NO862524L - Anode som omfatter et substrat med et metallegeringsbelegg, og anvendelse av anoden. - Google Patents
Anode som omfatter et substrat med et metallegeringsbelegg, og anvendelse av anoden.Info
- Publication number
- NO862524L NO862524L NO862524A NO862524A NO862524L NO 862524 L NO862524 L NO 862524L NO 862524 A NO862524 A NO 862524A NO 862524 A NO862524 A NO 862524A NO 862524 L NO862524 L NO 862524L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- metal alloy
- amorphous metal
- anode
- alloys
- rhodium
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 17
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 8
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 44
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 20
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 20
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 20
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 13
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 13
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 10
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical class [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical class OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- NHYCGSASNAIGLD-UHFFFAOYSA-N Chlorine monoxide Chemical class Cl[O] NHYCGSASNAIGLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910001902 chlorine oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 6
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 4
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 4
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 3
- 229940021013 electrolyte solution Drugs 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Chemical group 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000629 Rh alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGKMWBIFNQLOKM-UHFFFAOYSA-N [O].[Cl] Chemical compound [O].[Cl] WGKMWBIFNQLOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M caesium chloride Chemical compound [Cl-].[Cs+] AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010290 vacuum plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/18—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium
- C22C38/40—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium with nickel
- C22C38/50—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium with nickel with titanium or zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/003—Amorphous alloys with one or more of the noble metals as major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Secondary Cells (AREA)
Description
Det tekniske område
Den foreliggende oppfinnelse angår nye amorfe metall-legeringer som kan betraktes som metalliske og som er elektrisk ledende. Amorfe metallegeringsmaterialer er blitt av interesse i de senere år på grunn av deres særpregede kombinasjoner av mekaniske, kjemiske og elektriske egenskaper som er spesielt velegnede for nylig oppståtte anvendelser. Amorfe metallmaterialer har sammensetnings-messig varierbare egenskaper, høy hardhet og styrke, flek-sibilitet, bløte magnetiske og ferroelektroniske egenskaper, meget høy bestandighet mot korrosjon og slitasje, uvanlige legeringssammensetninger og høy motstand mot beskadigelse ved bestråling. Disse egenskaper erønskelige for slike anvendelser som for lavtemperatursveiselegeringer, magnetiske boblelagre, høyfeltsuperledende innretninger og bløte magnetiske materialer for krafttransformatorkjerner.
På grunn av deres bestandighet mot korrosjon er de amorfe metallegeringer ifølge den foreliggende oppfinnelse spesielt anvendbare som elektroder ved halogenutviklingsprosesser, som beskrevet i patentsøkerens US patentsøknad nr, 705687. Andre anvendelser som elektroder innbefatter produksjon av fluor, klorat, perklorat eller elektrokjemisk fluorering av organiske forbindelser. Disse legeringer kan også anvendes som hydrogengjennomtrengelige membraner.
Teknikkens stand
Den særpregede kombinasjon av egenskaper som oppvises av amorfe metallegeringsmaterialer, kan tilskrives den uordnede atomstruktur for amorfe materialer som sikrer at materialet er kjemisk homogent og fritt for de utstrakte defekter som vites å begrense oppførselen til krystallinske materialer.
I alminnelighet blir amorfe materialer dannet ved hurtig avkjøling av materialet fra smeltet tilstand. En slik avkjøling finner sted ved hastigheter av størrelses-ordenen 10^°C/sek. Metoder som gir slike avkjølingshastig-heter innbefatter påspruting, vakuumfordampning, plasma-sprøyting og direkte bråkjøling fra flytende tilstand. Direkte bråkjøling fra flytende tilstand har oppnådd den største kommersielle fremgang fordi en rekke legeringer er kjente som ved hjelp av denne meotde kan fremstilles i forskjellige former, som tynne filmer, bånd eller tråder.
