NO151474B - Fremgangsmaate for elektroplettering av en gjenstand med et kromsjikt. - Google Patents
Fremgangsmaate for elektroplettering av en gjenstand med et kromsjikt. Download PDFInfo
- Publication number
- NO151474B NO151474B NO801937A NO801937A NO151474B NO 151474 B NO151474 B NO 151474B NO 801937 A NO801937 A NO 801937A NO 801937 A NO801937 A NO 801937A NO 151474 B NO151474 B NO 151474B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- chromium
- plating
- solution
- layer
- thiocyanate
- Prior art date
Links
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 43
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 32
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 13
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- YRTKBCIAQCXVCM-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);trithiocyanate Chemical compound [Cr+3].[S-]C#N.[S-]C#N.[S-]C#N YRTKBCIAQCXVCM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 9
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 7
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 7
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 claims description 5
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H chromium(III) sulfate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 4
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- CKLJMWTZIZZHCS-UHFFFAOYSA-N Aspartic acid Chemical compound OC(=O)C(N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEILMJPUQNSMG-UHFFFAOYSA-L chromium(2+);dithiocyanate Chemical compound [Cr+2].[S-]C#N.[S-]C#N XEEILMJPUQNSMG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical class O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000004196 processed proteins & peptides Human genes 0.000 description 1
- 108090000765 processed proteins & peptides Proteins 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- RROSXLCQOOGZBR-UHFFFAOYSA-N sodium;isothiocyanate Chemical compound [Na+].[N-]=C=S RROSXLCQOOGZBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12806—Refractory [Group IVB, VB, or VIB] metal-base component
- Y10T428/12826—Group VIB metal-base component
- Y10T428/12847—Cr-base component
- Y10T428/12854—Next to Co-, Fe-, or Ni-base component
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Description
Foreliggende oppfinnelse vedrører en fremgangs-
måte for elektroplettering av en gjenstand med et kromsjikt hvis tykkelse overstiger 5 ym fra kromelektropletterings-oppløsninger, hvor kromkilden utgjøres av en vannoppløsning av et krom(II)-tiocyanatkompleks.
Tidligere har krom blitt plettert fra vann-kromsyre-bad fremstilt av kromoksyd (CrO^) og svovelsyre. Slike bad der krom har seksverdig form, kjennetegnes av lav strømvirk-ningsgrad. De kromsyredamper som avgis som et resultat av hydrogenutvikling, utgjør også en betydelig helserisiko.
Videre er kromkonsentrasjonen i slike bad spesielt høy hvilket leder til avfalls- eller gjenvinningsproblemer på grunn av den såkalte kromforbindelse-"utlutningen" i de etter pletter-ingsbadet benyttede skylletanker.
For å overvinne mange av ulempene med seksverdig krom-plettering har man foreslått plettering med krom i treverdig form. En slik prosess for plettering av krom med ut-gangspunkt i en vannoppløsning av et krom(III)-tiocyanat-kompleks beskrives i britisk patent 1431639. Ved en annen slik prosess, der også en vannoppløsning av et krom(III)-tio-cyanatkompleks kommer til anvendelse, utgjør imidlertid et buffermateriale en av ligandene til kromkomplekset. Som buffermateriale benyttes aminosyrer (f.eks. glycin, asparaginsyre), peptider, formiater, acetater eller hypofosfitter. Disse treverdigkrom-pletteringsprosesser gir ikke opphav til kromsyredamper. De har høy virkningsgrad, et omfattende pletteringsområde og god dekningsevne. En meget mindre mengde krom er nødvendig i badet enn ved prosesser med seksverdig krom, hvilket reduserer utlutingsproblemet. Kromkonsentra-sjonene ligger mellom 0,03 og 0,5 mol.
Fra NO uti.skrift nr. 148.965 er det kjent et
vandig krom-elektropletteringsbad omfattende 0,1-1,2 mol/
liter krom i treverdig form.
Selv om treverdig krom-pletteringsprosessene ifølge ovennevnte britiske patent overvinner alle de større ulempene ved seksverdig krom-plettering, har den avsatte krom vanlig-
vis noe mørkere utseende.. Selv om denne farge er helt god-
tagbar eller til og med å foretrekke ved mange anvendelser,
er det en klar fordel å kunne plettere lysere farget krom ved en treverdig prosess. Man har blant annet utnyttet krom(III)-tiocyanatbad med kromkonsentrasjon betydelig under det gene-relt aksepterte nivå for virkningsgrad og badstabilitet.
Slike bad gir en avsetning med betydelig lysere farge. Kromkonsentrasjonen i disse bad er mindre 0,03M og fortrinns-vis mindre enn 0,015M.
Foruten i dekorasjonssammenheng benyttes krom-plettering for praktiske formål. På grunn av sin hårdhet, lave friksjon og korrosjonsbestandighet benyttes det f.eks.
for å tilveiebringe et slitasjebestandig belegg på overflaten av en glidende maskindel eller for å gi skruer eller muttere et slikt belegg. Ved slike anvendelser er det vanligvis nødvendig at tykkelsen på den pletterte krom er betydelig meget større enn i dekorasjonssammenheng. Normalt har dekorativ krom en tykkelse under 1 ym, mens "praktisk" krom må ha en tykkelse av størrelsesorden på titalls ym. Slike tykkelser har man hittil bare kunnet oppnå med seksverdig krom-plettering. Forsøk på å plettere tykk krom (over 5 ym) fra treverdige bad - eksempelvis ifølge britisk patent 1431639 - har resultert i grove, matte avsetninger med dårlig vedhef-ting.
Ifølge foreliggende oppfinnelse er det tilveie-bragt en fremgangsmåte for elektroplettering av en gjenstand med et kromsjikt hvis tykkelse overstiger 5 ym, i en vann-oppløsning av et krom(III)-tiocyanatkompleks, og denne fremgangsmåte er kjennetegnet ved elektroplettering av gjenstanden med et tynt begynnelseskromsjikt i vannoppløsningen av krom(III)-tiocyanatkomplekset med en lav kromkonsentrasjon på under 0,03M samt plettering til den i det vesentlige resterende tykkelsen i enten ett trinn i vannoppløsningen av krom(III)-tiocyanatkomplekset med høy konsentrasjon på over 0,03M eller i flere vekselvise trinn fra oppløsningene med høy og lav konsentrasjon i tykke, respetivt tynne, sjikt.
Oppfinnelsen er basert på oppdagelsen av at et tynt begynnelsessjikt, som avsettes fra et bad med oppløst Cr(III)-tiocyanat, gjør at etterfølgende tykke avsetninger fra et mer konsentrert, hurtigerevirkende Cr(III)-tiocyanat-bad får meget bedre vedheftings- og overflatejevnhetsegen-skaper. Den lave konsentrasjonen er som nevnt mindre enn ca. 0,03 mol. Ved den foretrukne fremgangsmåte avsettes!'bare det tynne begynnelsessjiktet fra oppløsningen med lavere konsentrasjon, mens hele den resterende tykkelsen pletteres fra den mer konsentrerte oppløsningen.
Alternativt kan tykke og tynne sjikt vekselvis pletteres fra badene med høyere og lavere konsentrasjon.
Den foretrukne tykkelsen på det tynne begynnelsessjiktet er mindre enn 1000 Å.
De foretrukne krompletteringsoppløsningene om-fatter en aminosyre som buffermateriale, hvilket gir minst en av ligandene for komplekset.
De foretrukne strømtettheter ligger i området 40-50 mA/cm 2for begynnelsessjikt-pletteringstrinnet og i området 50-120 mA/cm 2 for pletteringstrinnet med den konsentrerte oppløsningen.
Ved plettering av tykk krom ifølge foreliggende oppfinnelse har krom blitt plettert på standard stålstykker med tykkelser på 10-75 ym. I visse tilfeller ble stål-stykkene først plettert med blanknikkel til en tykkelse på 10-12 ym.
