PL117002B2 - Method of copper-cadmium alloys manufacture - Google Patents

Method of copper-cadmium alloys manufacture Download PDF

Info

Publication number
PL117002B2
PL117002B2 PL21214678A PL21214678A PL117002B2 PL 117002 B2 PL117002 B2 PL 117002B2 PL 21214678 A PL21214678 A PL 21214678A PL 21214678 A PL21214678 A PL 21214678A PL 117002 B2 PL117002 B2 PL 117002B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
copper
cadmium
amount
water
bath
Prior art date
Application number
PL21214678A
Other languages
English (en)
Other versions
PL212146A2 (pl
Inventor
Zbigniew Bojarski
Jerzy Gala
Antoni Budniok
Eugeniusz Lagiewka
Piotr Rehlich
Original Assignee
Univ Slaski
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Univ Slaski filed Critical Univ Slaski
Priority to PL21214678A priority Critical patent/PL117002B2/pl
Publication of PL212146A2 publication Critical patent/PL212146A2/xx
Publication of PL117002B2 publication Critical patent/PL117002B2/pl

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

******* *!L1 Int. O3.C25D 3/58 Twórcywynalazku: Zbigniew Bojarski, Jerzy Gala, Antoni Budniok, Eugeniusz Lagiewka, Piotr Rehlich Uprawniony z patentu tymczasowego: Uniwersytet Slaski, Katowice (Polska) Sposób otrzymywania stopów miedz—kadm Przedmiotem wynalazku jest sposób otrzymywania stopów miedz—kadm na drodze elektrolitycznej w pro¬ cesie galwanicznego wspólwydziel&nia miedzi i kadmu z elektrolitu zawierajacego kompleksowe jony tych metali.Znany jest sposób otrzymywania stopów miedz—kadm polegajacy na galwanicznym wspólwydzielaniu miedzi i kadmu na katodzie. W tym celu stosuje sie kapiele galwaniczne zawierajace jako czynnik kompleksotwór- czy cyjanki, etylenodwuaminc, wersenian dwusodowy, cytrynian sodowy lub tiosiarczan sodowy. Przykladowe sklady chemiczne znanych z literatury kapieli, w których zastosowano wymienione czynniki kompleksotwórcze przedstawia tablica 1. Z kapieli tych nie mozna uzyskac zwartych i jednorodnych powlok stopowych miedz— kadm o grubosci powyzej 4* 10~5m. Wynika to z grubokrystalicznej postaci otrzymywanych stopów oraz nacz- nych naprezen w powlokach.Otrzymywanie powlok stopowych o wiekszej grubosci jest mozliwe wedlug patentu nr 93477. Sposób ten polega na stosowaniu kapieli etylenodwuaminowej nr 2 z tablicy 1, zawierajacej dodatkowo butindiol i 2,4-dwu- oksytiazolidyne. Koniecznosc stosowania trudnodostepnych i kosztownych substancji powierzchniowo aktyw¬ nych utrudnia powszechne stosowanie tego sposobu.Powloki stopowe miedz—kadm o grubosci ponizej 4# 1(T5 m moga spelniac role warstw ochronno-dekora- cyjnych, natomiast wykorzystanie ich jako stopu wstepnego do hutniczej produkcji miedzi kadmowej, na przyklad wedlug polskiego opisu patentowego nr 111908 jest w skali przemyslowej nieoplacalne.2 117002 Tablica I Nr 1 kapieli 1 2 3 4 1 5 Nazwa [ kapieli Cyjankowa Etylenodwuaminowa- Werscnianowa Cytrynianowa Tiosiarczanowa Sklad chemiczny Substancja cyjanek miedziawy CuCN cyjanek kadmowy Cu (CN)^ cyjanek sodowy Na CN siarczan miedziowy CuSC4#5 H20 siarczan kadmowy 3CdSC4#8 H^O siarczan amonowy (NH4)2S04 siarczan sodowy Na^SO^lO H^O etylenodwuamina I^NCHjCHjNr^ siarczan miedziowy CuS04*5 H2O siarczan kadmowy 3CdS04'8 H20 pirofosforan potasowy K4P207*3 H20 wersenian dwusodowy CioH^Og^Naj wodorotlenek potasowy KOH siarczan miedziowy CuS04*5 H20 siarczan kadmowy 3CdS04-8 H20 kwas cytrynowy C$Hg06 amoniak NH 3 #H20 chlorek miedziawy CuCl siarczan kadmowy 3CdS04#8 H20 tiosiarczan sodowy Na2S203*5 H20 chlorek amonowy NH4G Zawartosc (g/dm3) 2^-27 2^8 35^50 60 23 60 60 50 12 -S- 37 38-rl 15 48^-180 20 -r 70 1 7-rlO 25 65 70 28 1 2^-30 40 250 40 Celem wynalazku jest otrzymanie droga elektrolityczna stopu miedz-kadm w postaci zwartych i jednorod¬ nych warstw o grubosci powyzej 3*10~4m, które moglyby znalezc zastosowanie jako stop wstepny w procesie wytopu miedzi kadmowej, lub podlegac obróbce mechanicznej dla otrzymania detali o zwiekszonej odpornosci na scieranie.Powyzszy cel udalo sie osiagnac dzieki zastosowaniu sposobu wedlug niniejszego wynalazku. Istota sposo¬ bu polega na elektrolitycznym wspólwydzielaniu miedzi i kadmu na katodzie, z roztworu zawierajacego winian sodowo-potasowy w ilosci od 100 do 350 g/dm3, a korzystnie od 270 do 320 g/dm3, kadm w postaci rozpusz¬ czalnej w wodzie soli kadmowej w ilosci od OJ do 0,6 M Cd/dm3, a korzystnie od 0,3 do 0,4 M Cd/dm3 miedz w postaci rozpuszczalnej w wodzie soli miedziowej w ilosci od 0,1 do 0,6 M Cu/dm3, a korzystnie od 0,15 do 0,3 M Cu/dm3. Ponadto roztwór ten zawiera kwas octowy lodowaty w ilosci od 20 do 80 cm3/dm3, a korzystnie od 30 do 50 cm3/dm3, wodorotlenek sodowy w ilosci od 20 do 100 g/dm3, a korzystnie od 40 do 60 