I US patent 3856513 er nye metallegeringsmaterialer beskrevet som er blitt oppnådd ved direkte bråkjøling fra smeltet tilstand, og US patentet innbefatter en generell omtale av denne prosess. I patentet er magnetiske amorfe metallegeringer beskrevet som er blitt fremstilt ved at legeringen er blitt utsatt for hurtig avkjøling fra en tem-peratur over dens smeltetemperatur. En strøm av det smeltede metall ble ledet inn i nippet for roterende dobbeltvalser som ble holdt ved værelsetemperatur. Det bråkjølte metall som ble oppnådd i form av et bånd, var i det vesentlige amorft, hvilket ble påvist ved røntgendif-fraksjonsmålinger, og det var duktilt og hadde en strekk-fasthet av 2415 MPa.
I US patent 4036638 er binære amorfe legeringer av jern eller kobolt og bor beskrevet. De beskrevne amorfe legeringer ble fremstilt ved hjelp av en vakuumsmeltestøpe-prosess hvor smeltet legering ble utstøtt gjennom en åpning og mot en roterende sylinder under et delvakuum av ca.
100 millitorr. Slike amorfe legeringer ble oppnådd som kon-tinuerlige bånd, og alle oppviste høy mekanisk hardhet og duktilitet.
De ovenfor beskrevne amorfe metallegeringer er ikke blitt foreslått for anvendelse som elektroder for elektrolyseprosesser i motsetning til legeringene som anvendes for den praktiske utførelse av den foreliggende oppfinnelse. Hva gjelder fremgangsmåter for klorutvikling fra klorid-oppløsninger, er visse palladium-fosforbaserte metallegeringer blitt fremstilt og beskrevet i US patent 4339270 som beskriver en rekke ternære amorfe metallegeringer som består av 10-40 atom% fosfor og/eller silicium og 90-60 atom% av to eller flere av palladium, rhodium eller platina. Ytterligere elementer som kan være tilstede, innbefatter titan, zirkonium, niob, tantal og/eller iridium. Legeringene kan anvendes som elektroder for elektrolyse, og i patentet er høy korrosjonsmotstand ved elektrolyse av halogenidoppløsninger rapportert.
De anodiske egenskaper for disse legeringer er blitt undersøkt av tre av patentinnehaverne, M. Hara,
K. Hashimoto og T. Masumoto, og er blitt rapportert i forskjellige tidsskrifter. I en slik publikasjon med tittelen "The Anodic Polarization Behaviour of Amorphous Pd-Ti-P Alloys in NaCl Solution" Electrochimica Acta, 25^, s- 1215-1220 (1980), beskrives reaksjonen mellom palladiumflis og fosfor ved forhøyede temperaturer under dannelse av palladium-fosfid som derefter smeltes sammen med titan. Den oppnådde legering ble derefter formet til bånd med en tykkelse av 10-30^,um ved hjelp av rotasjonshjulmetoden.
"Anodic Characteristics of Amorphous Ternary Palladium-Phosphorus Alloys Containing Ruthenium, Rhodium, Iridium, or Platinum in a Hot Concentrated Sodium Chloride Solution", rapportert i Journal of Applied Electrochemistry 13,
s. 295-306 (1983), beskriver de legeringer som er angitt i tittelen, og disse er igjen blitt fremstilt ved hjelp av rotasjonshjulmetoden fra smeltet tilstand. Palladium-siliciumlegeringer ble også fremstilt og bedømt, men de viste seg å være utilfredsstillende som anoder. De rapporterte anodelegeringer viste seg å være mer korrosjonsbestandige og hadde en høyere kloraktivitet og lavere oxygenaktivitet enn DSA.
Endelig er i "Anodic Characteristics of Amorphous Palladium-Iridium-Phosphorus Alloys in a Hot Concentrated Sodium Chloride Solution" rapportert i Journal of Non-Crystalline Solids, 5_4, s. 85-100 (1983), slike legeringer beskrevet som også ble fremstilt ved hjelp av rotasjonshjulmetoden. Igjen ble moderat korrosjonsbestandighet, høy kloraktivitet og lav oxygenaktivitet rapportert.
Forfatterne fant at disse legeringers elektrokatalyt-iske selektivitet var betydelig høyere enn for de kjente dimensjonsstabile anoder (DS,a) som består av en oxydblanding av ruthenium og titan båret på metallisk titan. En ulempe ved DSA er at elektrolyse av natriumklorid ikke er full-stendig selektiv for klor og at endel oxygen blir produsert. De rapporterte legeringer var mindre aktive for oxygenut-vikling enn DSA.