Kromgrunnsjiktet ble plettert fra et bad med kromkonsentrasjonen 0,003M til en tykkelse på ikke over 1000 Å. Ytterligere krom ble avsatt fra et bad med konsentrasjonen 0,1M. I visse tilfeller ble grunnsjiktavsetningen etterfulgt av et eneste pletteringstrinn fra 0,lM-badet for avsetning av resten av sjiktet. I andre tilfeller ble det foretatt omvekslende avsetning av noen mikron fra 0,lM-badet og et hurtigsjikt fra 0,003M-badet.
For sammenligningsformål ble en prøve plettert kun fra 0,lM-badet og viste seg å ha en overflateprofil-sentrumlinjemiddelverdi (CLA) på 1,875 ym. Tilsvarende verdier for de ifølge oppfinnelsen pletterte prøver var meget lavere, ned til 0,175 ym.
Målinger av avsetningen viser at krom med lav konsentrasjon er meget ren, mens avsetningen av krom med høy
konsentrasjon inneholder kjemisk bundet oksygen og svovel.
Det antas at ettersom det tynne begynnelsessjiktet er meget
rent og ensartet, vil det fungere som et grunnsjikt for resten av avsetningen, hvilket begrenser dennes kornethet.
Det totale tykke sjiktet blir derved mer kohesivt og mindre sprøtt enn sjikt med samme tykkelse, avsatt kun fra badet med høyere konsentrasjon. Den lyse fargen hos avsatt krom fra bad med lavere konsentrasjoner kan også henføres til renheten. På den annen side finnes et helt område av bad med lav kromkonsentrasjon, hvilke forventes å virke gunstig ved avsetning av tykke kromsjikt. Dette området er 0,0002-0,025M med en hensiktsmessig øvre grense ved 0,03M.
Oppfinnelsen skal i det følgende beskrives ytterligere under henvisning til nedenstående eksempler.
Sammenligningseksempel I
En relativt høy konsentrasjon av treverdig krom-pletter ingsoppløsning ble fremstilt på følgende måte: a) 60 g borsyre (H3B03) ble tilsatt til 750 ml avionisert vann, som.deretter ble oppvarmet og omrørt for at— :. borsyren skulle oppløses. • . V b) 3.3,12 g krpmsulfat (Cr 2 (S04) 3 • 15H20) og 32,43 g nåtfiumtibcyanat (NaNCS) ble tilsatt tii" oppløsningen som
deretter ble oppvarmet og omrørt ved ca. 70°C i ca. 30
: minutter. '■ c) 13,3 g DL asparaginsyte.. (NH2CH2CH (COOH) 2) ble tilsatt til oppløsningen som deretter ble oppvarmet og om-rørt ved ca. 75°C i ca. 3 timer. I løpet av denne tiden ble pH-verdien regulert fra 1,5 til '2,8 meget langsomt med 10 vekt-% natriumhydroksydoppløsning. Så snart-pH-verdien på 2,8 var oppnådd, ble denne bibeholdt under hele ut ba lan se r ingsper ioden. / '- f d) Tilstrekkelig med natriumklqrid ble tilsatt til oppløsningen for at konsentrasjonen skulle bli ca. IM, og 0,1 g "FC 98" fuktemiddel ble også tilsatt. Oppløsningen ble oppvarmet og omrørt i ytterligere 30 minutter. e) Oppløsningens pH-verdi ble på nytt regulert til 2,8 med natriumhydroksydoppløsning. f) Oppløsningens mengde ble øket til en liter med avionisert vann, hvis pH-verdi var innstilt til 3,0 med
10 volum-% saltsyre.
Den sluttlige oppløsning hadde følgende sammensetning :
0,1 M kromsulfat Cr2(S04)3.15H20
0,4 M natriumtiocyanat - NaNCS
0,1 M asparaginsyre - NH2CH2CH(COOH)2
60 g/l borsyre - H3B03
60 g/l natriumklorid - NaCl
0,1 g/l "FC 98" fuktemiddel.
Denne elektropletteringsoppløsning ble innført i
en pletteringscelle. En platinert titananode og et stål-prøvestykke som katode ble innført i cellen. Stålstykket hadde et belegg på 10-12 ym blank nikkel. En pletterings-strøm på 7 5 mA/cm fikk passere, mellom.elektrodene i 90 minut- . ter. Et 20,9 ym tykt kromsjikt ble åvsått.
Denne avsetning hadde et matt utseende og viste seg å være særlig -sprøtti'^:'"Prbfilmålinger av overflaten ga..... sentrumlinjemiddelverdier i området 1,5-1,9 ym.
Eksempel I :^ :)\
En annen krom-pletteringsoppløsning av lav konsentrasjon ble preparert på følgende måte. Det ble fremstilt en oppløsning på samme måte som beskrevet i ovenstående sammenligningseksempel I med unntagelse av at bare halve\ mengden av natriumtiocyanat ble benyttet, hvilket resulterte i en natriumtiocyanatkonsentrasjon på 0,2M. ' 30 ml .av denne .oppløsning ble utfylt til. en-liter med en oppløsning inneholdende 60 g borsyre og 60 g natriumklorid pr. liter.
Den sluttlige oppløsning med lavere konsentrasjon hadde vesentlig følgende sammensetning:
0,003 M kromsulfat
0,006 M natriumtiocyanat
0,003 M asparaginsyre
60 g/l borsyre
60 g/l natriumklorid.
Elektropletteringsoppløsningen med lavere konsentrasjon, ble innført i en pletteringscelle med en platinert titananode og et stålprøvestykke som katode. En pletterings-strøm pa 40 mA/cm 2 fikk passere gjennom cellen i 240 sekunder for avsetning av et begynnelseskromsjikt med en ønsket tykkelse på ikke over 1000 Å.
Prøvestykket ble deretter overført uten skylling til en annen pletteringscelle inneholdende en kromelektro-pletteringsoppløsning med høyere konsentrasjon og av samme sammensetning som i sammenligningseksempel I. En pletterings-strøm pa 75 mA/cm 2 fikk passere gjennom cellen i 180 minutter for avsetning av et meget tykkere kromsjikt oppå det tynne begynnelsessjiktet. Den sluttlige tykkelsen på kromsjiktet var 21,6 ym.
Dette tykke sjikt virket glatt og reflekterende for det blotte øyet. Sentrumlinjemiddelverdien ved overflaten var 0,178 ym. Avsetningen var mindre sprø og mer kohesiv enn i eksempel I.
Eksempel II
Fremgangsmåten ifølge eksempel I ble gjentatt i en rekke forsøk med anvendelse av samme to pletteringsoppløs-ninger, selv om fuktemidlet i visse tilfeller ble utelatt. Dette syntes å forbedre avsetningens egenskaper ytterligere ved å redusere korntettheten. Sjikt med tykkelser mellom 10 og 75 ym ble plettert. Strømtetthetene for plettering fra lavkonsentrasjonsbadet var i området 40-50 mA/cm 2. Strøm-tetthetene for plettering fra høykonsentrasjonsbadet var i 2
omradet 50-120 mA/cm .
Sentrumlinjemiddelverdimålinger av visse av disse prøver viste et område på 0,178-0,28 ym.
Eksempel III
Med anvendelse av de samme oppløsninger som i eksempel I og utgående fra oppløsningen med lavere konsentrasjon, ble det vekselvis avsatt kromsjikt fra de to oppløs-ningene på et stålprøvestykke.
Stålstykket ble først anordnet som katode i lavkonsentrasjonsbadet og en strøm med tetthet 40 mA/cm2 fikk passere i 240 sekunder for frembringelse av et tynt begynnelseskromsjikt med en tykkelse på ikke over 1000 Å. Stålstykket ble overført uten skylling til høykonsentrasjonsbadet og plettert med en strømtetthet på 50 mA/cm 2 i 30 minutter slik at det ble dannet et tykt kromsjikt. Stykket ble deretter ført tilbake til lavkonsentrasjonsbadet og plettert i 2 minutter ved 40 mA/cm.. Vekselpletteringen med 30 minutter i høykonsentrasjonsbadet og 2 minutter i lavkonsentrasjonsbadet ble fortsatt i totalt 215 minutter.
Alt i alt ble krom avsatt til en tykkelse på
16,9 ym. Den sluttlige avsetningen var kohesiv, jevn og uten sprøhet samt hadde en sentrumlinjemiddelverdi på 0,2
ym.
Claims (7)
1. Fremgangsmåte for elektroplettering av en gjenstand med et kromsjikt hvis tykkelse overstiger 5 ym, i en vann-oppløsning av et krom(III)-tiocyanatkompleks, karakterisert ved elektroplettering av gjenstanden med et tynt begynnelseskromsjikt i vannoppløsningen av krom(III)-tiocyanatkomplekset med en lav konsentrasjon på under 0,03M, samt plettering til den i det vesentlige resterende tykkelsen i enten et trinn i vannoppløsningen av krom(III)-tiocyanatkomplekset med høy konsentrasjon på over 0,03 M eller i flere vekselvise trinn fra oppløsningene med høy og lav konsentrasjon i tykke, respektive tynne, sjikt.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at pletteringen av det tynne begynnelsessjiktet avsluttes etter avsetning av et sjikt hvis tykkelse er under 1000 Å.
3. Fremgangsmåte ifølge hvilket som helst av de fore-gående krav, karakterisert ved at hver av elektropletteringsoppløsningene som anvendes, inneholder en aminosyre som buffermateriale, som utgjør minst en av ligandene for komplekset.
4. Fremgangsmåte ifølge hvilket som helst av de fore-gående krav, karakterisert ved at ingen av oppløsningene som anvendes, inneholder fuktemiddel.
5. Fremgangsmåte ifølge hvilket som helst av de fore-gående krav, karakterisert ved at strøm-tettheten under pletteringen av det tynne begynnelsessjikt holdes innen området 40-50 mA/cm 2.
6. Fremgangsmåte ifølge hvilket som helst av de fore-gående krav, karakterisert ved at strøm-tettheten under pletteringen fra den mer konsentrerte opp-løsningen holdes innen området 50-120 mA/cm 2.
7. Framgangsmåte ifølge hvilket som helst av de fore-gående krav, karakterisert ved at den oppLøsningen med lavere konsentrasjon som anvendes, inneholder 0,00 3M kromsulfat, 0,006M natriumtiocyanat, 0,00 3M asparaginsyre, 60 g borsyre pr. liter og 60 g natriumklorid pr. liter, samt at den oppløsningen med den høye konsentrasjonen som anvendes, inneholder 0,IM kromsulfat, 0,4M natriumtiocyanat, 0,1M asparaginsyre, 60 g borsyre pr. liter og 60 g natriumklorid pr. liter.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB7922791A GB2051861B (en) | 1979-06-29 | 1979-06-29 | Deposition of thick chromium films from trivalent chromium plating solutions |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO801937L NO801937L (no) | 1980-12-30 |
| NO151474B true NO151474B (no) | 1985-01-02 |
| NO151474C NO151474C (no) | 1985-04-17 |
Family
ID=10506203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO801937A NO151474C (no) | 1979-06-29 | 1980-06-27 | Fremgangsmaate for elektroplettering av en gjenstand med et kromsjikt |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4293620A (no) |
| JP (1) | JPS569385A (no) |
| AR (1) | AR228740A1 (no) |
| AU (1) | AU531640B2 (no) |
| BE (1) | BE882712A (no) |
| BR (1) | BR8004067A (no) |
| CA (1) | CA1141328A (no) |
| CH (1) | CH644158A5 (no) |
| DK (1) | DK151905C (no) |
| ES (1) | ES8102208A1 (no) |
| FI (1) | FI63445C (no) |
| FR (1) | FR2460344A1 (no) |
| GB (1) | GB2051861B (no) |
| IT (1) | IT1149881B (no) |
| MX (1) | MX153062A (no) |
| NO (1) | NO151474C (no) |
| SE (1) | SE429564B (no) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2529581A1 (fr) * | 1982-06-30 | 1984-01-06 | Armines | Bain d'electrolyse a base de chrome trivalent |
| US4804446A (en) * | 1986-09-19 | 1989-02-14 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Electrodeposition of chromium from a trivalent electrolyte |
| US5271823A (en) * | 1992-06-17 | 1993-12-21 | Eaton Corporation | Method of making a trivalent chromium plated engine valve |
| US6099714A (en) * | 1996-08-30 | 2000-08-08 | Sanchem, Inc. | Passification of tin surfaces |
| JP4203143B2 (ja) * | 1998-02-13 | 2008-12-24 | 新日本製鐵株式会社 | 耐炭酸ガス腐食性に優れた耐食鋼及び耐食油井管 |
| JP2000017482A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-18 | Nippon Piston Ring Co Ltd | 耐摩耗性、疲労強度に優れた積層構造を有するクロムめっき皮膜 |
| US7887930B2 (en) * | 2006-03-31 | 2011-02-15 | Atotech Deutschland Gmbh | Crystalline chromium deposit |
| PL2217745T3 (pl) | 2007-10-02 | 2014-11-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Krystaliczna powłoka ze stopu chromowego |
| WO2011147447A1 (en) * | 2010-05-26 | 2011-12-01 | Atotech Deutschland Gmbh | Process for forming corrosion protection layers on metal surfaces |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1521040B2 (de) * | 1964-10-28 | 1971-11-11 | Alfred Teves Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur galvanischen weichverchromung von gegenstaenden aus metall insbesondere aus gusseisen |
| FR1486696A (fr) * | 1965-09-28 | 1967-06-30 | Deutsche Edelstahlwerke Ag | Procédé d'application de couches de protection épaisses par chromage électrolytique d'acier et d'alliages résistant aux hautes températures |
| US4062737A (en) * | 1974-12-11 | 1977-12-13 | International Business Machines Corporation | Electrodeposition of chromium |
| GB1431639A (en) * | 1974-12-11 | 1976-04-14 | Ibm Uk | Electroplating chromium and its alloys |
| US4141803A (en) * | 1975-12-03 | 1979-02-27 | International Business Machines Corporation | Method and composition for electroplating chromium and its alloys and the method of manufacture of the composition |
| US4161432A (en) * | 1975-12-03 | 1979-07-17 | International Business Machines Corporation | Electroplating chromium and its alloys |
-
1979
- 1979-06-29 GB GB7922791A patent/GB2051861B/en not_active Expired
-
1980
- 1980-03-27 FR FR8007271A patent/FR2460344A1/fr active Granted
- 1980-04-09 BE BE0/200170A patent/BE882712A/fr not_active IP Right Cessation
- 1980-04-16 CA CA000349997A patent/CA1141328A/en not_active Expired
- 1980-05-09 JP JP6077980A patent/JPS569385A/ja active Granted
- 1980-05-16 IT IT22108/80A patent/IT1149881B/it active
- 1980-05-21 AR AR281150A patent/AR228740A1/es active
- 1980-05-21 MX MX182416A patent/MX153062A/es unknown
- 1980-06-09 US US06/157,714 patent/US4293620A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-06-12 AU AU59263/80A patent/AU531640B2/en not_active Ceased
- 1980-06-16 CH CH461280A patent/CH644158A5/de not_active IP Right Cessation
- 1980-06-17 SE SE8004481A patent/SE429564B/sv not_active IP Right Cessation
- 1980-06-27 NO NO801937A patent/NO151474C/no unknown
- 1980-06-27 DK DK277280A patent/DK151905C/da not_active IP Right Cessation
- 1980-06-27 FI FI802060A patent/FI63445C/fi not_active IP Right Cessation
- 1980-06-27 BR BR8004067A patent/BR8004067A/pt not_active IP Right Cessation
- 1980-06-27 ES ES492867A patent/ES8102208A1/es not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SE8004481L (sv) | 1980-12-30 |
| AU531640B2 (en) | 1983-09-01 |
| FI802060A (fi) | 1980-12-30 |
| DK151905C (da) | 1988-08-08 |
| AR228740A1 (es) | 1983-04-15 |
| CH644158A5 (de) | 1984-07-13 |
| DK151905B (da) | 1988-01-11 |
| AU5926380A (en) | 1981-01-08 |
| BE882712A (fr) | 1980-07-31 |
| MX153062A (es) | 1986-07-24 |
| SE429564B (sv) | 1983-09-12 |
| ES492867A0 (es) | 1980-12-16 |
| NO801937L (no) | 1980-12-30 |
| GB2051861B (en) | 1983-03-09 |
| NO151474C (no) | 1985-04-17 |
| US4293620A (en) | 1981-10-06 |
| CA1141328A (en) | 1983-02-15 |
| FI63445B (fi) | 1983-02-28 |
| IT8022108A0 (it) | 1980-05-16 |
| BR8004067A (pt) | 1981-01-21 |
| GB2051861A (en) | 1981-01-21 |
| JPS569385A (en) | 1981-01-30 |
| ES8102208A1 (es) | 1980-12-16 |
| JPS5710192B2 (no) | 1982-02-25 |
| FR2460344A1 (fr) | 1981-01-23 |
| FR2460344B1 (no) | 1981-09-11 |
| DK277280A (da) | 1980-12-30 |
| IT1149881B (it) | 1986-12-10 |
| FI63445C (fi) | 1983-06-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08209379A (ja) | アルカリ亜鉛および亜鉛合金電気めっき浴およびプロセス | |
| GB2059438A (en) | Electro-co-deposition of zinc alloys onto iron or steel substrates | |
| NO119299B (no) | ||
| US4902387A (en) | Chromate-treated zinc-plated steel strip and method for making | |
| NO151473B (no) | Fremgangsmaate for plettering av krom samt kromelektropletteringsopploesning. | |
| JPS60181293A (ja) | アルカリ性浴からの電気亜鉛−鉄合金めつき法 | |
| NO151474B (no) | Fremgangsmaate for elektroplettering av en gjenstand med et kromsjikt. | |
| US8372259B2 (en) | Method of preparing chromium plating bath and method of forming plating film | |
| US3461048A (en) | Method of electrodepositing duplex microcrack chromium | |
| US3594288A (en) | Process for electroplating nickel onto metal surfaces | |
| CA1209947A (en) | Chromate composition and process for treating zinc- nickel alloys | |
| US4591416A (en) | Chromate composition and process for treating zinc-nickel alloys | |
| JPS6021235B2 (ja) | コバルト−亜鉛合金電気メツキ浴組成物とメツキ方法 | |
| US4007099A (en) | Cathodic production of micropores in chromium | |
| NZ207033A (en) | Method of forming adherent chromeplating | |
| US3785940A (en) | Method for electrolytically treating the surface of a steel plate with a chromate solution | |
| US2985567A (en) | Electrodeposition of black chromium coatings | |
| US3755091A (en) | Process for reducing discoloration of electrochemically treated chromium plated ferrous metal strip | |
| US3567599A (en) | Electrochemical treatment of ferrous metal | |
| US4806226A (en) | Process for electrolytically coloring aluminum material | |
| GB2057505A (en) | Aqueous composition and method for electrodeposition of black nickel | |
| US5395510A (en) | Efficient preparation of blackened steel strip | |
| GB2033427A (en) | Chromium Electroplating | |
| JP3136693B2 (ja) | 耐食性および溶接性に優れた電解クロメート処理鋼板の製造方法 | |
| KR850000620B1 (ko) | 크롬 전기도금액 |