NO855059L - Belegningsmiddel for avspeilingssjikt og fremgangsmaate til dets fremstilling. - Google Patents
Belegningsmiddel for avspeilingssjikt og fremgangsmaate til dets fremstilling.Info
- Publication number
- NO855059L NO855059L NO855059A NO855059A NO855059L NO 855059 L NO855059 L NO 855059L NO 855059 A NO855059 A NO 855059A NO 855059 A NO855059 A NO 855059A NO 855059 L NO855059 L NO 855059L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- silicic acid
- varnish
- coating agent
- polysiloxane
- agent according
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 41
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 24
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 5
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims description 27
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229940075614 colloidal silicon dioxide Drugs 0.000 claims description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 4
- 235000011837 pasties Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 abstract description 10
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 abstract description 7
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 238000009388 chemical precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
- C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
- C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Signal Processing For Digital Recording And Reproducing (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Mirrors, Picture Frames, Photograph Stands, And Related Fastening Devices (AREA)
- Prostheses (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
Oppfinnelsen vedrører et belegningsmiddel for avspeilingssjikt på gjennomsiktige flater av glass eller kunststoffer, spesielt for avspeilingssjikt på bildeskjermer av en termisk herdbar lakk og et findelt pigment på kiselsyrebasis og en fremgangsmåte til dets fremstilling.
Bildeskjermapparater, slik de finner anvendelse i datafor-arbeidelse, i kontororganisasjon eller i Computer-teknikk, fjernsynsbildeskjermer, skaladekker på fonoapparater, instrumentdekker i automobiler og andre gjennomsiktige flater av glass eller kunststoff, har for det meste glinsende overflater, hvorav det går ut forstyrrende lysrefleksjoner som vanskeliggjør den visuelle erkjennelse av informasjoner og kan føre til sunnhetsskader. Det er derfor viktig å avspeile slike flater uten at gjennomsiktigheten vesentlig på-virkes .
Det er hittil blitt kjent en rekke metoder til best mulig
å avspeile bildeskjermer. En mulighet består i påføring av et tynt sjikt av en transparent lakk på bildeskjermen. De hertil anvendte lakker er imidlertid ikke tilstrekkelig bestandige ovenfor det kjemiske og mekaniske angrep av ren-gjøringsmidler .
I EP-OS 1 02 830 omtales et belegningsmiddel for avspeilingssjikt og som består av en ved hjelp av UV-stråling herdbar akrylatlakk som inneholder et findelt fast polyakrylat.
Slike avspeilingssjikt har på forskjellige underlag bare en utilstrekkelig klebefasthet og er heller ikke slitasje-bestandig nok.
Fra EP-OS 85 190 er det kjent belegningsmidler for avspeilingssjikt, som består av en fernis og silikat eller en kisel-syreholdig vandig dispersjon. Disse belegningsmidler er riktignok ikke lagringsdyktige, men bør først fremstilles umiddelbart før deres anvendelse.
Likeledes er det kjent lakker, hvor de fine partikler av silisiumdioksyd, titandioksyd eller aluminiumoksyd er disper-gert (EP-OS 1 02 830). Imidlertid er heller ikke disse av-speilingsmidler lagringsdyktige, da partiklene avsetter seg med tiden og derved gir forskjellige avspeilingssjikt.
Oppfinnelsens oppgave var å tilveiebringe et belegningsmiddel for avspeilingssjikt på gjennomsiktige flater av glass eller kunststoffer, spesielt for avspeilingssjikt på bildeskjermer av en termisk herdbar lakk og et findelt pigment på kiselsyrebasis som er lagringsdyktig og gir klebefaste-, slitasje-og kjemikaliebestandige avspeilingssjikt, som avgjørende minsker forstyrrende refleksjoner uten vesentlig å påvirke gjennomsiktigheten. Dessuten skulle det finnes en fremgangsmåte til fremstilling av slike belegningsmidler.
Denne oppgave løses ifølge oppfinnelsen ved at det som lakk anvendes en polysiloksanlakk og som pigment en blanding av en termisk fremstilt kiselsyre og en hydrofobert termisk fremstilt kiselsyre.