Dimensjonsstabile anoder er beskrevet i de følgende tre tidligere US patenter, US patenter nr. 3234110,
nr. 3236756 og nr. 3771385. I US patent nr. 3234110 er en elektrode beskrevet som omfatter titan eller en titan-legeringskjerne i det minste delvis belagt med titanoxyd,
og dette belegg er på sin side forsynt med et edelmetall-belegg, som et belegg av platina, rhodium, iridium eller legeringer derav.
I US patent nr. 3236756 er en elektrode beskrevet som omfatter en titankjerne, et porøst belegg på denne og bestående av platina og/eller rhodium, og et lag av titanoxyd på kjernen på de steder hvor belegget er porøst.
US patent nr. 3771385 angår elektroder som omfatter
en kjerne av filmdannende metall bestående av titan, tantal, zirkonium, niob eller wolfram, med et utvendig lag av et metalloxyd av minst ett platinametall fra gruppen bestående av platina, iridium, rhodium, palladium, ruthenium og osmium.
Alle disse tre elektroder kan anvendes for elektrolyseprosesser selv om de til forskjell fra anodene ifølge den foreliggende oppfinnelse ikke er amorfe. Til tross for teknikkens stand innen området amorfe metallegeringer har det således ikke tidligere forekommet noen veiledning angående bruk av nye rhodiumbaserte amorfe metallegeringer som anoder for halogenutviklingsprosesser. De her spesielt beskrevne legeringer er ekstremt korrosjonsbestandige og i det vesentlige 100% selektive for klor.
Oppsummering av oppfinnelsen
De nye amorfe metallegeringer ifølge oppfinnelsen er basert på rhodium og har de følgende formler:
Rh A I
r a
hvori
A er B, P, As eller blandinger derav,
r er 50-96%,
a er 4-50%, eller
hvori
D er Ir, Pd, Ru, Ti, Zr, Nb, Ta, Y, Hf eller blandinger derav,
r er 50-96%,
b er 4-50%,
d er 0-60%, og
r+b+d = 100.
De ovenstående nye amorfe metallegeringer anvendes som anoder ved en prosess for elektrolyse av halogenidholdige elektrolyttoppløsninger. En slik prosess omfatter det trinn at de halogenidholdige oppløsninger elektrolyseres i en elektrolysecelle med en på rhodium basert amorf metallanode valgt fra gruppen bestående av RhrA - og Rh^^D^-legeringer hvori
A er B, P, As eller blandinger derav,
D er Ir, Pd, Ru, Ti, Zr, Nb, Ta, Y, Hf eller blandinger derav,
r er 50-96,
a er 4-50,
d er 0-60, og
r+b+d = 100.
Foretrukken utførelsesform av oppfinnelsen
I henhold til den foreliggende oppfinnelse tilveiebringes nye rhodiumbaserte amorfe metallegeringer med formlene:
hvori A er B, P, As eller blandinger derav,
r er 50-96%,
a er 4-50%,
eller
hvori
D er Ir, Pd, Ru, Ti, Zr, Nb, Ta, Y, Hf eller blandinger derav,
r er 50-96%,
b er 4-50%,
d er 0-60%, og
r+b+d=100.
Metallegeringene kan være binære eller ternære, og
i det førstnevnte tilfelle er visse ternære elementer valg-frie. Anvendelsen av uttrykket "amorfe metallegeringer" skal her betegne amorfe metallholdige legeringer som også kan omfatte ett eller flere av de ovennevnte ikke-metalliske elementer. Amorfe metallegeringer kan således innbefatte ikke-metalliske elementer, som bor, silicium, fosfor eller carbon. Flere foretrukne kombinasjoner av elementer innbefatter Rh/P, Rh/B, Rh/As; Rh/P/B; Rh/B/Ru og Rh/B/Ti. Denne liste er ikke ment å være begrensende, men er bare fremsatt som et eksempel.
