FI63445C - Process foer avsaettning av tjocka kromskikt fraon trivalentkromplaeteringsloesningar - Google Patents
Process foer avsaettning av tjocka kromskikt fraon trivalentkromplaeteringsloesningar Download PDFInfo
- Publication number
- FI63445C FI63445C FI802060A FI802060A FI63445C FI 63445 C FI63445 C FI 63445C FI 802060 A FI802060 A FI 802060A FI 802060 A FI802060 A FI 802060A FI 63445 C FI63445 C FI 63445C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- chromium
- plating
- solution
- layer
- process according
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12806—Refractory [Group IVB, VB, or VIB] metal-base component
- Y10T428/12826—Group VIB metal-base component
- Y10T428/12847—Cr-base component
- Y10T428/12854—Next to Co-, Fe-, or Ni-base component
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
FS35r*l M (11)KUULUTU*JULKAISU £7/4 5 JSft l J ' ' UTLÄGGNINOSSKRIPT Ο O H H 0 flgSjÄ c Fator.tU uyonr.clty 10 06 1933
Patent eeddelot ^ ^ (51) Kv.lk?/lne.CI.3 C 25 D 3/06 SUOMI—FINLAND (21) Pwnttlhiktmut — Ρκμμμ(ΙΙμιΙιι| 802060 (22) H*k*ml«p«lvi —Aiweknlnt·^ 27.06.80 ' (23) Alkupilvi—Glltl|h«ct4tg 27.06.80 (41) Tulkit fulkl**fc»l — Bllvlt affantHg 30 12 80
HftM· 1. rrtUW^lMimu. (^NgeHWNl-ilil-ll-hi-p-.- ,β'ο,'ο, ™*nt- och regltterttyrtlMn ' ' AmMcm utl>cd och utUkrtfwn pubtiund d0' Uei’ 05 (32)(33)(31) ^rydwty «tuotkaui —tofird prterhoc 29 · 06. 7 9
Englanti-England(GB) 7922791 Toteennäytetty-Styrkt (71) International Business Machines Corporation, Armonk, N.Y. 1050U, USA(US) (72) James Michael Linford Vigar, Winchester, Hampshire, Englanti-England(GB) (7¾) Qy Kolster Ab (5M Menetelmä paksujen kromikerrosten saostamiseksi kolmiarvoisista kromi-päällystysliuoksista - Process för avsättning av tjocka kromskikt fr&n trivalentkrompläteringslösningar
Keksinnön kohteena on paksujen kalvojen saostaminen kromi-sähköpäällystysliuoksista,joissa kromilähteen muodostaa kromi (III)-tiosyanaattikompleksin vesiliuos. Tässä yhteydessä tarkoittaa ilmaisu "paksu kerros" kerrosta,jonka paksuus ylittää viisi mikronia.
Aikaisemmin kromia on pleteerattu vesi/kromihappo-kylvyistä, jotka on valmistettu kromioksidista (CrO^) ja rikkihaposta. Tällaisille kylvyille, joissa kromilla on kuusiarvoinen muoto, on ominaista alhainen virranvaikutusaste. Kromihappohöyryt, joita tulee seurauksena vedyn kehittymisestä, muodostavat myös huomattavan terveysvaaran. Lisäksi on kromi-pitoisuus tällaisissa kylvyissä varsin suuri, mikä johtaa jäte- tai talteenotto-ongelmiin, jotka johtuvat niin sanotusta kromiyhdisteen "poisuuttumisesta" pleteerauskylvyn jälkeen käytetyissä huuhtelusäiliöissä.
2 63445
Kuusiarvoisen kromin päällystyksen monien haittojen voittamiseksi on ehdotettu päällystämistä kromilla kolmiarvoisessa muodossa. Eräs tällainen menetelmä päällystämiseksi kromilla lähtien kromi (III)-tiosyanaattikompleksin vesiliuoksesta, kuvataan brittiläisessä patentissa 1 431 639. Eräässä toisessa tällaisessa menetelmässä, jossa myös käytetään kromi (III)-tiosyanaattikompleksin vesiliuosta, muodostaa kuitenkin puskuriaine yhden ligandeista kromikompleksiin. Puskuriaineena käytetään aminohappoja (esim. glysiiniä, asparagiinihappoa), peptidejä, formiaat-teja, asetaatteja tai hypofosfiitteja. Nämä kolmiarvoisen kromin päällystysprosessit eivät kuitenkaan synnytä kromihappohöyryjä. Niillä on korkea hyötysuhde, laaja päällystysalue ja hyvä peitto-kyky. Kromia tarvitaan paljon pienempi määrä kylvyssä kuin menetelmissä, joissa käytetään kuusiarvoista kromia, mikä pienentää uutto-ongelmaa. Kromipitoisuudet ovat väliltä 0,03-0,5 moolia.
