NO133372B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- NO133372B NO133372B NO4395/72A NO439572A NO133372B NO 133372 B NO133372 B NO 133372B NO 4395/72 A NO4395/72 A NO 4395/72A NO 439572 A NO439572 A NO 439572A NO 133372 B NO133372 B NO 133372B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- bath
- iridium
- platinum
- acid
- stated
- Prior art date
Links
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 42
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 33
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 14
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 9
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 5
- 230000008030 elimination Effects 0.000 claims description 5
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 claims description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 5
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- -1 ammonium ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 31
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 229940075397 calomel Drugs 0.000 description 5
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical compound Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- SMVPNBSENDTIEH-UHFFFAOYSA-M [Ir]Br Chemical class [Ir]Br SMVPNBSENDTIEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 3
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- VBWYZPGRKYRKNV-UHFFFAOYSA-N 3-propanoyl-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)N(C(=O)CC)C2=C1 VBWYZPGRKYRKNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000575 Ir alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035508 accumulation Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M bromate Chemical class [O-]Br(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000029142 excretion Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/567—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of platinum group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/50—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
Foreliggende oppfinnelse angår elektrolytisk påfbring av platina, iridium eller deres legeringer på en gjenstand neddykket i et elektrolysebad, for det formål å oppnå lett reproduserbare tynne skikt, som, særskilt når de påfbres på titan eller analoge metaller og legeringer, er særlig egnet for å utnyttes som anoder ved elektrolyse, hvorved det oppnås lang levetid og liten tendens til overspenning. Det er kjent for elektrolyseformål å anvarie som anoder metaller i platinarekken og nærmere bestemt platina selv og visse av dets legeringer. Særskilt ved elektrolyse av alkali-halogenider og fortrinnsvis ldsninger av natriumklorid, har det i lengere tid vært kjent at platina og i ennå hdyere grad legeringer av platina og iridium gir store fordeler ved fremstilling av bestandige anoder. Særskilt ut fra et bkonomisk synspunkt er det imidlertid vanskelig å anvende disse metaller i massiv form, og det er likeledes lenge vært anbefalt å anvende tynne metallskikt påfbrt på metallstrukturer som ikke kan angripes av de forbindelser som utnyttes under elektrolysen. De metaller som egner seg for fremstilling av sådanne strukturer er av den art som dekker seg med et skikt av sine egne oksyder under elektrolyseprosessen, nemlig titan, zirkonium, niob, tantal,
wolfram og legeringer av disse metaller.
Tynne skikt av platina, iridium og legeringer av disse metaller
kan oppnås ved forskjellige kjente fremgangsmåter, av hvilke det eksempelvis kan angis katodeforstbvning, påfbring av metallisk maling og elektrolytisk belegning.
Egenskapene av sådanne tynne skikt som er påfbrt ved forskjellige metoder, er imidlertid på ingen måte identiske når det gjelder deres bestandighet overfor påvirkninger av kjemisk, elektrokjemisk og mekanisk art, og det er denne bestandighet som bestemmer livslengden for de således fremstilte anoder. Når det gjelder overspenningen' i forhold til de avsatte anodiske produkter, bbr denne spenning åpenbart være så lav som mulig og ikke eTke med tiden. Når det gjelder elektrolytisk påfbring av nevnte tynne skikt, som forbvrig har store fordeler i denne forbindelse, ér det vanskelig å oppnå sådanne elektrolytiske belegg med jevn kvalitet selv om de belagte elektroder er identiske, og dette beror på arten av de vanligvis anvendte elektrolysebad samt forandringene i disse bad i lbpet av et stort antall etterfblgende arbeids-operasjoner. Elektrolytisk påfbring av platina, iridium eller disse metallers legeringer er faktisk nærmest umulig å oppnå ved hjelp av opplbselige anoder, og i denne situasjon hindj.es reproduserbare resultater av gjentatte tilfbrsler av nevnte edle metaller til badet, sammen med naturlige forandringer i badene, som også underkastes forandringer på grunn av elektrolyseprosessen. Disse faktorer påvirker også påfbringshastigheten for beleggene samt deres egenskaper.