Det har som del av den foreliggende oppfinnelse vist seg at forskjeller i korrosjonsbestandigheten og elektrokjemiske egenskaper foreligger mellom de krystallinske og amorfe faser for disse legeringer. For eksempel er forskjellige overspenningsegenskaper for oxygen-klor- og hydrogenutvikling, underspenningsforskjeller ved elektrokjemisk absorpsjon av hydrogen og korrosjonsbestandighet under anodisk forspenning alle blitt iakttatt og rapportert i de ovennevnte samtidig svevende søknader.
Til forskjell fra eksisterende amorfe metallegeringer som er kjente innen teknikken, er legeringene ifølge den foreliggende oppfinnelse ikke basert på palladium selv om palladium kan være tilstede som en mindre komponent. Da de dessuten er amorfe, er legeringene ikke begrenset til en spesiell geometri eller til eutektiske sammensetninger.
De amorfe metallegeringer ifølge den foreliggende oppfinnelse er nye dels på grunn av at de relative mengder av komponentelementene er særpregede. Kjente amorfe legeringer har enten ikke inneholdt de identiske elementer eller har ikke inneholdt de samme atomprosenter av disse. Det antas at den elektrokjemiske aktivitet og korrosjonsbestandighet som særpreger disse legeringer kan tilskrives den særpregede kombinasjon av elementer og deres respektive mengder.
Disse legeringer kan fremstilles ved hjelp av hvilke som helst av standardmetodene for fremstilling av amorfe metallegeringer. Således kan en hvilken som helst mekanisk eller kjemisk metode, som fordampning, kjemisk og/eller mekanisk spaltning, ioneknippeelektronstråle- eller på-sprutingsprosess anvendes. Den amorfe legeringen kan fore-ligge i massiv form, pulverform eller som en tynn film, og den kan være selvbærende eller festet til et substrat. Sporforurensninger, som 0, N, S, Se, Te og Ar, forventes ikke alvorlig å innvirke på fremstillingen av og oppførselen til materialene. Den eneste begrensning som settes til de omgivelser hvori materialene fremstilles eller anvendes,
er at temperaturen under begge trinn skal være lavere enn krystallisasjonstemperaturen for den amorfe metallegering.
Den amorfe metallegering ifølge oppfinnelsen er spesielt egnet som belegg på substratmetaller som til slutt vil bli anvendt som anoder for forskjellige elektrokjemiske prosesser for fremstilling av halogener. Minst ett foretrukket substrat for anvendelse som elektrode er titan selv om andre metaller og forskjellige ikke-metaller også
er egnede avhengig av de beregnede anvendelser. Substratet er primært nyttig ved at det gir støtte for de amorfe metallegeringer, og det kan derfor også være et ikke-ledende eller halvledende materiale. Belegget blir lett avsatt på substratet ved påsprutning, hvilket er eksemplifisert nedenfor. Beleggtykkelsene er ikke av avgjørende betydning og kan variere sterkt, for eksempel opp til lOO^um, selv om andre tykkelser ikke nødvendigvis er utelukket så lenge disse er praktiske for den beregnede anvendelse. En nyttig tykkelse som er eksemplifisert nedenfor, er 3000 Å.
Det vil forstås at den ønskede tykkelse i en viss
grad er avhengig av fremstillingsprosessen for elektroden og også i en viss grad av den beregnede anvendelse. En selvbærende eller ikke-understøttet elektrode, som for eksempel fremstilt ved væskebråkjøling, kan således ha en tykkelse av ca. lOO^um. En amorf legeringselektrode kan også fremstilles ved å presse den amorfe legering, i form av pulver, til en på forhånd bestemt form, og den kan også
være tilstrekkelig tykk til at den vil være selvbærende.
Når en påsprutningsprosess anvendes, kan forholdsvis tynne lag avsettes, og disse vil fortrinnsvis være understøttet av et egnet substrat, som angitt ovenfor. Det vil således forstås at den egentlige elektrode ifølge oppfinnelsen er den amorfe metallegering uaktet om denne er understøttet eller uunderstøttet. Dersom et meget tynt lag anvendes,
kan en støtte være fordelaktig eller endog nødvendig for å oppnå strukturmessig sammenheng.