g/dm3 oraz jony amonowe w postaci wodnego roztworu soli amonowej w ilosci od 1 do 2 M/dm3. Jezeli roztwór ten wyko¬ rzysta sie jako kapiel galwaniczna to w procesie elektrolizy prowadzonym przy zastosowaniu katodowej gestosci pradu od 1 do 5 A/dm2, a korzystnie od 2 do 3,5 A/dm2, anod grafitowych, temperatury od 293 K do 343 K, a korzystnie od 298 K do 318 K, intensywnego mieszania, na katodzie otrzymuje sie zwarte,jednorodne powloki stopowe miedz-kadm zawierajace od 0,5 do 60% kadmu. W tych warunkach mozna otrzymac warstwy stopu miedz-kadm o grubosci przekraczajacej 3* 10"4m.Nizej podany przyklad ilustruje sposób wedlug wynalazku.Przyklad. Kapiel galwaniczna stosowana do otrzymywania stopów miedz—kadm sporzadza sie doda-, jac do 450 cm3 wody kolejno: w ilosciach podanych w tablicy 2: siarczan miedziowy, kwas octowy lodowaly, siarczan kadmowy, wode amoniakalna o stezeniu 25% NH3 lub siarczan amonowy, winian sodowo-potasowy i wodorotlenek sodowy. Po kazdej porgi wprowadzonej substancji roztwór miesa sie do jq calkowitego roz¬ puszczenia. Nastepnie za pomoca wody amoniakalnej lub wodorotlenku sodowego ustala sie zadana wartosc pH kapieli oraz uzupelnia sie woda jej objetosc do 1 dm3. Tablica II przedstawia przykladowo sklady chemiczne kilku kapieli galwanicznych oznaczonych symbolami A, B, C, D i E. Warunki prowadzenia procesu elektrolizy oraz charakterystyke otrzymanych powlok stopowych miedz-kadm przedstawia tablica ID.117002 Tablica II Substancja | siarczan miedziowy - CuS04*5H20 | siarczan kadmowy - 3CdS04#8H20 winian sodowo-potasowy - KNaC4H406f4H20 |_Jukas octowy lodowaty - CH3COOH [ wodorotlenek sodowy - NaOH | siarczan amonowy - (NH^SCU woda amoniakalna 257c - NH3*H20 Jedn. miary g g g cm3 g g cm Zawartosc substancji w 1 dm kapieli Av 25 130 270 46 40 - 110x B 55 105 300 46 60 - 100X c 27 90 200 46 40 - 10ÓX D 50 100 300 46 40xx 106 - E 42 120 113 46 1 20xx 1 106 1 ' Ponadto wode amoniakalna wprowadza sie w celu ustalenia pH kapieli, xx) Ponadto wodorotlenek sodowy dodaje sie w celu ustalenia pH kapieli.Tablica III BI - mieszanie kapieli poprzez barbotai sprezonym powietrzem, M - intensywne mieszanie magnetyczne kapieli.Kapiel | Parametry IpH | Katodowa gestosc pradu A/dm2 1 Koncentracja objetosciowa | pradu A/dm | Anody Temperatura K Mieszanie Zawartosc kadmu w stopie % Szybkosc osadzenia stopu m*106/h Wydajnosc pradowa procesu % A 9,5 2 0,45 Cu 313 BI 42 29 91 A 9,5 2,5 0,8 Cu 318 BI 34 30 78 A 10,5 3,5 0,8 Cu 323 M 40 47 83 B 10,3 2 0,25 graf. 298 M 17 21 74 C 0,0 2 0,25 graf. 298 M 38 26 85 D i 95 2 0,25 graf. 298 M 30 25 81 E 10,5 .2 0,25 graf. 298 M | 10 1 20 72 Zastrzezenie patentowe Sposób otrzymywania stopów miedz—kadm na drodze elektrolitycznego wspólwydzielania miedzi i kadmu z kapieli galwanicznej, znamienny tym, ze stosuje sie kapiel galwaniczna zawierajaca winian sodowo-po¬ tasowy w ilosci od 100 do 350g/dm3, a korzystnie od 270 do 320g/dm3, kadm w postaci rozpuszczalnej w wodzie soli kadmowej w ilosci od 0,1 do 0,6 M Cd/dm3, a korzystnie od 0,3 do 0,4 M Cd/dm3, miedz w postaci rozpuszczalnej w wodzie soli miedziowej w ilosci od 0,1 do 0,6 M Cu/dm3, a korzystnie od 0,15 do 0,3 M Cu/dm3, kwas octowy lodowaty w ilosci od 20 do 80cm3/dm3, a korzystnie od 30 do 50cm3/dm3, wodorotlenek sodowy w ilosci od 20 do 100g/dm3, a korzystnie od 40 do 60g/dm3 oraz jony amonowe w postaci wodnego roztworu amoniaku lub rozpuszczalnej w wodzie soli amonowej w ilosci od 1 do 2 M NH4/dm3. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób otrzymywania stopów miedz—kadm na drodze elektrolitycznego wspólwydzielania miedzi i kadmu z kapieli galwanicznej, znamienny tym, ze stosuje sie kapiel galwaniczna zawierajaca winian sodowo-po¬ tasowy w ilosci od 100 do 350g/dm3, a korzystnie od 270 do 320g/dm3, kadm w postaci rozpuszczalnej w wodzie soli kadmowej w ilosci od 0,1 do 0,6 M Cd/dm3, a korzystnie od 0,3 do 0,4 M Cd/dm3, miedz w postaci rozpuszczalnej w wodzie soli miedziowej w ilosci od 0,1 do 0,6 M Cu/dm3, a korzystnie od 0,15 do 0,3 M Cu/dm3, kwas octowy lodowaty w ilosci od 20 do 80cm3/dm3, a korzystnie od 30 do 50cm3/dm3, wodorotlenek sodowy w ilosci od 20 do 100g/dm3, a korzystnie od 40 do 60g/dm3 oraz jony amonowe w postaci wodnego roztworu amoniaku lub rozpuszczalnej w wodzie soli amonowej w ilosci od 1 do 2 M NH4/dm3. PL
PL21214678A 1978-12-23 1978-12-23 Method of copper-cadmium alloys manufacture PL117002B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21214678A PL117002B2 (en) 1978-12-23 1978-12-23 Method of copper-cadmium alloys manufacture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21214678A PL117002B2 (en) 1978-12-23 1978-12-23 Method of copper-cadmium alloys manufacture

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL212146A2 PL212146A2 (pl) 1979-12-03
PL117002B2 true PL117002B2 (en) 1981-07-31

Family

ID=19993514

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL21214678A PL117002B2 (en) 1978-12-23 1978-12-23 Method of copper-cadmium alloys manufacture

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL117002B2 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL212146A2 (pl) 1979-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2859316B2 (ja) 白金または白金合金の電気めっき浴および電気めっき方法
US4469569A (en) Cyanide-free copper plating process
DE2830572A1 (de) Waessriges bad fuer die galvanische abscheidung von glaenzenden metallueberzuegen
CN103643265A (zh) 电沉积Cu-W-Co合金镀层的电镀液及其方法
Mohamed et al. Electrodeposition of Co–Cu alloy coatings from glycinate baths
US4904354A (en) Akaline cyanide-free Cu-Zu strike baths and electrodepositing processes for the use thereof
US4462874A (en) Cyanide-free copper plating process
CN103789803B (zh) 一种无氰铜锡合金电镀液及其制备方法
CN105369305A (zh) 一种铜-镍合金电镀液及其电镀方法
PL117002B2 (en) Method of copper-cadmium alloys manufacture
Ozga Electrodeposition of Sn-Ag and Sn-Ag-Cu alloys from thiourea aqueous solutions
GB2167447A (en) Cyanide free copper plating process
JPH0319307B2 (pl)
RU2133305C1 (ru) Электролит блестящего никелирования
CN100362141C (zh) 丙三醇无氰光亮镀铜液
US2418970A (en) Process of electrolytically depositing iron and iron alloys
JPS5770286A (en) Plating bath composition and plating method
US3039943A (en) Methods for the electrodeposition of metals
JPS63114997A (ja) 電気めつき方法
RU2779419C1 (ru) Способ нанесения гальванических покрытий медью
RU2132889C1 (ru) Способ получения электролита для осаждения металлического никеля (варианты)
CA1045577A (en) Electrodeposition of bright tin-nickel alloy
CN105483775A (zh) 一种稀土钇-镍-磷合金电镀液及其电镀方法
JPS57116799A (en) Method for copper plating
US3637475A (en) Zinc-plating bath for bright or glossy coating