Ved et stort antall sammensetninger for sådanne bad, opptrer platina og iridium som bestanddel av halogenholdige syrer eller salter av disse syrer, eller eventuelt i form av komplekse kombinasjoner som f.eks. metallaminer, idet det til disse forbindelser ofte foreslås å tilsette spesielle tilsatser med det formål å gi de påfbrte tynne skikt visse spesielle egenskaper.
Under det utviklingsarbeide som har fort til foreliggende oppfinnelse, har oppfinnerne spesielt studert elektrolytisk påfbring av platina, iridium eller legeringer av disse metaller på grunnlag av de tilsvarende bromholdige syrer og saltene av disse syrer, med det formål å oppnå tynne skikt med forut bestemte egenskaper og materialkonstanter under seriefrémstilling av anoder, inkludert fornyelser av badene, samt spesielt tynne skikt av legeringer mellom disse metaller i bestemte innbyrdes forhold,
og særskilt sådanne forhold som tidligere er k^ent som mest hensiktsmessig. Anvendelse av elektrolytiske bad som inneholder halogener, i den hensikt å påfbre metaller fra platinarekkerv har
faktisk vært kjent under lengere tid, og i det siste er også
fordelene ved å anvende bad med brominnhold blitt omtalt,
særskilt i forbindelse med påfbring-av iridium. Disse foreslåtte bad er imidlertid ikke blitt anvendt i industriell målestokk på grunn av deres opprinnelige sammensetning samt likeledes som folge av den ufordelaktige utvikling av badenes sammensetning, hvilket medfbrer en oppsamling av bromidioner og de kationer som hindrer oppnåelse av tynne skikt med forut-
bestemte egenskaper og under konstant påfbringstakt.
Det er faktisk funnet at nærvær av bromidioner i badet ikke
har samme innvirkning på påfbringstakten for platina som for påfbringstakten av iridium. Et sådant nærvær resulterer i,
enten det frivillig tilsettes bromider eller bromater til badet eller disse skriver seg fra selve metallpåfbringsprosessen,
faktisk i en nedsettelse av påfbringstakten for iridium, mens påfbringstakten for platina ikke nedsettes i samme grad.
Virkningen på bad som inneholder begge de to metaller ligger
imellom disse yttergrenser; og som en folge av dette, foreslås det i henhold til oppfinnelsen at mengden av bromidioner i badet bibeholdes på lavest mulig nivå, mens badene tillates å inneholde de andre syrer som inneholdes i gruppen salpetersyre, svovelsyre, perklorsyre og bromsyre; idet perklorsyre vanligvis foretrekkes. Disse syrer er ikke særskilt kompliserte og deres nærvær muliggjbr elektrolytisk påfbring av nevnte metaller ved at deres syrlighet forhindrer bunnfelling i badet av forskjellige ulbselige salter.
Det har likeledes vist seg at hvis men bnsker å anvende
konsentrerte metallbad som muliggjbr hby påfbringstakt, er det i så hby grad som mulig nbdvendig å unngå akkumuleringer av kationer som forhindrer opprettholdelse av sådanne konsentrasjoner.
De platina- og iridiumforbindelser som det er lettest å utnytte
i praksis, er brom-iridiumsyrer og brom-platinasyre likesom ammoniumsaltene av disse syrer, skjbnt nevnte salt neppe muliggjbr bad med mer enn 5 g metall pr. liter. Denne konsentrasjon er
imidlertid tilstrekkelig for å oppnå en temmelig hby påfbringstakt. Allerede en metallkonsentrasjon på mindre enn 0,1 g pr. liter av de nevnte metaller muliggjbr fremstilling av tynne skikt av god kvalitet i en betraktelig påfbringstakt. En konsentrasjon på opptil 60 g metall pr. liter kan oppnås ved anvendelse av brom-iridiumsyre og brom-platinasyre og eliminering av kationer i saltopplbsningene, fulgt av en destillasjon. Sådanne hbye konsentrasjoner er imidlertid ikke på noen måte alltid nbdvendige.
Oppfinnelsens fremgangsmåte har således som særtrekk a>: det anvendes et bad som er sammensatt på grunnlag av forbindelser som i vandig opplbsning gir anioner av bromoplatinat og/eller bromoiridiat, sammen med minst en av fblgende syrer: salpetersyre, svovelsyre, perklorsyre og bromsyre, idet badets konsentrasjon av platina og/eller iridium ligger mellom 0,1 og 60 gram pr. liter og nevnte syrer foreligger i en mengde på mellom 0,0 5
og 1 ekvivalent pr. liter av badet.
Eventuelt kan også ammoniumioner og kationer av alkalimetaller være tilsatt badet.
Den valgte syremengde må imidlertid sees i sammenheng med badets metallkonsentrasjon, og i alle tilfeller bor ikke den tilsatte syremengde være stbrre enn at en for hby hydrogenutvikling under elektrolyseforlbpet forhindres. Under gjentatte elektrolyseoperasjoner bibeholdes de forskjellige ionekonsentra-sjoner på bnsket nivå ved periodisk eller kontinuerlig tilsats av de nbdvendige forbindelser, samtidig som elimineringen, av de ubnskete ioner også finner sted periodisk eller kontinuerlig.
Denne eliminering finner sted for kationenes del f.eks. i kolonner av utskiftbare harpikser i syreform, mens elimineringen av bromidioner hensiktsmessig oppnås ved hjelp av en sterk gasstilfbrsel, fortrinnsvis i form av luft, for en oksydasjon til brom. Denne oksydasjon kan foretas i et sirkulasjons-kretslbp utenfor den elektrolytiske celle for påfbring av platina og/eller iridium, f.eks. ved hjelp av oksygenmettet vann eller ozon, eller eventuelt ved elektrokjemisk oksydasjon på en uopplbselig anode i en hjelpecelle. Denne elektro-kjemiske oksydasjon kan imidlertid også med fordel skje på
anoden i selve den celle som anvendes for påfbring av nevnte metaller.
Oppfinnelsen gjelder også det ovenfor beskrevede bad for utfbrelse av oppfinnelsens fremgangsmåte, og det vil være åpenbart at sådanne elektrolytiske bad i henhold til oppfinnelsen kan anvendes for påfbring av platina og/eller iridium på
ethvert substrat som er ledende eller gjort ledende på overflaten, idet mellomskikt påfbres for å unngå angrep på disse substrater fra badet. De utfbrelseseksempler som er angitt nedenfor er begrenset til påfbring på titan for tilvirkning av anoder av dette metall, som er dekket av bestandige tynne skikt av ledende material. Analoge anodematerialer og særskilt tantal gir tilsvarende resultater med hensyn til de elektrolytiske egenskaper i oppløsninger av alkali-halogenider. I nevnte eksempel angis et antall måleresultater som viser bestandigheten av titanelektroder ved elektrolyse i mettet koksaltlbsning, likesom måleresultater som gjelder selve påfbringsprosessen av platina og/eller iridium' som funksjon av de tidligere angitte viktige faktorer. Det siste eksempel som er angitt angår serie-fremstilling av elektroder ved hjelp av et bad som bibeholdes méd konstant sammensetning.
EKSEMPEL 1
Dette eksempel har som formål å vise den meget sterke innvirkning konsentrasjonen av anionene Br" har på påfbringstakten for iridium. For dette formål utsettes en rekke titanelektroder for elektrolyse med en strbmtetthet på 0,3 A/dm^ ved en temperatur på 75°C
uten omrbring av badet, for påfbring av tynne skikt av iridium ved hjelp av en rekke opplbsninger av bromoiridiumsyrer, som inneholdt 4 g metall pr. liter og tilsatt bkende mengder av
brom-hydrogensyre. Til alle disse oppløsninger tilsettes perklorsyre i en slik mengde at det oppnås en konsentrasjon på 0,1 N. Den følgende tabell 1 resymmerer de oppnådde resultater med hensyn på påforingstakt, hvilket vil si tykkelsen av det påforte metallskikt pr. time, angitt ijqim, som funksjon av forholdet Br"/Ir, hvilket vil si forholdet mellom det antall anioner Br" som er tilfort med den tilsatte bromhydrogensyre og antallet foreliggende iridiumatomer.