Uaktet anvendelsen av de amorfe metallegeringer, i form av et belegg eller som et massivt produkt, er legeringene i det vesentlige amorfe. Betegnelsen "i det vesentlige" skal her i forbindelse med de amorfe metallegeringer betegne at disse er minst 50% amorfe. Metallegeringen er fortrinnsvis minst 80% amorf, og mest foretrukket ca. 100% amorf, som påvist ved hjelp av røntgendiffraksjonsanalyse.
Ved den foreliggende oppfinnelse tilveiebringes også en fremgangsmåte for fremstilling av halogener fra halogenidholdige oppløsninger under anvendelse av de her beskrvne nye amorfe metallegeringer som anoder. En slik fremgangsmåte innbefatter det trinn at elektrolyse av de halogenidholdige oppløsninger utføres i en elektrolysecelle med en på rhodium basert amorf metallanode fra gruppen bestående av Rh^A^- og Rh^B^D^-legeringer, hvori
A er B, P, As eller blandinger derav,
D er Ir, Pd, Ru, Ti, Zr, Nb, Ta, Y, Hf eller blandinger derav,
r er 50-96,
a er 4-50,
d er 0-60, og
r+b+d = 100.
En spesiell reaksjon som kan finne sted ved anoden
ved klorutviklingsprosessen, er som følger:
På lignende måte kan den tilsvarende reaksjon på katoden være, men ikke nødvendigvis begrenset til:
Som angitt ovenfor er de her anvendte amorfe metallegeringer i det vesentlige 100% selektive for klor sammenlignet med ca. 97% for DSA-materiale. Denne økede aktivitet har to betydelige konsekvenser. For det første er klorutviklings-utbyttet (pr. elektrisk energitilførselsenhet) ca. 100%,
og dette er en forbedring på ca. 3% eller ennu bedre. For det annet kan separeringstrinn sløyfes på grunn av det neglisjerbare oxygeninnhold.
Gjennomsnittsfagmannen vil forstå at en rekke forskjellige halogenidholdige oppløsninger kan anvendes istedenfor natriumklorid, som for eksempel kaliumklorid, lithiumklorid, cesiumklorid, hydrogenklorid, jernklorid, sinkklorid eller kobberklorid etc. Produkter i tillegg til klor kan også innbefatte for eksempel klorater, perklorater eller andre kloroxyder. På lignende måte kan andre halogenider være tilstede istedenfor klorider, og således kan andre produkter bli utviklet. Den foreliggende oppfinnelse er derfor ikke begrenset til anvendelse i noen spesiell halogenidholdig oppløsning.
Elektrolyseprosessen kan utføres under standard be-tingelser som er kjente for fagfolk. Disse innbefatter temperaturer mellom 0 og 100°C, idet 60-90°C er et foretrukket område, spenninger i området 1,10-1,7 V og strøm-tettheter innen området 10-1000 mA/dm 2. Elektrolyttopp-løsninger (vandige) har i alminnelighet en pH av 1-6 og molare konsentrasjoner av 0,5-4 M. Cellekonstruksjonen er ikke av avgjørende betydning for utførelse av fremgangs-måten og utgjør derfor ikke en begrensning av den foreliggende oppfinnelse.
I de nedenstående eksempler ble seks rhodiumbaserte amorfe metallegeringer fremstilt ved hjelp av radiofrekvens-påsprutning i argongass. En 5,1 cm forsknings-S-pistol fremstilt av Sputtered Films, Inc. ble anvendt. Som kjent kan også DC-påsprutning anvendes. På hvert av eksemplene ble et titansubstrat anordnet for å motta avsetningen av den påsprutede amorfe legering. Avstanden mellom målet og substratet var i hvert tilfelle ca. 10 cm. Hver legerings sammensetning ble bekreftet ved røntgenanalyse og var amorf overfor denne.
De seks legeringer som er rapportert i Tabell I . ble hver separat anvendt i en 4M NaCl-oppløsning for utvikling av klor da en anodisk forspenning ble påført på oppløsningen. Spenninger ble skrevet ned og korrosjonshastigheter for hver legering ble bestemt og er gjengitt i den nedenstående Tabell II.
