii rzedu otworów nie stwarza niebezpieczenstwa przerwania, poniewaz 55 rozmieszczenie jest wystarczajace do zabezpiecze¬ nia wneki przed przerwaniem otworu 42 i perfo¬ racja obszaru 52 pomiedzy wneka 50, a otworem 4& W konkretnym rozwiazaniu przedstawionym na 60 fig. £ i 3 (rozmiary których sa podane w tablicy zamieszczonej ponizej); wneki 50 sa przedstawione jako lekko zachodzaca na powierzchnie 48 otworu. tyie, jest to jednak konieczne. Odpowiednie rozmia¬ ry *w*, „o" i „n" moga byc takie, zeby nie wy¬ ge stepowalo zachodzenie. Takze w konkretnym.5 117 549 6 przedstawionym rozwiazaniu dlugosc otworów 48 na stronie tylnej i otwotrów 46 na stronie przed¬ niej sa jednakowe. Ta wspólzaleznosc dlugosci nie jest niebezpieczna dla konstrukcji. Na przyklad otwory 48 na tylnej sciance sa czesto dluzsze niz otwory 46 na przedniej sciance.W zalecanym rozwiazaniu wneki sa umieszczone na przedniej scianie maski 30 po dwie wneki 50 na kazde zeberko po przeciwnych jego, stronach.Wneki sa umieszczone parami, z tym ze kazda pa¬ ra przylega do osobnego zeberka. Nie wszystkie zeberka wymagaja otoczenia wnekami. Wneki mo¬ ga byc umieszczone tylko dla tych zeberek, gdzie naprezenie stanowi problem. Zmniejszenie mozli¬ wosci wystapienia pekniec moze byc uzyskane tak¬ ze przez umieszczenie wnek na tylnej sciance mas¬ ki zamiast na przedniej lub dodatkowo oprócz wnek na scianie przedniej. Takze mozna zastoso¬ wac mniejsza ilosc wnek niz to pokazano.W zalecanym przykladzie wykonania maski za¬ stosowano podane nizej rozmiary okreslone na fig. 2 i 3.Rozmiar mm Av 0,89 Ah 0,89 w 0,14 S0 0,13 Sf 0,51 n 0,18 o ' 0,27 t 0,14. d 0,07 x 0,06 10 15 25 Zastrzezenia patentowe 1. Kineskop maskowy zawierajacy maske aper-j turowa w postaci arkusza metalu z ukladem wzdluznych otworów, które rozmieszczone sa w wiele równoleglych rzedów, przy czym otwory sa wydluzone w kierunku tych rzedów i oddzielone od siebie przez zeberka oraz uklad dyskretnych wnek powierzchniowych, z których kazda jest bo¬ cznie oddalona od srodkowej linii jednego z rze¬ dów otworów, znamienny tym, ze wneki (50) przy¬ legaja do konców przeciwleglych pojedynczych ze¬ berek (44) w danym rzedzie otworów (42) i wcho¬ dza w zeberka pomiedzy dwoma sasiednimi ot¬ worami (42) rzedu otworów. 2. Kineskop wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze kazda wneka (50) ma rozmiary w kierunku rzedu otworów mniejsze niz odpowiednie rozmiary otwo¬ rów. 3. Kineskop wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze kazdy z otworów (42) zweza sie tak, ze ma mniej¬ sza powierzchnie • (46) po jednej stronie arkusza, a wieksza powierzchnie (48) po drugiej stronie ar¬ kusza, a dyskretne wneki (50) sa rozmieszczone po jednej stronie arkusza. 4. Kineskop wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze wneki (50) sa rozmieszczone parami, a kazda pa¬ ra przylega do innego zeberka. 5. Kineskop wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze wneki (50) maja ksztalt pólkuli. 6. Kineskop wedlug zastrz. 1, znamienny tym,zt glebokosc (a) kazdej z wnek powierzchniowych wykosi polowe grubosci (t) arkusza. 28 30 26 20 14 PL PL PL PL