Denne tabell viser at for et forhold Br~/Ir =' 36 kan det ikke oppnås noe iridium-belegg under de foreliggende forsøks-betingelser. Under de tilsvarende betingelser når iridium er erstattet med platina, vil påforingstakten for platina være mindre påvirket av en varierende konsentrasjon av ionene Br". Påforingstakten i dette tilfelle vil faktisk ikke nedsettes vesentlig for forholdet Br~/Pt blir av størrelsesorden 10^.-EKSEMPEL 2.
Dette eksempel har som formål å vise innvirkningen av en lite komplisert syre som perklorsyrei Det anvendes et bad av vanlig kjent utforelse for elektrolytisk påfbring av iridium, idet nevnte bad inneholdt en løsning av bromiridsyre som inneholdt 2 g iridium pr. liter. Hvis et sådant bad bibeholdes på: 75°C i 2' timer avsettes et bunnfall som inneholder omtrent 1/6 av det foreliggende iridium. Denne ulempe overvinnes fullstendig kvis det tilsettes perklorsyre i en mengde som tilsvarer en konsentrasju
i badet på 0,1 N.
Det samme resultat kan oppnås ved tilsetning av de bvrige angitte syrer, hvilket vil si svovelsyre, salpetersyre og bromsyre, i omtrent samme konsentrasjon.
EKSEMPEL 3.
Dette eksempel angår tilvirkning av en titanelektrode belagt med iridium samt dens anvendelse som anode. Det anvendes et bad som pr. liter inneholder 11 g av ammonium-bromoiridat (NH^-^IrBrg samt perklorsyre i en konsentrasjon på 0,1 h N. Dette bad bibeholdes på 70°C og elektrolysen utfores mellom en uloselig titananode dekket med et iridiumskikt og en katode som på forhånd er iridiumbelagt og tilvirket av en sandblåst titanplate. Strømtettheten beloper seg til 0,3 A/dm . Etter en times elektrolyse oppnås et tynt, godt vedheftende skikt av en tykkelse på 1,5 >nn. Den således iridiumbelagte elektrode anvendes som anode i en prove-elektrolysecelle for fremstilling av klor på grunnlag av en saltlbsning på 300 g/l og som bibeholdes ved en temperatur på 80°C. I denne tilstand var potensialet på denne elektrode i forhold til en kalomel-elektrode 1,12 volt ved en strbmtetthet på 30 A/dm 2.
EKSEMPEL k .
Dette eksempel har som formål å vise stabiliteten av badene i henhold til oppfinnelsen. Det foreliggende provebad er analogt med det angitte bad i eksempel 3? me<i den forskjell at den ' inneholdte iridiummengde i dette tilfelle tilsvarer 7?35 g Pr• liter av ammonium-bromoiridat. Dette bad bibeholdes i 2 timer på 75°C uten at det avsettes noe bunnfall. Det oppnås ved hjelp av cfette bad generelt sett på samme måte som i eksempel 3
et belegg av tykkelse 0,95>mved elektrolyse av en saltlbsning, hvilket utgjor et tilsvarende resultat som ble oppnådd ved belegget i det forutgående eksempel.
EKSEMPEL 5.
Dette eksempel angår et bad for platinabelegnlng, og som pr.
Ilter inneholder 0,75 g ammonium-bromoplatinat, samt er
tilfort 0,35 N pr. klorsyre. Det oppnås mot en sandblåst titan-
katode mens badet omrores, et tynt platinaskikt av tykkelse 0,<!>+5/Jmved 15 minutters elektrolyse med en strbmtetthet på 0,35
A/dm p. Denne elektrode utnyttes som anode ved fremstilling av
klor ut fra en saltlbsning på 30 g/l ved pH lik h og en temperatur på 90°C, oppviser et potensial på 1,09 volt i forhold til en kalomel-elektrode ved en strbmtetthet på 100 A/dm 2.
EKSEMPEL 6.
Dette eksempel angår en rekke tynne skikt av blandet platina og
iridium og i hvilke de to metaller foreligger i innbyrdes forskjellig forhold. Det tilvirkes to moderlbsninger av platina og iridium ved separat opplbsning av 1,5 g ammonium-bromoplatinat i 1 liter vann og 1,1 g ammonium-bromoiridiat likeledes i 1 liter vann. Ved hjelp av disse moderlbsninger tilvirkes 5 bad av innbyrdes forskjellig konsentrasjon i Pt og Ir, idet perklorsyre tilsettes i sådanne mengder at det i hvert bad oppnås en konsentrasjon på 0,2 N av denne syie. Det ble fortsatt med elektrolyse under omrbring av disse lbsninger ved en temperatur på 75°0, for påfbring av tynne metallskikt på 5 innbyrdes like sandblåste titanelektroder, anordnet somlatoder, idet potensialet for disse elektroder holdt seg på -0,2 volt i forhold til kalomelelektroden. I tabellen nedenfor er det angitt iridium-
og platina-innholdet i disse bad, de oppnådde skikttykkelser,
den prosentuelle iridiumandel i badene samt elektrodenes potensial i forhold til en kalomelelektrode, når de anvendes som anoder i en elektrolysecelle med saltlbsning på 300-g pr. liter av NaCl, idet strømtettheten ble holdt på 100 A/dm 2.
De angitte elektrodepotensialer i forhold til kalomelelektroden viser at overspenningene er meget lave og at de fremstilte elektroder av denne grunn er vel egnet for elektrolyse av koksaltlosning.
EKSEMPEL 7.
Dette eksempel angår kontinuerlig tilvirkning av en serie på
12 elektroder av industrielle dimensjoner og beregnet for elektrolyse av koksaltlosning for fremstilling av klor, og hvorved det sokes å oppnå tynne metallskikt hvori iridiumandelen er stort sett omkring 20%. Innledningsvis fremstilles adskilte losninger med forskjellige konsentrasjoner av henholdsvis platina og • iridium på folgende måte: O<pp>losning A av platina - Det opploses hho g ammonium-bromoplatinat-i 20 liter vann i nærvær av en sterkt kationisk harpiks i syreform. Derpå fores denne losning gjennom en kolonne av samme harpiks for best. mulig utskillelse av ionene NH^+. Etter rensingen i kolonnen ble det endelig oppnådd 23 liter opplosning med 5?2 g platina pr. liter, hvilket ved destillasjon under redusert trykk ble konsentrert til 60 g platina pr. liter.
Opplosning B av iridium - På samme måte som for opplosning A tilvirkes på grunnlag av 120 gram ammonium-bromoiridat-ved opplosning i vann og derpå utskilling av ionene NH^<+>, 3 liter opplosning med 10,5 g iridium pr. liter, og hvis konsentrasjon ble dket til 33 g iridium pr. liter.
Den opprinnelig anvendte opplosning for elektrolyse ble oppnådd
ved til 10 liter å tilsette en blanding av 100 ml av oppløsningen A, 125 ml av opplbsningen B og 100 ml av en lbsning på 10 N
av perklorsyre. Forholdet Ir/Pt for den dannete opplosning er 0,7, hvilket stort sett tilsvarer betingelsene for å utfore en elektrolyse som resulterer i et iridiuminnhold på 20% i de fremstilte tynne metallskikt.
Hver påfbringsprosess ble utfort ved 75°C med en kraftig luft-
tilfbrsel som sikret fjerning av det dannete brom på anoden ved oksydasjon av ionene Br- samtidig med omrbring og homogenisering av badet. Strbmstyrken var 1,4 A/dm 2, og elektrolysetiden var omkring 5 minutter, hvilket gjorde det mulig å oppnå en tykkelse av platina/iridium-skiktet omkring 0,5 pm, tilsvarende en metall-
mengde på 10 g.
Etter hver elektrolyseoperasjon ble denne mengde påfbrt platina/
iridium likesom det fordampede vann stort sett erstattet ved tilfbrsel av 200 ml av en lbsning, uått fra en sammenblanding av 1850 ml av lbsning A og 850 ml av lbsning B. Iridiuminnholdet i de påfbrte tynne skikt viste seg å være tilstrekkelig homogent og varierer mellom 18 og 21%. De således fremstilte anoder arbeidet tilfredsstillende i en diafragma-celle for industriell elektrolyse for fremstilling av klor og kaustisk soda.
Claims (8)
1. Fremgangsmåte ved elektrolytisk påfbring av platina og/eller
iridium på en gjenstand neddykket i et elektrolysebad,
karakterisert ved at det anvendes et bad
som er sammensatt på grunnlag av forbindelser som i vandig opplosning gir anioner av bromoplatinat og/eller bromoiridiat, sammen med
minst en av fblgende syrer: salpetersyre, svovelsyre, perklorsyre
og bromsyre, idet badets konsentrasjon av platina og/eller iridium ligger mellom 0,1 og 60 gram pr. liter og nevnte syrer foreligger i en mengde på mellom 0,05 og 1 ekvivalent pr. liter av badet.
2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at det anvendes et bad som også er tilsatt en bestanddel som omfatter ammonium-ioner og/eller kationer av ett eller flere alkalimetaller.
3. Fremgangsmåte som angitt i krav 1 eller 2, karakterisert ved at dannede bromidioner elimineres periodisk eller kontinuerlig.
4. Fremgangsmåte som. angitt i krav 3, karakterisert ved at elimineringen av bromid-ionene finner sted ved kjemisk eller elektrokjemisk oksydasjon og gasstilfbrsel.
5. Fremgangsmåte som angitt i krav 1-4, karakterisert ved at kationene elimineres periodisk eller kontinuerlig.
6. Fremgangsmåte som angitt i krav 5, karakterisert ved at nevnte eliminering av kationene finner sted ved ioneutveksling i forbindelse med harpikser.
7. Bad for elektrolytisk påfbring av platina og/eller iridium på en gjenstaid neddykket i et bad under ut f brei se av den fremgangsmåte som er angitt i krav 1-6, karakterisert ved at badet er dannet på grunnlag av forbindelser som i vandig opplosning gir anioner av bromoplatinat og/eller bromoiridat, sammen med minst en av fblgende
syrer: salpetersyre, svovelsyre, perklorsyre og bromsyre^' idet badets konsentrasjon av platina og/eller iridium ligger mellom 0,1 og 60 gram pr. liter og nevnte syrer foreligger i en mengde på mellom 0,05 og 1 ekvivalent pr. liter av badet.
8. Bad som angitt i krav 7,
karakterisert ved at det også inneholder ammoniumioner og/eller kationer av et eller flere alkalimetaller.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7143265A FR2161825B1 (no) | 1971-12-02 | 1971-12-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO133372B true NO133372B (no) | 1976-01-12 |
NO133372C NO133372C (no) | 1976-04-21 |
Family
ID=9086794
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO4395/72A NO133372C (no) | 1971-12-02 | 1972-11-30 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3841980A (no) |
JP (1) | JPS5332345B2 (no) |
AT (1) | AT324062B (no) |
BE (1) | BE792066A (no) |
BR (1) | BR7208440D0 (no) |
CA (1) | CA1015689A (no) |
CH (1) | CH552681A (no) |
FR (1) | FR2161825B1 (no) |
GB (1) | GB1399500A (no) |
IT (1) | IT973814B (no) |
NL (1) | NL7215792A (no) |
NO (1) | NO133372C (no) |
SE (1) | SE398895B (no) |
SU (1) | SU541441A3 (no) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5811000B2 (ja) * | 1977-03-31 | 1983-02-28 | 新日本製鐵株式会社 | 水溶液の電解に用いる不溶性陽極の製造方法 |
US6306277B1 (en) | 2000-01-14 | 2001-10-23 | Honeywell International Inc. | Platinum electrolyte for use in electrolytic plating |
RU2530963C2 (ru) * | 2013-01-10 | 2014-10-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" (ТГУ) | Электролит для электрохимического осаждения иридия на арсенид галлия и способ его приготовления |
JP7052130B1 (ja) * | 2021-08-17 | 2022-04-11 | 田中貴金属工業株式会社 | 塩素発生用電極およびその製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL127936C (no) * | 1964-03-04 |
-
1971
- 1971-12-02 FR FR7143265A patent/FR2161825B1/fr not_active Expired
-
1972
- 1972-11-22 NL NL7215792A patent/NL7215792A/xx not_active Application Discontinuation
- 1972-11-29 BE BE792066D patent/BE792066A/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-11-30 NO NO4395/72A patent/NO133372C/no unknown
- 1972-11-30 SE SE7215615A patent/SE398895B/xx unknown
- 1972-11-30 IT IT54386/72A patent/IT973814B/it active
- 1972-11-30 BR BR8440/72A patent/BR7208440D0/pt unknown
- 1972-11-30 US US00310884A patent/US3841980A/en not_active Expired - Lifetime
- 1972-11-30 AT AT1018772A patent/AT324062B/de not_active IP Right Cessation
- 1972-12-01 CH CH1756472A patent/CH552681A/fr not_active IP Right Cessation
- 1972-12-01 GB GB5565172A patent/GB1399500A/en not_active Expired
- 1972-12-01 JP JP11998772A patent/JPS5332345B2/ja not_active Expired
- 1972-12-01 CA CA158,427A patent/CA1015689A/en not_active Expired
- 1972-12-01 SU SU1858839A patent/SU541441A3/ru active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH552681A (fr) | 1974-08-15 |
GB1399500A (en) | 1975-07-02 |
JPS5332345B2 (no) | 1978-09-07 |
IT973814B (it) | 1974-06-10 |
DE2258913B2 (de) | 1976-04-08 |
NO133372C (no) | 1976-04-21 |
FR2161825B1 (no) | 1974-05-31 |
CA1015689A (en) | 1977-08-16 |
SE398895B (sv) | 1978-01-23 |
DE2258913A1 (de) | 1973-06-14 |
BR7208440D0 (pt) | 1973-09-20 |
AT324062B (de) | 1975-08-11 |
JPS4865128A (no) | 1973-09-08 |
FR2161825A1 (no) | 1973-07-13 |
NL7215792A (no) | 1973-06-05 |
US3841980A (en) | 1974-10-15 |
BE792066A (fr) | 1973-05-29 |
SU541441A3 (ru) | 1976-12-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Kraft et al. | Electrochemical water disinfection Part I: Hypochlorite production from very dilute chloride solutions | |
KR890002258B1 (ko) | 전해용 전극 | |
US5900127A (en) | Electrode for electrolysis and electrolytic cell using the electrode | |
US5560815A (en) | Electrolytic chromium plating method using trivalent chromium | |
EP0768390B1 (en) | Electrodes and methods of preparation thereof | |
EP2079858B1 (en) | Anode for electrolysis | |
US3428544A (en) | Electrode coated with activated platinum group coatings | |
US4345981A (en) | Anodically polarized surface for biofouling and scale control | |
BRPI0818104B1 (pt) | processo de produção de clorato de metal álcali | |
CA1153982A (en) | Electrolytic production of alkali metal hypohalite and apparatus therefor | |
CN106687416B (zh) | 用于电解氯化工艺的电极和其制造方法 | |
US4297195A (en) | Electrode for use in electrolysis and process for production thereof | |
NO160933B (no) | Elektrode for elektrokjemiske prosesser, elektrokjemisk celle og fremgangsmaate til fremstilling av en elektrode tilbruk i en elektrolysecelle. | |
NO322413B1 (no) | Katode til bruk ved elektrolyse av vandige opplosninger, anvendelse av denne samt fremgangsmate for fremstilling av klor og alkalimetallhydroksid. | |
CN111670268B (zh) | 用于电解氯化工艺的电极 | |
JPS60100690A (ja) | 水酸化第四アンモニウムの製造方法 | |
US4160704A (en) | In situ reduction of electrode overvoltage | |
US4213843A (en) | Electrolysis electrodes and method of making same | |
US3250691A (en) | Electrolytic process of decomposing an alkali metal chloride | |
NO133372B (no) | ||
Lačnjevac et al. | Ti substrate coated with composite Cr–MoO2 coatings as highly selective cathode materials in hypochlorite production | |
US4292159A (en) | Cell having in situ reduction of electrode overvoltage | |
NO322407B1 (no) | Spesifikk katode som kan benyttes for fremstilling av alkalimetall-klorat, fremgangsmate for fremstilling derav samt anvendelse av katoden. | |
US4038170A (en) | Anode containing lead dioxide deposit and process of production | |
US3592750A (en) | Electrodes for use in aqueous alkali metal chloride electrolytes |