For å påvise den overlegne korrosjonsbestandighet som oppvises av legeringsanoden ifølge oppfinnelsen, ble korrosjonshastigheter bestemt for fem forskjellige anoder for sammenlignings skyld. De sammenlignede anoder innbefattet:
palladium, en amorf Pd/Si-legering og en amorf Pd/Ir/Rh/P-legering, begge rapportert av Hara og medarbeidere, en DSA rapportert av Novak og medarbeidere, og en amorf Pd/Ir/Ti/P-legering rapporter av Hara og medarbeidere, men fremstilt på den måte som er beskrevet ovenfor. De respektive korrosjonshastigheter for disse anoder ved 1000 A/m 2 i 4M NaCl ved 80°C og en pH av 4 ble målt og er gjengitt i den nedenstående Tabell III.
De data som er rapportert for anoden a-Pd^gg^Si^Q)
ble anslått ut fra gitte polarisasjonsdata i forhold til Pd. Anoden a_p<^ ( 4^)Ir (3Q) Rn (^o)^ (19) var ^et mest korrosjonsbestandige materiale, som rapportert i Journal of Non-Crystalline Solids. Det fremgår av Tabell II og III at
tre av de amorfe metallegeringsanoder ifølge oppfinnelsen viste seg å oppvise betydelig bedre korrosjonshastigheter enn noen av de kjente anodematerialer.
De ovenstående eksempler viser således sammensetningen og anvendelsen av nye rhodiumbaserte amorfe metallegeringer. Som bemerket og påvist ovenfor kan de amorfe legeringer ifølge oppfinnelsen anvendes som elektroder for forskjellige elektrokjemiske prosesser. Den overlegne bestandighet for andre amorfe legeringer mot korrosjon når de anvendes på denne måte, er blitt påvist i den ovennevnte samtidig svevende US patentsøknad nr. 705687. Det kan ut fra denne ekstrapoleres at elektroder som omfatter amorfe legeringer ifølge oppfinnelsen, også vil være sterkt motstandsdyktige mot korrosjon ved elektrolyseprosesser.
Selv om legeringene ifølge oppfinnelsen ble fremstilt ved hjelp av en påsprutningsmetode som er et nyttig middel for å avsette legeringen på et metallsubstrat, som titan, vil det forstås at hverken påsprutningsmetoden eller beleg-ningen av substrater skal tolkes som begrensninger av den foreliggende oppfinnelse da legeringene kan fremstilles ved hjelp av andre prosesser og ha andre former. På lignende måte kan sammensetningen for de amorfe metallegeringer ifølge oppfinnelsen varieres innenfor omfanget av den sam-lede beskrivelse, og hverken de spesielle komponenter eller de forholdsvise mengder av disse i de eksemplifiserte legeringer skal derfor utlegges som begrensninger av oppfinnelsen.
Selv om en av de her eksemplifiserte amorfe metallanoder er blitt anvendt i forbindelse med utvikling av klor-gass fra natriumkloridoppløsninger, som saltoppløsninger og sjøvann, vil det dessuten lett forstås av fagfolk at andre klorholdige forbindelser også vil kunne fremstilles ved hjelp av kjente elektrolysemetoder ved å erstatte de vanlige DSA-materialer eller andre elektroder med de amorfe metallanoder ifølge oppfinnelsen. På lignende måte vil andre halogenidholdige elektrolyttoppløsninger kunne anvendes istedenfor det her rapporterte natriumklorid under erholdelse av en rekke forskjellige produkter. Dessuten vil disse anoder kunne anvendes i en hvilken som helst annen vanlig elektrolysecelle.
Claims (14)
1. Anode som omfatter et substratmateriale og et metall-legeringsbelegg på dette,
karakterisert ved at metallegeringsbelegget er av en på rhodium basert amorf metallegering med formelen Rh A hvori
r a
A er B, P, As eller blandinger derav,
r er 50-96%,
a er 4-50%, og
r+a = 100%,
idet anoden har en korrosjonshastighet av under 10^ ,um pr. år.
2. Anode ifølge krav 1,
karakterisert ved at den amorfe metall-legering er ca. 100% amorf.