Vaikkakin edellä mainitun brittiläisen patentin mukaisilla kolmiarvoista kromia käyttävillä päällystysmenetelmillä voitetaan kaikki suuremmat haitat, jotka liittyvät päällystämiseen kuusiar-voisella kromilla, on saostetulla kromilla yleensä jonkinverran tummempi ulkonäkö. Vaikka tämä väri on täysin hyväksyttävä tai jopa monissa sovellutuksissa edullisempi, on selvä etu, että voidaan pleteerata vaaleampiväristä kromia kolmiarvoisella menetelmällä. On mm. käytetty kromi (III)-tiosyanaatti-kylpyjä, joiden kromipitoisuus huomattavasti alittaa yleisesti hyväksytyn tason hyötysuhteelle ja kylvyn pysyvyydelle. Tällaiset kylvyt antavat kerrostuman, jolla on merkittävästi vaaleampi väri. Kromipitoisuus näissä kylvyissä on pienempi kuin 0,03 M ja edullisesti pienempi kuin 0,015M.
Koristelutarkoitusten lisäksi käytetään kromipäällystystä käytännön tarkoituksia varten. Kovuutensa, alhaisen kitkansa ja syöpymisen kestävyytensä perusteella sitä käytetään esim- kulutus-takestävän päällysteen aikaansaamiseksi liukuvan koneen osan pinnalle tai antamaan ruuveille tai muttereille samankaltainen päällyste. Tällaisissa sovellutuksissa on yleensä välttämätöntä, että pleteeratun kromin paksuus on huomattavasti paksumpi kuin koris-telutarkoitukeissa. Normaalisti koristeellisen kromin paksuus alittaa yhden mikronin, kun taas "käytännön" kromin paksuuden pitää / 3 63445 olla suuruusluokaltaan kymmeniä mikroneja. Tällaisia paksuuksia on tähän asti voitu aikaansaada yksinomaan kuusiarvoisella kromi-pleteerauksella. Yrityksistä pleteerata paksu kromi (yli 5 mikronia kolmiarvoisista kylvyistä - esimerkiksi brittiläisen patentin 1 431 639 mukaisesti - on ollut tuloksena karkeita, himmeitä kerrostumia, joiden tarttuvuus on huono.
Tämän keksinnön mukaisesti aikaansaadaan menetelmä jonkun esineen sähköpleteeraamiseksi kromikerroksella, jonka paksuus ylittää viisi mikronia, menetelmän käsittäessä seuraavat vaiheet: esineen sähköpleteerauksen suhteellisen ohuella kromialkukerroksel-la tasapainoitetusta kromi (III)-tiosyanaattikompleksin vesiliuoksesta, jonka kromipitoisuus on suhteellisen alhainen, sekä pletee-rauksen pääasiallisesti toivottuun paksuuteen yhdessä tai useammassa vaiheessa tasapainoitetusta kromi (III)-tiosyanaattikompleksin vesiliuoksesta, jolla on suhteellisesti suurempi pitoisuus.
Keksintö perustuu havaintoon, että ohut alkukerros, joka saostetaan kylvystä, jossa on liuotettua Cr(III)-tiosyanaattia, saa aikaan sen, että jälkeentulevat paksut kerrostumat pitoisuudeltaan suuremmasta, nopeammin vaikuttavasta Cr(III)-tiosyanaat-ti-kylvystä saavat paljon paremmat tarttuvuus- ja pinnan tasaisuus-ominaisuudet. Edullisesti on alhainen pitoisuus pienempi kuin 0,03 moolia. Edullisessa menetelmässä saostetaan ainoastaan ohut alku-kerros pitoisuudeltaan pienemmästä liuoksesta, kun taas koko jäljelläoleva paksuus pleteerataan pitoisuudeltaan suuremmasta liuoksesta.
Vaihtoehtoisesti voidaan paksuja ja ohuita kerroksia pleteerata vuorottain kylvyistä, joilla on suurempi ja pienempi pitoisuus.
Edullinen paksuus ohuella alkukerroksella on vähintään 1000 A.
Edulliset kromipleteerausliuokset sisältävät puskuriaineena aminohapon, joka antaa vähintään yhden ligandeista kompleksia varten.
2
Edulliset virrantiheydet ovat alueella 40-50 mA/cm alku- * 2 kerros-pleteerausvaiheelle ja alueella 50-120 mA/cm pleteeraus- vaiheelle väkevöidyllä liuoksella.
Pleteerattaessa paksua kromia tämän keksinnön mukaisesti on kromia pleteerattu standarditeräskappaleilie paksuuksissa väliltä 10-75 mikronia. Määrätyissä tapauksissa päällystettiin koete-räskappaleet ensin pelkällä nikkelillä 10-12 mikronin paksuuteen.
Kromiperuskerrokset pleteroitiin kylvystä, jonka pitoisuus 4 63445 oli Q,QQ3 M, paksuuteen, joka ei ylitä 1000 A. Kromia saostettiin lisää kylvystä, jonka kromipitoisuus oli 0,1 M. Tietyissä tapauksissa seurasi perussaostamista yksi ainoa pleteerausvaihe 0,lM-kyl-vystä loppukerroksen saostamiseksi. Muissa tapauksissa tapahtui vaihteleva muutaman mikronin saostaminen 0,lM-kylvystä ja sen sa-ostaminen Q,QQ3M-kylvystä.
Vertailutarkoituksia varten pleteroitiin näyte 0,1 M-kylvys-tä pelkästään ja sen pintaprofiili-keskusviiva-keskiarvo (CLA) osoittautui olevan 1,875 mikronia. Vastaavat arvot keksinnön mukaisesti pleteroiduille näytteille olivat paljon alempia, 0,175 mikroniin asti.
Kerrostuman mittaukset osoittavat, että kromi alhaisessa pitoisuudessa on hyvin puhdasta, kun taas kerrostuma, jossa on suuri kromipitoisuus, sisältää kemiallisesti sidottua happea ja rikkiä. Oletetaan, että koska ohut alkukerros on hyvin puhdas ja tasainen, se tulee toimimaan peruskerroksena saostuman loppuosalle, mikä rajoittaa tämän rakeisuutta. Koko paksu kerros tulee täten paremmin koossapysyväksi ja vähemmän hauraaksi kuin saman paksuinen kerros, joka saostettiin yksinomaan pitoisuudeltaan korkeammasta kylvystä. Vaalea väri kromissa, joka on saostettu kylvyistä, joissa on alhaiset pitoisuudet, voidaan myös katsoa puhtaudesta aiheutuneeksi. Toisaalta on olemassa alhaisen kromipitoisuuden omaavien kylpyjen kokonainen alue, joiden kylpyjen odotetaan vaikuttavan edullisesti saostettaessa paksuja kromikerroksia. Tämä alue on 0,0002-0,025 M, jolla arvioitu ylempi raja on 0,03 M:ssä.
Keksintöä kuvataan lähemmin seuraavin esimerkein.
Vertailuesimerkki I
Pitoisuudeltaan suhteellisen suuri kolmiarvoinen kromiple-teerausliuos valmistettiin seuraavalla tavalla: a) 60 g boorihappoa (H^BO^) lisättiin 750 ml:aan deionoitua vettä, jota senjälkeen kuumennettiin ja sekoitettiin boorihapon liuottamiseksi.
b) 33,12 g kromisulfaattia (Crj(SO^)^*ΙδΗ^Ο) ja 32,43 g natriumtiosyanaattia (NaNCS) lisättiin liuokseen, jota senjälkeen kuumennettiin ja sekoitettiin 70°C:ssa noin 30 minuuttia.
5 63445 c) 13,3 g DL asparagiinihappoa (NHjCt^CH (COOH) lisättiin liuokseen, jota senjälkeen kuumennettiin ja sekoitettiin noin 75°C: ssa noin 3 tuntia. Tänä aikana pH-arvo säädettiin l,5:stä 2,8:aan hyvin hitaasti 10 paino-%: sella natriumhydroksidiliuoksella. Heti kun pH-arvo 2,8 oli saavutettu tämä arvo ylläpidettiin koko tasapainoitusjakson ajan.
d) Liuokseen lisättiin riittävästi natriumkloridia jotta pitoisuudeksi tulisi noin 1 M ja lisäksi lisättiin 0,1 g FC 98 kos-tutusainetta. Liuosta kuumennettiin ja sekoitettiin vielä 30 minuutin ajan.
e) Liuoksen pH-arvo asetettiin uudelleen 2,8:aan natrium-hydroksidiliuoksella.
f) Liuoksen määrä täydennettiin 1 l:ksi deponoidulla vedellä, jonka pH-arvo oli säädetty 3,0:aan 10-tilavuus-%:sella kloorivety-hapolla.
Lopullisella liuoksella oli seuraava koostumus: 0,1 M kromisulfaattia - (SO^) ^* 15^0
0,4 M natriumtiosyanaattia - NaNCS
0,1 M asparagiinihappoa - N^C^CH (COOH) ^ 60 g/1 boorihappoa - H^BO^ 60 g/1 natriumkloridia - NaCl 0,1 g/1 FC 98 kostutusainetta.
Tämä sähköpleteerausliuos pantiin pleteerauskennoon. Kennoon vietiin platinoitu titaanianodi ja teräskoekappale katodiksi.
Teräskappaleella oli 10-12 mikronin kirkas nikkelipäällyste. 75 o mA/cm pleteerausvirran annettiin kulkea elektrodien välillä 90 minuutin ajan. Saostui 20,9 mikronia paksu kromikerros.
Tällä saostumalla oli himmeä ulkonäkö ja se osoittautui varsin hauraaksi. Pinnan profiilimittaukset antoivat keskiviiva-keskiarvoja väliltä 1,5-1,9 mikronia.
Esimerkki I
Toinen pitoisuudeltaan alhainen kromipleteerausliuos valmistettiin seuraavalla tavalla. Valmistettiin liuos täsmälleen samalla tavalla kuin vertailuesimerkissä I kuvattiin sillä poikkeuksella, että käytettiin vain puolet natriumtiosyanaattimäärästä, josta seurasi natriumtiosyanaatti-pitoisuus 0,2 M. 30 ml tätä liuosta täydennettiin 1 l:ksi liuoksella, joka sisälsi 60 g boorihappoa ja 60 g natriumkloridia/litra.
63445
Lopullisen liuoksen, jolla on alempi pitoisuus, koostumus oli pääasiallisesti seuraava: Q,Q03 M kromisulfaattia Q,QQ6 M natriumtiosyanaattia 0,Q03 M asparagiinihappoa 60 g/1 boorihappoa 60 g/1 natriumkloridia.
Pitoisuudeltaan alempi sähköpleteerausliuos vietiin pletee-rauskennoon, jossa oli platinoitu titaanianodi ja teräskoekappale Λ katodina. 40 mA/cm^ pleteerausvirran annettiin kulkea kennon läpi 24Q sekunnin ajan alkukromikerroksen saostamiseksi, jonka arvioitu paksuus ei ylitä 100 A.
Koekappale siirrettiin senjälkeen huuhtelematta toiseen pleteerauskennoon, joka sisälsi kromisähköpleteerausliuoksen, jolla oli suurempi väkevyys ja sama koostumus kuin vertailuesi-merkissä I. 75 mA/cm pleteerausvirran annettiin kulkea kennon läpi 180 minuutin ajan paljon paksumman kromikerroksen saostamiseksi ohuen alkukerroksen päälle. Kromikerroksen lopullinen paksuus oli 21,6 mikronia.
Tämä paksu kerros vaikutti sileältä ja heijastavalta paljaalle silmälle. Keskiviivakeskiarvo pinnalla oli 0,178 mikronia. Kerrostuma oli vähemmän hauras ja enemmän koossapysyvä kuin esimerkissä I.
Esimerkki II
Esimerkin I menettely toistettiin sarjassa kokeita kumpaakin samaa pleteerausliuosta käyttäen vaikkakin kostutusaine tietyissä tapauksissa jätettiin pois. Tämä näytti parantavan saostuman ominaisuuksia edelleen alentamalla rakeisuutta. Pleteerattiin kerroksia paksuudeltaan väliltä 10-75 mikronia. Virrantiheydet pleteerausta varten vähäpitoisesta kylvystä olivat väliltä 40-50 2 mA/cm . Virrantiheydet pleteerausta varten suurempipitoisista 2 kylvyistä olivat väliltä 50-120 mA/cm .
Keskiviivakeskiarvomittaukset määrätyillä näytteillä näistä antoivat alueen väliltä 0,178-0,28 mikronia.
Esimerkki III
Käyttäen samoja liuoksia kuin esimerkissä I ja lähtien liuoksesta, jolla on alempi pitoisuus, saostettiin vuorottain kromi- 7 63445 kerroksia kiinana s takin liuoksesta teräskoekappaleelle.
Teräskappale järjestettiin ensin katodiksi vähäpitoiseen 2 kylpyyn ja virran, jonka tiheys oli 40 mA/cm , annettiin 240 sekunnin ajan kulkea ohuen alkukromikerroksen muodostamiseksi, jonka paksuus ei ylittänyt 1000 Ä. Teräskappale siirrettiin huuhtomatta suurempipitoiseen kylpyyn ja pleteroitiin virrantiheydellä 50 mA/cm 30 minuutin ajan, niin että muodostui paksu kromikerros. Kappale siirrettiin senjälkeen takaisin pienempipitoiseen kylpyyn ja pleteroitiin 2 minuutin ajan 40 mA/cm^:ssa. Vaihtopleteerauksen 3Q minuutissa suurempipitoisemmassa kylvyssä ja 2 minuutissa alempipitoisessa kylvyssä annettiin jatkua yhteensä 215 minuuttia.
Kaikenkaikkiqan saostui kromia 16,9 mikronin paksuuteen. Lopullinen kerrostuma oli koossapysyvä, sileä ja ei ollut hauras ja sen keskiviivakeskiarvo oli 0,2 mikronia.
Claims (10)
1. Menetelmä jonkun esineen sähköpleteeraamiseksi kromiker-roksella, jonka paksuus ylittää 5 mikronia, tunnettu siitä, että esine sähköpleteerataan suhteellisen ohuella alkukromi-kerroksella tasapainotetusta kromi (III) -tiosyanaattikompleksin vesiliuoksesta, jonka kromipitoisuus on suhteellisen alhainen, ja että pleteroidaan pääasiallisesti jäijelläolevaan paksuuteen yhdessä tai useammassa vaiheessa tasapainotetusta kromi(III)-tiosyanaattikompleksin vesiliuoksesta, jonka pitoisuus on suhteellisesti suurempi.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnet-t u siitä, että liuoksen, jolla on suhteellisesti alempi pitoisuus, kromipitoisuus ei ole suurempi kuin 0,03 M ja että liuoksen, jolla on suhteellisesti suuri pitoisuus, kromipitoisuus ylittää Q,Q3 M.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että pleteeraus jäijelläolevaan kokonaispaksuuteen ohuen alkukerrospleteerauksen jälkeen tapahtuu liuoksesta, jonka pitoisuus on suurempi.
4. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunne t t u siitä, että pleteeraus kromikerroksen jäijelläolevaan paksuuteen suoritetaan vuorottain liuoksista, joilla on pieni ja suuri pitoisuus, paksuina tai ohuina kerroksina.
5. Jonkin edellä esitetyn patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että ohuen alkukerroksen pleteeraus lopetetaan kerroksen säästämisen jälkeen, jonka paksuus on pienempi kuin 1000 A.
6. Jonkun edellä esitetyn patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kumpikin sähköpleteerausliuoksista sisältää aminohapon puskuriaineena, joka muodostaa vähintään yhden ligandeista kompleksille.
7. Jonkun edellä esitetyn patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kumpikaan liuoksista ei sisällä kostutusaineita. 63445
8. Jonkun edellä esitetyn patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että. virrantiheys ohuen alku- 2 kerroksen pleteroinnin aikana on väliltä 40-50 mA/cm .
8 63445
9. Jonkun edellä esitetyn patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että virrantiheys pleteroinnin 2 aikana väkevämmästä liuoksesta on väliltä 50-120 mA/cm .
10. Jonkun edellä esitetyn patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että pitoisuudeltaan alempi liuos sisältää 0,003 M kromisulfaattia, 0,006 M natriumtiosyanaat-tia, 0,QQ3 M asparagiinihappoa, 60 g boorihappoa litraa kohti ja 60 g natriumkloridia litraa kohti ja että pitoisuudeltaan suurempi liuos sisältää 0,1 M kromisulfaattia, 0,4 M natriumtiosyanaattia, 0,1 M asparagiinihappoa, 60 g boorihappoa litraa kohti ja 60 g natriumkloridia litraa kohti. 63445 10
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB7922791 | 1979-06-29 | ||
GB7922791A GB2051861B (en) | 1979-06-29 | 1979-06-29 | Deposition of thick chromium films from trivalent chromium plating solutions |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI802060A FI802060A (fi) | 1980-12-30 |
FI63445B FI63445B (fi) | 1983-02-28 |
FI63445C true FI63445C (fi) | 1983-06-10 |
Family
ID=10506203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI802060A FI63445C (fi) | 1979-06-29 | 1980-06-27 | Process foer avsaettning av tjocka kromskikt fraon trivalentkromplaeteringsloesningar |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4293620A (fi) |
JP (1) | JPS569385A (fi) |
AR (1) | AR228740A1 (fi) |
AU (1) | AU531640B2 (fi) |
BE (1) | BE882712A (fi) |
BR (1) | BR8004067A (fi) |
CA (1) | CA1141328A (fi) |
CH (1) | CH644158A5 (fi) |
DK (1) | DK151905C (fi) |
ES (1) | ES8102208A1 (fi) |
FI (1) | FI63445C (fi) |
FR (1) | FR2460344A1 (fi) |
GB (1) | GB2051861B (fi) |
IT (1) | IT1149881B (fi) |
MX (1) | MX153062A (fi) |
NO (1) | NO151474C (fi) |
SE (1) | SE429564B (fi) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2529581A1 (fr) * | 1982-06-30 | 1984-01-06 | Armines | Bain d'electrolyse a base de chrome trivalent |
US4804446A (en) * | 1986-09-19 | 1989-02-14 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Electrodeposition of chromium from a trivalent electrolyte |
US5271823A (en) * | 1992-06-17 | 1993-12-21 | Eaton Corporation | Method of making a trivalent chromium plated engine valve |
US6099714A (en) * | 1996-08-30 | 2000-08-08 | Sanchem, Inc. | Passification of tin surfaces |
JP4203143B2 (ja) * | 1998-02-13 | 2008-12-24 | 新日本製鐵株式会社 | 耐炭酸ガス腐食性に優れた耐食鋼及び耐食油井管 |
JP2000017482A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-18 | Nippon Piston Ring Co Ltd | 耐摩耗性、疲労強度に優れた積層構造を有するクロムめっき皮膜 |
CA2647571C (en) * | 2006-03-31 | 2015-02-17 | Atotech Deutschland Gmbh | Crystalline chromium deposit |
WO2009046181A1 (en) | 2007-10-02 | 2009-04-09 | Atotech Deutschland Gmbh | Crystalline chromium alloy deposit |
CN102947486B (zh) * | 2010-05-26 | 2016-03-23 | 安美特德国有限公司 | 在金属表面制备防腐层的方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1521040B2 (de) * | 1964-10-28 | 1971-11-11 | Alfred Teves Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur galvanischen weichverchromung von gegenstaenden aus metall insbesondere aus gusseisen |
FR1486696A (fr) * | 1965-09-28 | 1967-06-30 | Deutsche Edelstahlwerke Ag | Procédé d'application de couches de protection épaisses par chromage électrolytique d'acier et d'alliages résistant aux hautes températures |
GB1431639A (en) * | 1974-12-11 | 1976-04-14 | Ibm Uk | Electroplating chromium and its alloys |
US4062737A (en) * | 1974-12-11 | 1977-12-13 | International Business Machines Corporation | Electrodeposition of chromium |
US4161432A (en) * | 1975-12-03 | 1979-07-17 | International Business Machines Corporation | Electroplating chromium and its alloys |
US4141803A (en) * | 1975-12-03 | 1979-02-27 | International Business Machines Corporation | Method and composition for electroplating chromium and its alloys and the method of manufacture of the composition |
-
1979
- 1979-06-29 GB GB7922791A patent/GB2051861B/en not_active Expired
-
1980
- 1980-03-27 FR FR8007271A patent/FR2460344A1/fr active Granted
- 1980-04-09 BE BE0/200170A patent/BE882712A/fr not_active IP Right Cessation
- 1980-04-16 CA CA000349997A patent/CA1141328A/en not_active Expired
- 1980-05-09 JP JP6077980A patent/JPS569385A/ja active Granted
- 1980-05-16 IT IT22108/80A patent/IT1149881B/it active
- 1980-05-21 AR AR281150A patent/AR228740A1/es active
- 1980-05-21 MX MX182416A patent/MX153062A/es unknown
- 1980-06-09 US US06/157,714 patent/US4293620A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-06-12 AU AU59263/80A patent/AU531640B2/en not_active Ceased
- 1980-06-16 CH CH461280A patent/CH644158A5/de not_active IP Right Cessation
- 1980-06-17 SE SE8004481A patent/SE429564B/sv not_active IP Right Cessation
- 1980-06-27 BR BR8004067A patent/BR8004067A/pt not_active IP Right Cessation
- 1980-06-27 ES ES492867A patent/ES8102208A1/es not_active Expired
- 1980-06-27 FI FI802060A patent/FI63445C/fi not_active IP Right Cessation
- 1980-06-27 NO NO801937A patent/NO151474C/no unknown
- 1980-06-27 DK DK277280A patent/DK151905C/da not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5710192B2 (fi) | 1982-02-25 |
BR8004067A (pt) | 1981-01-21 |
NO151474C (no) | 1985-04-17 |
DK277280A (da) | 1980-12-30 |
SE8004481L (sv) | 1980-12-30 |
AU531640B2 (en) | 1983-09-01 |
JPS569385A (en) | 1981-01-30 |
IT8022108A0 (it) | 1980-05-16 |
MX153062A (es) | 1986-07-24 |
BE882712A (fr) | 1980-07-31 |
AR228740A1 (es) | 1983-04-15 |
FI63445B (fi) | 1983-02-28 |
FR2460344B1 (fi) | 1981-09-11 |
CH644158A5 (de) | 1984-07-13 |
ES492867A0 (es) | 1980-12-16 |
IT1149881B (it) | 1986-12-10 |
GB2051861B (en) | 1983-03-09 |
DK151905B (da) | 1988-01-11 |
FI802060A (fi) | 1980-12-30 |
AU5926380A (en) | 1981-01-08 |
ES8102208A1 (es) | 1980-12-16 |
DK151905C (da) | 1988-08-08 |
GB2051861A (en) | 1981-01-21 |
SE429564B (sv) | 1983-09-12 |
NO151474B (no) | 1985-01-02 |
NO801937L (no) | 1980-12-30 |
US4293620A (en) | 1981-10-06 |
FR2460344A1 (fr) | 1981-01-23 |
CA1141328A (en) | 1983-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4282073A (en) | Electro-co-deposition of corrosion resistant nickel/zinc alloys onto steel substrates | |
USRE31508E (en) | Electrodeposition of chromium | |
TW564263B (en) | Coated article having a stainless steel color | |
FI63445C (fi) | Process foer avsaettning av tjocka kromskikt fraon trivalentkromplaeteringsloesningar | |
JPS60181293A (ja) | アルカリ性浴からの電気亜鉛−鉄合金めつき法 | |
FI63263C (fi) | Elektroplaederingsloesning innehaollande trivalent krom i laogkoncentration | |
US2623847A (en) | Black chromium plating | |
FR2513664A1 (fr) | Article composite revetu par voie electrolytique, comprenant un alliage nickel-fer, un revetement contenant du nickel et un second alliage nickel-fer | |
CA1129805A (en) | Electrodeposition of ruthenium-iridium alloy | |
US2063760A (en) | Bath for and process of electrodeposition of metal | |
US4351713A (en) | Electro-co-deposition of corrosion resistant nickel/zinc alloys onto steel substrates | |
CA1195645A (en) | High-rate chromium alloy plating | |
US4014761A (en) | Bright acid zinc plating | |
US3748712A (en) | Tarnish resistant plating for silver articles | |
US4119502A (en) | Acid zinc electroplating process and composition | |
US4460438A (en) | Process for the electrolytic deposit of chromium | |
NO784204L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
GB2116588A (en) | Electroplated zinc-cobalt alloy | |
US3421986A (en) | Method of electroplating a bright adherent chromium coating onto cast-iron | |
Luke | Nickel-phosphorus electrodeposits | |
NZ207033A (en) | Method of forming adherent chromeplating | |
Rajendran et al. | The electrodeposition of zinc-nickel alloy from a cyanide-free alkaline plating bath | |
NO784051L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av blanke til skinnende, galvaniske zinkutfellinger og sur vandig pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
PL122271B1 (en) | Bath for chromium plating | |
US1555537A (en) | Method and anode for electrodeposition of rust-resisting coatings |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed | ||
MM | Patent lapsed |
Owner name: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES |