PL112145B1 - Photodetector structure - Google Patents

Photodetector structure Download PDF

Info

Publication number
PL112145B1
PL112145B1 PL1977201920A PL20192077A PL112145B1 PL 112145 B1 PL112145 B1 PL 112145B1 PL 1977201920 A PL1977201920 A PL 1977201920A PL 20192077 A PL20192077 A PL 20192077A PL 112145 B1 PL112145 B1 PL 112145B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
base
transistor
emitter
photosensitive
photodetector
Prior art date
Application number
PL1977201920A
Other languages
English (en)
Other versions
PL201920A1 (pl
Inventor
Tadeusz Gajos
Jan Kunicki
Jerzy Urbaniak
Original Assignee
Inst Tech Elektronowej
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Tech Elektronowej filed Critical Inst Tech Elektronowej
Priority to PL1977201920A priority Critical patent/PL112145B1/pl
Priority to DD78208842A priority patent/DD139909A5/de
Priority to CS787194A priority patent/CS241463B2/cs
Publication of PL201920A1 publication Critical patent/PL201920A1/pl
Publication of PL112145B1 publication Critical patent/PL112145B1/pl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F30/00Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors
    • H10F30/20Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors
    • H10F30/21Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H10F30/24Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation the devices having only two potential barriers, e.g. bipolar phototransistors
    • H10F30/245Bipolar phototransistors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01WMETEOROLOGY
    • G01W1/00Meteorology
    • G01W1/14Rainfall or precipitation gauges
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10Integrated devices
    • H10F39/12Image sensors

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
  • Ecology (AREA)
  • Environmental Sciences (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest struktura fotodetektora w ukladzie Darlingtona.Znane rozwiazania konstrukcyjne fotodetektorów w ukladzie Darlingtonapolegajana wytworzeniu w obrebie struktury dwóch niezaleznych tranzystorów fotoczulego 5 i wzmacniajacego polozonych jeden obok drugiego, oraz polaczenia tych dwóch elementów za pomoca metaliza¬ cji, to znaczy emiter fotoczulego z baza wzmacniajacego.W znanych rozwiazaniach laczenie obydwu tranzysto¬ rów metalizacja wykonywane bylo tak, zeby baze tranzy- 10 stora fotoczulego przykrywac minimalnie. Struktury wedlug znanych rozwiazan sa niesymetryczne. Nierów¬ nomierny rozplyw pradów uniemozliwia pelne wykorzy¬ stanie powierzchni czynnej fotodetektora, a ponadto powoduje niestabilnosci wynikajace z duzych róznic w 15 gestosci pradu i natezenia pola elektrycznego glównie w przekroju wzdluz zlacza emitera tranzystora wzmacnia¬ jacego. W znanych rozwiazaniach obszary ladunku prze¬ strzennego zlacz tranzystora fotoczulego sa ponadto silnie narazone na wplyw ladunku przestrzennego znaj- 20 dujacego sie w tlenkach i przemieszczajacego sie nad zlaczami podczas pracy fotodetektora. Wplyw ladunku przestrzennego powoduje zmiany polaryzacji tych zlacz oraz zmiany rekombinacyjnych wlasnosci powierzchni bazy tranzystora fotoczulego, co w wyniku powoduje 25 zmiany wzmocnienia pradowego fotodetektora. Opisane zjawiska, wynikajace z niesymetrii struktury i wplywów ladunku przestrzennego, znajdujacego sie w tlenkach powoduja znaczne niestabilnosci parametrów fotodetek¬ tora szczególnie dla duzych pradów. Ponadto w struktu¬ rach wedlug znanych rozwiazan nie mozna bez zastosowania skomplikowanej technologicznie dwuwar¬ stwowej matalizacji wykonac wyprowadzenia bazy ota¬ czajacego emiter tranzystora fotoczulego, które jest korzystniejsze ze wzgledu na równomierny rozplyw pra¬ dów i mozliwosc uzyskania wyzszej czestotliwosci grani¬ cznej fotodetektora oraz mniejszej opornosci kontaktu bazy, co jest szczególnie wazne w fotodetektorach ze sterowana baza.Celem wynalazku jest wyeliminowanie opisanych nie¬ dogodnosci przez wykonania stabilnej struktury fotode- tekora.Istota wynalazku jest konstrukcja fotodetektora, w której tranzystor fotoczuly znajduje sie wokól tranzy¬ stora wzmacniajacego, a polaczenie metaliczne laczace emiter tranzystora fotoczulego z baza tranzystora wzmacniajacego przykrywa calkowicie powierzchnie bazy tranzystora fotoczulego, lezaca pomiedzy emiterem tranzystora fotoczulego i tranzystorem wzmacniajacym.Rozwiazanie wedlug wynalazku umozliwia wykona¬ nie struktury fotodetektora o stabilnej fotoczulosci przez ograniczenie wplywu ladunku ruchomego na zlacza emitera i kolektora oraz na rekombinacyjne wlasnosci powierzchni bazy. Konstrukcja 'wedlug wynalazku umozliwia uzyskanie wysokich stabilnych fotoczulosci przy duzych pradach, ponadto moze byc symetryczna, a równomierny rozplyw pradów umozliwia pelne wyko¬ rzystanie czynnej powierzchni struktury. Konstrukcja112 145 taka umozliwia zastosowanie ograniczenia fotoczufcj powierzchni bazy w#obrebie poza czynnymi obszarami zlacz emitera i kolektora zlaczami p-p* w konstrukcji mozliwe jest wykonanie symetrycznego wyprowadzenia bazy wzgledem emitera tranzystora fotoczutego, co umozliwia zwiekszenie czestotliwosci granicznej i zmiejszenie opornosci bazy. Konstrukcja ta umozliwia wyprowadzenie bazy o malej opornosci,cojestwaznedla fotodetektorów ze sterowana baza. W konstrukcji wedlug wynalazku stosuje sie celowe izolowanie od swiatla czesci fotoczufcj powierzchni bazy.Otrzymuje sie element o bardzo wysokiej stabilnej fotoczulosci w sposób tani i prosty. Przyrzady wykonane ze struktur wedlug wynalazku charakteryzuja sie niskim stopniem wadliwosci.Konstrukcja struktury wedlug wynalazku uwido¬ czniona jest na przykladzie wykonania przedstawionym na rysunku, który przedstawia w przekroju fragment plytki pólprzewodnikowej ze struktura fotodetektora, zlozona z dwóch tranzystorów wzmacniajacego i fotoczutego.Plytka krzemu typu n+-n stanowiaca wspólny kolektor 6 obydwu tranzystorów przykryta jest tlenkiem termi¬ cznym Si02 5. W plytce tej wykonane sa selektywne obszary bazy S tranzystora wzmacniajacego i bazy lt tranzystora fotoczutego, oraz obszary emitera 7 tranzy¬ stora wzmacniajacego i emitera 9 tranzystora fotoczu¬ tego. W strukturze tranzystorafotoczutego powierzchnia emitera f otacza wewnetrzna czesc zlacza kolektor — baza U. Powierzchnie bazy iemiteratranzystora wzmac¬ niajacego otoczone sa wokól powierzchniami bazy i emiteratranzystora fotoczutego. Nastepnie wykonanesa kontakty omowe aluminiowe emitera 3, aluminiowe polaczenie 2 laczace emiter tranzystora fotoczutego z bazatranzystorawzmacniajacego calkowicieprzykrywa¬ jace powierzchnie bazy tranzystora fotoczutego, lezaca 5 pomiedzy emiterem tranzystora fotoczutego i tranzysto¬ rem wzmacniajacym, oraz aluminiowe ograniczenia fotoczutego obszaru bazy tworzace powierzchniowe zla¬ cza p-p* 1, rozmieszczone poza czynnymi obszarami zlacz emitera i kolektora tranzystora fotoczutego w 10 odleglosci ok. 20 pm od tych zlaczpozewnetrznej stronie emitera tego tranzystora. Cala powierzchnia swiatlo¬ czula fotodetektora z wyjatkiem okien pod kontakty przykryta jest tlenkiem pirolitycznym 4 domieszkowa¬ nym jonami fosforu wygrzewanym w temperaturze 15 450°C w atmosferze redukujacej.Zastrzezenia patentowe 1. Struktura fotodetektora w ukladzie Darlingtona, 20 skladajaca sie z dwóch tranzystorów fotoczutego i wzmacniajacego zHuaseaaa tym, ze powierzchnia bazy (g) tranzystora wzmacniajacego otoczona jest zlaczem kolektor — baza tranzystora fotoczutego (11). 2. Struktura wedlugzastrz. 1, zumiemtym, ze pola- 25 czenie metaliczne (2) laczace emiter (§) tranzystora foto- czutego z baza (8) tranzystora wzmacniajacegoprzykry¬ wa calkowicie powierzchnie bazy (lt) tranzystora fotoczutego, lezaca pomiedzy emiterem (I) tranzystora fotoczutego i tranzystorem wzmacniajacym. 30 " 3. Struktura wedlug zastrz. 1, miaif¦ tym, ze w strukturze tranzystora fotoczutego powierzchniaemitera (9) otacza wewnetrzna czesc zlacza kotektor-baza (11).J- J- JL J. X J- O. A. iL 11 Prac Poligraf UP PRL Naklul 120 egL Cena 45 zl PL PL PL PL PL PL PL PL PL

Claims (1)

1.
PL1977201920A 1977-11-05 1977-11-05 Photodetector structure PL112145B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL1977201920A PL112145B1 (en) 1977-11-05 1977-11-05 Photodetector structure
DD78208842A DD139909A5 (de) 1977-11-05 1978-11-02 Struktur eines fotodetektors
CS787194A CS241463B2 (cs) 1977-11-05 1978-11-03 Fotodetektor v Darlingtonově zapojení

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL1977201920A PL112145B1 (en) 1977-11-05 1977-11-05 Photodetector structure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL201920A1 PL201920A1 (pl) 1979-06-04
PL112145B1 true PL112145B1 (en) 1980-09-30

Family

ID=19985368

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1977201920A PL112145B1 (en) 1977-11-05 1977-11-05 Photodetector structure

Country Status (3)

Country Link
CS (1) CS241463B2 (pl)
DD (1) DD139909A5 (pl)
PL (1) PL112145B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL201920A1 (pl) 1979-06-04
CS719478A2 (en) 1985-08-15
CS241463B2 (cs) 1986-03-13
DD139909A5 (de) 1980-01-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4509236B2 (ja) 電気的絶縁要素を有する安定化されたバイポーラトランジスタ
JP3995219B2 (ja) ダイオードを内蔵した絶縁ゲートバイポーラトランジスタとその製造方法
US2924760A (en) Power transistors
JP2722696B2 (ja) 集積pin光検出器および方法
JPS6043032B2 (ja) ゲートターンオフサイリスタ
KR890004972B1 (ko) 이질접합 바이폴라 트랜지스터 및 그의 제조방법
JP5011607B2 (ja) 受光素子
US4511912A (en) Semiconductor element
KR940008566B1 (ko) 반도체장치의 제조방법
US4796073A (en) Front-surface N+ gettering techniques for reducing noise in integrated circuits
PL112145B1 (en) Photodetector structure
US4811071A (en) Vertical transistor structure
US4035824A (en) Semiconductor device stabilized by an insulating layer formed on a semiconductor region having a low impurity concentration
JPS605568A (ja) 縦型絶縁ゲ−ト電界効果トランジスタ
US2845375A (en) Method for making fused junction semiconductor devices
US3210622A (en) Photo-transistor
JPS5944788B2 (ja) ゲ−ト変調形バイポ−ラ・トランジスタ
KR100242436B1 (ko) 안전 동작 영역을 증가시킨 트랜지스터 및 그 제조 방법
JP3338215B2 (ja) 超電導ベーストランジスタおよびその製造方法
JPS63127571A (ja) 電導度変調形mosfet
JPS6249745B2 (pl)
KR100192543B1 (ko) 바이폴라 트랜지스터의 제조방법
Parker et al. Effects of Q‐switched green laser beam scanning on silicon bipolar transistor electrical characteristics
JPS5812347A (ja) 半導体ウエ−ハ
JPS5987867A (ja) 可調整エネルギ−障壁を持つトランジスタ

Legal Events

Date Code Title Description
LICE Declarations of willingness to grant licence

Effective date: 20090216