3. Anode ifølge krav 1 eller 2, karakterisert ved at substratet er titan.
4. Anode ifølge krav 1-3,
karakterisert ved at tykkelsen av den amorfe metallegering avsatt på substratet er ca. 3000 Å.
5. Anode omfattende et substratmateriale med et belegg av metallegering på dette,
karakterisert ved at belegget består av en på rhodium basert amorf metallegering med formelen Rh B, D ,, hvori
r b d'
D er Ir, Pd, Ru, Ti, Zr, Nb, Ta, Y, Hf eller blandinger derav,
r er 50-96%,
b er 4-50%,
d er 0-60%, og
r+b+d = 100%,
idet anoden har en korrosjonshastighet av under lO^ um/år.
6. Anode ifølge krav 5,
karakterisert ved at den amorfe metall- legering er ca. 100% amorf.
7. Anode ifølge krav 5 eller 6, karakterisert ved at substratet er titan.
8. Anode ifølge krav 5-7,
karakterisert ved at tykkelsen av den amorfe metallegering avsatt på substratet er ca. 3000 Å.
9. Fremgangsmåte for utvikling av halogener fra halogenidholdige oppløsninger,
karakterisert ved at oppløsningene elektrolyseres i en elektrolysecelle med en på rhodium basert amorf metallanode valgt fra gruppen bestående av Rh 3f A cl- og Rh^ Btø D^ -legeringer hvori
A er B, P, As eller blandinger derav,
D er Ir, Pd, Ru, Ti, Zr, Nb, Ta, Y, Hf eller blandinger derav,
r er 50 - 96,
a er 4 - 50,
d er 0 - 60, og med de forbehold at
r+a = 100 og r+b+d = 100,
idet anoden har en korrosjonshastighet av under 10^ um/år.
10. Rhodiumbasert amorf metallegeringsanode ifølge krav 9,
karakterisert ved at den amorfe metall-legering er ca. 100% amorf.
11. Rhodiumbasert amorf metallegeringsanode ifølge krav 9,
karakterisert ved at halogenidet er klorid.
12. Rhodiumbasert amorf metallegeringsanode ifølge krav 11 som produserer produkter valgt fra gruppen bestående av klor, klorater, perklorater og andre kloroxyder ved elektrolyse av kloridholdige oppløsninger med denne.
13. Rhodiumbasert amorf metallegeringsanode ifølge krav 9,
karakterisert ved at den halogenidholdige oppløsning omfatter natriumkloridoppløsninger.
14. Rhodiumbasert amorf metallegeringsanode ifølge krav 13,
karakterisert ved at klor utvikles ved anoden i det vesentlige fritt for oxygen.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US74799885A | 1985-06-24 | 1985-06-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO862524D0 NO862524D0 (no) | 1986-06-23 |
| NO862524L true NO862524L (no) | 1986-12-29 |
Family
ID=25007556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO862524A NO862524L (no) | 1985-06-24 | 1986-06-23 | Anode som omfatter et substrat med et metallegeringsbelegg, og anvendelse av anoden. |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0209264A1 (no) |
| JP (1) | JPS6254094A (no) |
| KR (1) | KR870000445A (no) |
| CN (1) | CN86105607A (no) |
| AU (1) | AU5919786A (no) |
| BR (1) | BR8602910A (no) |
| ES (1) | ES8706852A1 (no) |
| IN (1) | IN171851B (no) |
| NO (1) | NO862524L (no) |
| ZA (1) | ZA864667B (no) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10040591C1 (de) | 2000-08-15 | 2001-11-08 | Heraeus Gmbh W C | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung auf einem feuerfesten Bauteil und deren Verwendung |
| GB201413723D0 (en) * | 2014-08-01 | 2014-09-17 | Johnson Matthey Plc | Rhodium alloys |
| JP7068899B2 (ja) * | 2018-04-03 | 2022-05-17 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | ロジウムリンめっき被膜および積層体材料 |
| CN115874216A (zh) * | 2022-12-02 | 2023-03-31 | 深圳大学 | 一种用于析氯反应的铂基非晶合金多孔催化剂及其制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55152143A (en) * | 1979-05-16 | 1980-11-27 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | Amorphous alloy electrode material for electrolysis |
| JPS6063336A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-11 | Daiki Gomme Kogyo Kk | 溶液電解の電極用表面活性化非晶質合金 |
| US4560454A (en) * | 1984-05-01 | 1985-12-24 | The Standard Oil Company (Ohio) | Electrolysis of halide-containing solutions with platinum based amorphous metal alloy anodes |
-
1985
- 1985-06-23 CN CN198686105607A patent/CN86105607A/zh active Pending
-
1986
- 1986-06-23 EP EP86304802A patent/EP0209264A1/en not_active Ceased
- 1986-06-23 NO NO862524A patent/NO862524L/no unknown
- 1986-06-23 ES ES556440A patent/ES8706852A1/es not_active Expired
- 1986-06-23 AU AU59197/86A patent/AU5919786A/en not_active Abandoned
- 1986-06-23 ZA ZA864667A patent/ZA864667B/xx unknown
- 1986-06-24 JP JP61147998A patent/JPS6254094A/ja active Pending
- 1986-06-24 IN IN547/DEL/86A patent/IN171851B/en unknown
- 1986-06-24 BR BR8602910A patent/BR8602910A/pt unknown
- 1986-06-24 KR KR1019860005044A patent/KR870000445A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA864667B (en) | 1987-02-25 |
| BR8602910A (pt) | 1987-02-17 |
| KR870000445A (ko) | 1987-02-18 |
| ES556440A0 (es) | 1987-07-01 |
| NO862524D0 (no) | 1986-06-23 |
| IN171851B (no) | 1993-01-23 |
| JPS6254094A (ja) | 1987-03-09 |
| AU5919786A (en) | 1987-01-08 |
| CN86105607A (zh) | 1987-02-25 |
| EP0209264A1 (en) | 1987-01-21 |
| ES8706852A1 (es) | 1987-07-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4609442A (en) | Electrolysis of halide-containing solutions with amorphous metal alloys | |
| US4781803A (en) | Electrolytic processes employing platinum based amorphous metal alloy oxygen anodes | |
| EP0163410B1 (en) | Electrolysis of halide-containing solutions with platinum based amorphous metal alloy anodes | |
| US4705610A (en) | Anodes containing iridium based amorphous metal alloys and use thereof as halogen electrodes | |
| US4555317A (en) | Cathode for the electrolytic production of hydrogen and its use | |
| US3974058A (en) | Ruthenium coated cathodes | |
| US4005004A (en) | Electrode coating consisting of a solid solution of a noble metal oxide, titanium oxide, and zirconium oxide | |
| SE436897B (sv) | Katod for elektrolyscell | |
| US4696731A (en) | Amorphous metal-based composite oxygen anodes | |
| US4530742A (en) | Electrode and method of preparing same | |
| CA1213563A (en) | Electrocatalytic electrode | |
| JPS6025512B2 (ja) | 溶融塩電解用電極 | |
| US4323595A (en) | Nickel-molybdenum cathode | |
| JPH0733597B2 (ja) | 電解セルにおいて陰極触媒として用いられる陰極触媒物質及び電解セル用陰極 | |
| EP0164200A1 (en) | Improved electrolytic processes employing platinum based amorphouse metal alloy oxygen anodes | |
| US4746584A (en) | Novel amorphous metal alloys as electrodes for hydrogen formation and oxidation | |
| US5679225A (en) | Electrode for an electrochemical process and use of the said electrode | |
| BRPI0409985B1 (pt) | Artigo de metal de um substrato de metal de válvula para uso em processos eletrocatalíticos e processo para a produção do referido artigo de metal | |
| NO862524L (no) | Anode som omfatter et substrat med et metallegeringsbelegg, og anvendelse av anoden. | |
| US4702813A (en) | Multi-layered amorphous metal-based oxygen anodes | |
| CA1062202A (en) | Rhenium coated cathodes | |
| JPS5930791B2 (ja) | 電極の製造方法 | |
| JP3676554B2 (ja) | 活性化陰極 | |
| JPS6286186A (ja) | 活性陰極のサ−ビスライフ延長方法 | |
| US4222842A (en) | Electrode for electrolysis |