Fortrinnsvis inneholder polysiloksanlakken hydrolyseprodukter av trialkoksysilaner og/eller delkondensater av trisilancler, oppløst i lavere alifatiske alkoholer, og eventuelt kolloidalt silisiumdioksyd. Spesielt har det vist seg egnet en polysiloksanlakk, hvis faststoffinnhold ifølge DIN 53216 utgjør 20-30% og består av kolloidalt silisiumdioksyd og delkondensater av trisilanoler.
Polysiloksanlakkenes faststoffbestanddeler inneholder i det minste delvis stadig frie hydroksylgrupper, hvorover de ved anvendelse av forhøyet temperatur kan kryssbindes ved konden-sasjon. Sammensetningen av de i lakken tilstedeværende oppløsningsmidler må tilpasses det respektive substrat (uorganisk og organisk glass) for å oppnå en god klebefasthet av avspeilingssjiktene. Fortrinnsvis anvendes hertil en- og toverdige alifatiske alkoholer.
Fortrinnsvis fremstilles de termisk fremstilte kiselsyrer i lysbuer ved ca. 3500°C eller ved flammehydrolyse ved 550-1250°C. Ikke egnet er kiselsyrer frembragt ved kjemisk ut-felling .
Disse termisk fremstilte kiselsyrer har i fremstillings-tilstand BET-overflater fra 150-330 m<2>/g og midlere primær-partikkelstørrelse fra 6-40 nm. Sekundæraggregatene har diametere fra 2-15 pm.
De nødvendige hydrofobe kiselsyrer fremstilles fordelaktig av hydrofile ved hjelp av flammehydrolyse frembragte kiselsyrer ved omsetning av silanolgruppene med eksempelvis di-metyldiklorsilan.
Kiselsyrene foreligger i polysiloksanlakken fortrinnsvis i mengder fra 0,5-15 vekt-%, spesielt i mengder fra 1-8 vekt-%, idet den hydrofoberte kiselsyre utgjør 5-40%, spesielt 8-30% a'den samlede kiselsyre. Den hydrofoberte kiselsyre er ansvar-lig for at de termisk fremstilte kiselsyrer i polysiloksanlakken viser et godt sveveforhold og dermed minskes en av-setning i forrådsbeholdere også under lengere forarbeidelses-tider.
For å oppnå en tydelig redusering av speilrefleksene som
også bibehold av bildeskarpheten og høye transmisjons-verdier ved god overflateglatthet, må kiselsyren foreligge i finfordelt form. Det har vist seg egnet kornstørrelser
< 1 |jm, idet kornetheten måles med et grindometer ifølge
DIN 53203.
Fremstillingen av belegningsmidlet foregår derfor fortrinnsvis således at kiselsyrene males med en del av polysiloksanlakken så lenge inntil kornetheten av den pastøse blanding målt med et grindometer, har oppnådd en verdi på < 1 |jiru:i og deretter blandes med resten av polysiloksanlakken. Fortrinnsvis anvender man hertil en kulemølle. Etter en dis-pergeringstid på 30-50 timer får man lakker, som gir avspeil-ingss j ikt med høy bildeskarphet.
For oppnåelse av høye lystettheter kan det til belegningsmidlene settes et fargende stoff, som dessuten kan velges således at det foregår en optisk tilpassing av avspeilings-sjiktet til underlagets farge.
Belegningsmidlene kan påføres på underlagene som skal av-speiles etter de vanlige tekniske fremgangsmåter, som eksempelvis ved dypping, fløting eller sprøyting. For bedre forarbeidelse kan belegningsmidlet dessuten tilsettes en silikonharpiksoppløsning. Ved oppvarming til eksempelvis 80-120°C oppstår avspeilingssjikt, som viser en utmerket refleksminsking under bibehold av bildeskarphet og en høy transmisjonsverdi. Dessuten er de bestandige ovenfor syrer, lut og mange organiske oppløsningsmidler, som aceton, xylen eller isopropanol, har antistatiske overflateegenskaper og er bestandige mot mekanisk slitasje. Sjiktene har normalt en tykkelse på 3-10 \ xm.
Følgende eksempler skal nærmere forklare belegningsmidlet ifølge oppfinnelsen: 1. I en kulemølle dispergeres en blanding av 129,75 vektdeler av en polysiloksanlakk ("Sicralan MRL"), 14,70 vektdeler av en termisk fremstilt kiselsyre ("TS 100") og 5,55 vektdeler hydrofobert kiselsyre ("Aerosil R 972") med ca. 400 g porselenskuler av ca. 1,5 cm diameter i 50 timer ved 90 opm til en pasta, som har en grindometerverdi <1 \ im. Av 9,5 vektdeler av denne pasta, 89,5 vektdeler polysiloksanlakk ("Sicralan MRL") og 1 vektdel av en oppløst silikonharpiks ("BYK 301") fremstilles med en vingerører (2000 opm) i 5 minutter en belegningsmasse, som påføres på glassklare akrylglasskiver ved Sypping, avluftes i 2-3 minutter og tørkes 60 minutter ved 80°C. S j ikttykkelsen utgjør 6 |im.
Tabell I viser noen egenskaper av slike belagte og ubelagte akrylglasskiver. 2. I den samme kulemølle som i eksempel 1 dispergeres en blanding av 114,3 vektdeler av polysiloksanlakk ("Sicrai lan MRL"), 25,95 vektdeler termisk fremstilt kiselsyre ("TT 600") og 9,75 vektdeler hydrofobert kiselsyre ("Aerosil R 972") i 40 timer med 60 opm til en pasta med én grindometerverdi <1 |am. 24,4 vektdeler av denne pasta blandes med 74,6 vektdeler av polysiloksanlakken og 1 vektdel av en silikonharpiksoppløsning.
Med dette belegningsmiddel belegges et organisk glass på polykarbonatbasis og sjiktet tørkes 1 time ved 120°C.
Tabell II viser noen egenskaper av slike belagte og ubelagte polykarbonatskiver, idet verdiene blésbestemt analogt tabell I. 3. I en kulemølle ifølge eksempel 1 og 2 dispergeres en blanding av 129,75 vektdeler polysiloksanlakk, 14,70 vektdeler av en termisk kiselsyre ("TK 900") og 5,55 vektdeler av en hydrofobert kiselsyre til en pasta,
16,0 vektdeler av denne pasta blandes med 84 vektdeler polysiloksanlakk og dette belegningsmiddel påføres etter homogenisering på akrylgalsskiver.
Tabell III viser noen egenskapsverdier.
4. Et belegningsmiddel av sammensetningen ifølge eksempel 1 påføres på et uroganisk glass og tørkes 60 minutter ved 110-120°C. Sjiktet har en gitter-snittkjenneverdi ifølge DIN 53151 på 1.
Claims (8)
1. Belegningsmiddel "for. avspeilingssjikt på gjennomsiktige flater av glass og kunstoffer, spesielt for avspeilingssjikt på bildeskjermer, og bestående av en termisk herdbar lakk og et findelt pigment på kiselsyrebasis, karakterisert ved at det som lakk anvendes en polysiloksanlakk og som pigment en blanding av en termisk fremstilt kiselsyre og en hydrofobert termisk fremstilt kiselsyre.
2. Belegningsmiddel ifølge krav 1, karakterisert ved at polysilokanlakken inneholder hydrolyseprodukter av trialkyloksysilaner og/eller delkondensater av trisilanoler, oppløst i lavere alifatiske alkoholer og eventuelt kolloidalt silisiumdioksyd .
3. Belegningsmiddel ifølge krav 1 og 2, karakterisert ved at polysiloksan-lakkens faststoffinnhold ifølge DIN 53216 utgjør 20-30% og består av kolloidalt silisiumdioksyd og delkondensater av trisilanoler.
4. Belegningsmiddel ifølge et av kravene 1-3, karakterisert ved at som termisk fremstilt kiselsyre anvendes en i lysbuen ved ca. 3500°C eller ved fiammehydrolsye ved 550-1250°C fremstilt kiselsyre .
5. Belegningsmiddel ifølge krav 1-4, karakterisert ved at kiselsyrene er tilstede tilsammen i mengder fira 0,5-15 vekt-% i lakken.
6. Belegningsmiddel ifølge krav 1-5, karakterisert ved at den hydrofoberte termisk fremstilte kiselsyre utgjør 5-40% av den samlede kiselsyremengde.
7. Belegningsmiddel ifølge krav 1-6, karakterisert ved at kiselsyren har en kornstørrelse ^ 1 |im.
8 . Fremgangsmåte til.lf remstilling av belegningsmidler av polysiloksanlakker og termisk fremstilte kiselsyrer ifølge krav 1-7, karakterisert ved at kiselsyrene males med en del av lakken så lenge inntil den pastøse blandings kornethet målt med et grindometer har oppnådd en verdi på< 1 pm,og deretter blandes med resten av polysiloksanlakken.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3503957A DE3503957C1 (de) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | Beschichtungsmittel fuer Entspiegelungsschichten und Verfahren zu seiner Herstellung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO855059L true NO855059L (no) | 1986-08-07 |
Family
ID=6261774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO855059A NO855059L (no) | 1985-02-06 | 1985-12-16 | Belegningsmiddel for avspeilingssjikt og fremgangsmaate til dets fremstilling. |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0193717B1 (no) |
JP (1) | JPS61183365A (no) |
CN (1) | CN86101018A (no) |
AT (1) | ATE51644T1 (no) |
AU (1) | AU574889B2 (no) |
BR (1) | BR8600449A (no) |
DD (1) | DD242873A5 (no) |
DE (2) | DE3503957C1 (no) |
DK (1) | DK55686A (no) |
ES (1) | ES8702472A1 (no) |
FI (1) | FI854980A (no) |
IL (1) | IL77613A (no) |
IN (1) | IN166367B (no) |
NO (1) | NO855059L (no) |
ZA (1) | ZA86306B (no) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR900009035B1 (ko) * | 1986-09-19 | 1990-12-17 | 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 | 도료조성물 |
CA2017090A1 (en) * | 1990-05-17 | 1991-11-17 | Stephen Dunn | Coating composition |
DE4122555A1 (de) * | 1991-07-08 | 1993-01-14 | Bayerische Motoren Werke Ag | Rueckblickspiegel fuer kraftfahrzeuge |
DE4419574A1 (de) * | 1994-06-03 | 1995-12-07 | Bayer Ag | Neue Mischungen, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung für Beschichtungen |
FR2750045B1 (fr) | 1996-06-19 | 1998-07-24 | Oreal | Utilisation de l'acide silicique colloidal dans une composition de vernis a ongles |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3986997A (en) * | 1974-06-25 | 1976-10-19 | Dow Corning Corporation | Pigment-free coating compositions |
US4439557A (en) * | 1981-05-08 | 1984-03-27 | Toray Industries, Incorporated | Coating compositions |
DE3203291C1 (de) * | 1982-02-01 | 1983-04-14 | Heiz, Therese, 6252 Dagmersellen | Verfahren zur Ausbildung einer Entspiegelungsschicht auf Bildschirmen |
AU562579B2 (en) * | 1982-09-10 | 1987-06-11 | Mitsubishi Rayon Company Limited | Abrasion resistant delustering coating composition |
-
1985
- 1985-02-06 DE DE3503957A patent/DE3503957C1/de not_active Expired
- 1985-12-16 NO NO855059A patent/NO855059L/no unknown
- 1985-12-16 FI FI854980A patent/FI854980A/fi not_active Application Discontinuation
-
1986
- 1986-01-15 IL IL77613A patent/IL77613A/xx unknown
- 1986-01-15 ZA ZA86306A patent/ZA86306B/xx unknown
- 1986-01-18 AT AT86100630T patent/ATE51644T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-01-18 DE DE8686100630T patent/DE3670096D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-01-18 EP EP86100630A patent/EP0193717B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-01-29 AU AU52803/86A patent/AU574889B2/en not_active Ceased
- 1986-01-31 IN IN72/CAL/86A patent/IN166367B/en unknown
- 1986-02-04 CN CN198686101018A patent/CN86101018A/zh active Pending
- 1986-02-04 DD DD86286746A patent/DD242873A5/de unknown
- 1986-02-04 BR BR8600449A patent/BR8600449A/pt unknown
- 1986-02-05 ES ES551655A patent/ES8702472A1/es not_active Expired
- 1986-02-05 JP JP61022241A patent/JPS61183365A/ja active Pending
- 1986-02-05 DK DK55686A patent/DK55686A/da not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DD242873A5 (de) | 1987-02-11 |
ES8702472A1 (es) | 1986-12-16 |
IN166367B (no) | 1990-04-21 |
IL77613A (en) | 1989-09-10 |
EP0193717A3 (en) | 1987-08-19 |
EP0193717A2 (de) | 1986-09-10 |
JPS61183365A (ja) | 1986-08-16 |
AU5280386A (en) | 1986-08-14 |
EP0193717B1 (de) | 1990-04-04 |
ZA86306B (en) | 1986-08-27 |
AU574889B2 (en) | 1988-07-14 |
DK55686A (da) | 1986-08-07 |
CN86101018A (zh) | 1986-08-06 |
BR8600449A (pt) | 1986-10-21 |
ATE51644T1 (de) | 1990-04-15 |
FI854980A (fi) | 1986-08-07 |
DE3670096D1 (de) | 1990-05-10 |
DK55686D0 (da) | 1986-02-05 |
ES551655A0 (es) | 1986-12-16 |
FI854980A0 (fi) | 1985-12-16 |
DE3503957C1 (de) | 1986-10-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4945282A (en) | Image display panel having antistatic film with transparent and electroconductive properties and process for processing same | |
US20060014101A1 (en) | Radiation-curable anti-reflective coating system | |
EP0649160A1 (en) | Method of manufacturing a coating on a display screen and a display device comprising a display screen having a coating | |
JP2009526881A (ja) | 反射防止コーティング | |
JP2001233611A (ja) | シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材 | |
KR20210038362A (ko) | 실리카를 포함하는 외각의 내측에 공동을 갖는 입자, 당해 입자의 제조 방법, 당해 입자를 포함하는 도포액, 및 당해 입자를 포함하는 투명 피막이 형성된 기재 | |
JP4540979B2 (ja) | ハードコート膜付基材および該ハードコート膜形成用塗布液 | |
NO855059L (no) | Belegningsmiddel for avspeilingssjikt og fremgangsmaate til dets fremstilling. | |
EP0896229A2 (en) | Anti-fogging and anti-reflection optical article | |
JP4979876B2 (ja) | ハードコート膜付基材 | |
WO2022163397A1 (ja) | 粒子、及び、該粒子を含む透明被膜付基材 | |
US5853869A (en) | Transparent conductor film for electric field shielding | |
JP2001115087A (ja) | 高屈折率ハードコート膜及び反射防止基材 | |
WO2018163929A1 (ja) | 低屈折率膜形成用液組成物及びこれを用いた低屈折率膜の形成方法 | |
EP0402473B1 (en) | Antireflection articles, process for their production and coating composition | |
CN115093131A (zh) | 一种具有隔热保温功能的镀膜玻璃及其制备方法 | |
EP0713240B1 (en) | Transparent conductor film for electric field shielding | |
JP2003236991A (ja) | 反射防止膜付基材 | |
JP2013043791A (ja) | 変性中空シリカ微粒子 | |
JP3186437B2 (ja) | 反射防止膜形成用塗布液および反射防止膜付基材 | |
JP2001116904A (ja) | 多層反射防止膜 | |
JP4409301B2 (ja) | 低反射ガラス板の製造方法 | |
JPH07157693A (ja) | プラスチックス用帯電防止被覆用組成物 | |
JP2520223B2 (ja) | 紫外線吸収被膜形成用塗布液および該塗布液を使用した紫外線吸収ガラス | |
JP2005290149A (ja) | 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |