NL8203757A

NL8203757A - Samengesteld geelektroplateerd voorwerp en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.

Info

Publication number: NL8203757A
Application number: NL8203757A
Authority: NL
Original assignee: Occidental Chem Co
Priority date: 1981-09-28
Filing date: 1982-09-28
Publication date: 1983-04-18
Also published as: DE3230805A1; FR2513664B1; SE8204608L; GB2106543B; CA1212921A; AU8705182A; IT8249169A0; BE894511A; PT75431A; FR2513664A1; ES515837A0; PT75431B; GB2106543A; SE8204608D0; BR8205620A; US4411961A; AU545695B2; IT1149363B; ES8400502A1; JPS5867887A

Description

i .

i VO 3640

Samengesteld geelektroplateerd voorwerp en verkvijze voor het vervaar-digen daarvan,

De onderhavige uitvinding heeft in brede zin betrekking op samengestelde geelektroplateerde voorwerpen en op een verkvijze voor het vervaardigen van dergelijke. voorwerpen die voorzien zijn van een samengestelde eiektroplatering daarop welke bescherming tegen corrosie en 5 een decoratieve afverking aan het substraat geeft. Meer in het bijzon-der heeft de onderhavige uitvinding betrekking op een verdere verbete-ring van een samengesteld nikkel-ijzer geelektroplateerd voorwerp en verkvijze zoals beschreven in het Amerikaanse octrooischrift 3.994.694. Volgens het voornoeode Amerikaanse octrooischrift worden een verbeterde 10 bescherming tegen corrosie, duurzaamheid en uiterlijk gerealiseerd door op een geleidend substraat langs elektrolytische weg meerdere lagen af te zetten van een nikkel-ijzerlegering, waarbij de binnenste laag een betrekkelijk hoog ijzergehalte heeft tervijl de aanliggende buitenste laag een relatief lager ijzergehalte heeft. Volgens een voorkeursuitvoe-15 ringsvorm van genoemd Amerikaans octrooischrift wordt een nikkelhoudende platering aangebracht op de buitenste platering van een nikkel-ijzer-legering, waarover een decoratieve chroomplatering of equivalente decoratieve platering wordt aangebracht.

Hoevel de samengestelde geelektroplateerde structuur van nikkel-20 ijzer volgens genoemd Amerikaans octrooischrift heeft voorzien in een aanzienlijk verbeterde bestandheid tegen corrosie en duurzaamheid bij blootstelling aan de buitenlucht tijdens het gebruik, zoals de gebruiks-omstandigheden van auto's in de vorm van decoratieve afwerkingscomponen-ten, is door het opleggen vmnog stringentere specificaties voor corro-25 sievastheid en schoonheidsfouten de behoefte ontstaan voor nog verdere verheteringen in de eigenschappen van dergelijke samengestelde nikkel-ij zerelektroplateringen.

Volgens. de onderhavige uitvinding wordt een samengesteld geelektroplateerd voorwerp en een werkwijze voor het vervaardigen van een der- 8203757 - 2 - « » gelijk voorwerp verschaft, welke in het bijzonder bruikbaar is voor de bescherming van basismetalen zoals staal, koper, messing, aluminium en zink matrijsgietsels die tijdens gebruik aan de buitenlucht bloot-. staan, in het bijzonder aan autogebruiksomstandigheden. Gunstige resul-5 taten en bescherming tegen corrosie worden ook gerealiseerd door de toe-passing van dergelijke samengestelde elektrolytische afzettingen op kunststofsubstraten die aan gesohikte voorbehandelingen overeenkomstig welbekende technieken zijn onderworpen teneinde een elektrisch gelei-dend oppervlak zoals een koperlaag te verschaffen waardoor het kunst-10 stofsubstraat ontvankelijk wordt gemaakt voor elektroplatering met nikkel. Kunststoffen die geleidende vulstoffen omvatten om ze plateer-baar te maken, kunnen eveneens op voordelige wijze overeenkomstig de onderhavige uitvinding worden behandeld. Typerende voorbeelden van kunststoftoaterialen die ook geelektroplateerd kunnen worden, zijn ABS, 15 polyalkeen, polyvinylchloride, en fenol-formaldehydpolymeren. Het aan- brengen van een dergelijke samengestelde elektroplatering op kunststofsubstraten vermindert sterk of elimineert schoonheidsfouten zoals "groene" corrosievlekken, verkregen door een corrosieve aantasting van een laag of basislaag op basis van koper op het kunststofsubstraat.

20 Het samengestelde geelektroplateerde voorwerp en de werkwijze volgens de onderhavige uitvinding vers chaffen een nog verdere verbete-ring in de bescherming tegen corrosie en de duurzaamheid van geelektroplateerde substraten, terwijl de voordelen van lagere kosten door het gebruik van nikkel-ijzerlegeringen als primaire elektrolytische afzet-25 tingen in vergelijking tot duurdere elektrolytische afzettingen uit vrijwel zuiver nikkel of samengestelde, met nikkel geelektroplateerde voorwerpen overeenkomstig samenstellingen en werkwijzen zoals beschre-ven in de Amerikaanse octrooischriften 3.090.733 en 3.703.^-^8 worden behouden.

30 De voordelen van de onderhavige uitvinding worden gerealiseerd door een voorwerp met een elektrisch geleidend oppervlak, waarop een samengestelde elektroplatering is afgezet in de vorm van meerdere lagen die elk stevig aan de naastliggende laag zijn gebonden. De samengestelde elektroplatering omvat een eerste of binnenste laag van een nikkel-35 ijzerlegering die een gemiddeld ijzergehalte van ongeveer 15 tot onge- 8203757 - 3 - veer 50 gev.# heeft; een tveede of tussengelegen nikkelhoudende laag met een zvavelgehalte van ongeveer 0,02 tot ongeveer 0,5 gew.$ en een derde of buitenste laag uit een nikkel-ij zerlegering die ongeveer 5 tot ongeveer 19 gev.$ ijzer maar minder ijzer dan de eerste laag bevat.

5 Desgewenst wordt een chroomplatering of overtrek ("flash”) elektroly- tisch afgezet over de buitenste laag van nikkel-ijzerlegering. Bij voor-keur vordt een nikkelhoudende laag elektrolytisch afgezet over de derde of buitenste nikkel-ijzerlaag van een. type vaardoor microscopische dis-continurteiten vorden veroorzaakt zoals microporien of microscheuren 10 in de bovenliggende buitenste chroomplatering of overtrek.

Volgens de verkvij ze-aspecten van de onderhavige uitvinding, vordt de elektrolytische afzetting van meerdere plateringen uitgevoerd aan. een lichaam dat voorzien is van een elektrisch geleidend oppervlak, op een beheerste vijze teneinde een samengesteld geelektroplateerd voor-15 verp te verkrijgen dat meerdere lagen van een nikkel-ijzerlegering met beheerste samenstelling omvat, gescheiden door een tussengelegen nikkelhoudende laag met'een beheerst zvavelgehalte, en desgewenst door een buitenste decoratieve chroomlaag alleen of in verdere combinatie met een daaronder liggende nikkelhoudende platering die karakteristiek mi-20 croscopische discontinulteiten in de buitenste chroomplatering veroorzaakt .

Andere voordelen van de onderhavige uitvinding zullen duidelijk vorden bij lezing van de beschrijving van de voorkeursuitvoeringsvormen, in samenhang met de gegeven. .specifieke voorbeelden.

25 Overeenkomstig de praktijk van de onderhavige uitvinding wordt een samengesteld geelektroplateerd voorverp vervaardigd met een eerste of binnenste platering uit een nikkel-ijzerlegering, een tveede of tussengelegen laag van een nikkelhoudende platering met een beheerst zvavelgehalte an een derde of buitenste platering uit een nikkel-ijzerlege-30 * ring met een ijzergehalte dat lager is dan dat van de eerste laag en desgewenst een decoratieve elektrolytische afzetting van chroom of een samengestelde nikkel-chroomafverking teneinde een gevenst decoratief uiteriijk aan het voorverp te geven. Hoevel de uitvinding hier beschre-ven is onder specifieke vervijzing naar het gebruik van twee platerin-35 gen van nikkel-ijzerlegering, gescheiden door een tussengelegen, langs 8203757 < * - Λ - elektrolytische veg verkregen nikkelhoudende afzetting, zal het duide-. lijk zijn dat drie of meer van dergelijke lagen ran nikkel-ijzarlegering ereneens voordelig kunnen worden toegepast, elk van de naastgelegen nikkel-ijzerlegering gescheiden door een tussengelegen nikkelhoudende 5 laag en waarbij het ijzergehalte van de naast elkaar gelegen lagen pro-gressief daalt vanaf de hinnenste nikkel-ijzerlaag tot aan de buitenste nikkel-ijzerlaag. Gewoonlijk zijn slechts twee nikkel-ijzerlagen nodig om de vereiste bescherming tegen corrosie te realiseren en het gebruik van drie of meer van dergelijke lagen is om economische redenen commer-10 cieel ongewenst.

De dikte van de eventuele lagen van de samengestelde elektropla-tering kan in het algemeen worden gevarieerd met het oog op de gebruiks-omstandigheden waaraan het voorwerp tijdens zijn eindtoepassing onder-worpen zal zijn..De bovenstaand beschreven dikten geven in het algemeen 15 bevredigende duurzaaaheid en weerstand tegen schoonheidsfouten over een breed gebied van gebruiksomstandigheden, verder rekening houdend met de kosten en de doelmatigheid van de verwerking.

De lagen van nikkel-ijzerlegering, omvattende de eerste en derde laag van het samengestelde geelektroplateerde voorwerp,·kunnen worden 20 afgezet uit elektroplateringsbaden, die nikkel- en ijzerzouten van alle bekende of in de handel toegepaste typen samenstellingen beratten. Type-rende voorbeelden van dergelijke elektrolyten zijn die welke beschreven worden in de Amerikaanse octrooischriften 3.35^.059; 3.795.591; 3.806Λ29; 3.812.566; 3.878.067; 3.97U.0UU; 3.99^-69U; U.002.5U3; 25 i4-.O89.75U en U.179.3U3 waarvan de inhoud hier door verwijzing iribegre- pen moet worden geacht. Elektroplateringsbaden van de in bovengenoemde Amerikaanse octrooischriften beschreven typen bevatten nikkel-en ijzer-ionen in een hoeveelheid waardoor een afzetting van een nikkel-ijzerlegering met de gewenste samenstelling wordt verkregen, welke ionen door 30 middel van in het bad oplosbare en daarmee verenigbare zouten zoals sulfaten en halogenidezouten worden gexntroduceerd. Dergelijke baden bevatten verder typerend een of een mengsel van complexeermiddelen, een buffermiddel zoals boorzunr en/of natriumacetaat, een primair of dragend glansgevend middel omvattende sulfo-zuurstof en/of zwaveldragen-35 de verbindingen in combinatie met secundaire glansgevende middelen ten- 8203757 * * .-5- einde de vereiste vlakheid (’’leveling") en glans van de legeringsafzet-ting te realiseren, en vateretofionen om een zuur medium te verkrijgen vaarvan de pH gevoonlijk ligt tussen ongeveer 2 en ongeveer 5,5·

De elektrolyten voor nikkel-ijzerlegeringen laat men gevoonlijk 5 verken bij een temperatuur van ongeveer ko tot ongeveer 83°C bij een gemiddelde stroomdichtheid van ongeveer 5^ tot ongeveer 1076 A/m en gedurende een voldoende tijd om de vereiste dikte van de platering langs * elektrolytische weg af te zetten. De mate vaarin de elektrolyt tijdens de elektrolytische afzetting vordt geagiteerd belnvloedt eveneens de 10 hoeveelheid ijzer die in de platering met grotere agitatie vordt opgeno-men, vaarbij gevoonlijk elektrolytische afzettingen met een hoger ijzergehalte vorden verkregen vanneer luchtagitatie wordt gebruikt. Bij zon-der voordelige resultaten vorden bereikt vanneer elektrolyten en proces-parameters vorden gebruikt zoals beschreven in de Amerikaanse octrooi-15 schriften 3.806.^29; 3.97^.0¼ βηΛ.179.3^3, terwijl bij voorkeur verier een reducerend saccharide aanvesig is om de ij zer(III)-ionenconcen-tratie op een gevenst minimaal niveau in het bad te handhaven.

De elektrolytische afzettingsstap voor het afzetten van de eerste of binnenste laag van nikkel-ijzerlegering vordt uitgevoerd teneinde 20 een platering te verkrijgen met een gemiddeld ijzergehalte van ongeveer 15 tot 50 gev./S en bij voorkeur van ongeveer 25 tot ongeveer 35 gev.$.

De dikte van de eerstelaag kan gevoonlijk varieren van ongeveer 5 tot -.. ongeveer 51 ym vaarbij* dikten van ongeveer 12,7 tot ongeveer 25,^ ym voor de meeste toepassingen de voorkeur hebben. Het zwavelgehalte van 25 de eerste laag zal typerend vari§ren van ongeveer 0,01 tot ongeveer 0,1 gev./£.

•De derde of buitenste nikkel-ij zerlaag vordt elektrolytisch afge-zet over de tveede tussengelegen laag teneinde een ijzergehalte te verkrijgen van ongeveer 5 tot ongeveer 19 gev.$ en bij voorkeur van onge-30 veer 10 tot ongeveer 1¾ gev.$. In elk geval is het ijzergehalte van de derde laag lager dan dat van de eerste laag, gevoonlijk tenminste 2% lager dan dat van de eerste laag, bij voorkeur 5% lager dan dat van de eerste laag en typerend ongeveer de helft van het ijzergehalte van de eerste laag. De derde laag vordt elektrolytisch afgezet in een dikte 35 die vrijvel gelijk is aan die van de eerste laag, d.v.z. ongeveer 5 tot 8203757 «Γ λ Μ ^ — ongeveer 51 ψη. en bij voorkeur ongeveer 7,6 tot. ongeveer 25,¾ ym. Het zwavelgehalte -van de derde nikkel-ij zerlaag is ongeveer gelijk aan dat van de eerste laag en bevat bij voorkeur minder zwavel dan de tussen-gelegen tweede laag.

5 De tweede of tussengelegen laag is bechtend gelegen tussen de eerste en derde nikkel-ijzerlagen en omvat een nikkelhoudende laag, die een beheerst zwavelgebalte bevat van ongeveer 0,02 tot ongeveer 0,5 · gew.%, bij voorkeur ongeveer 0,1 tot ongeveer 0,2 gew.%. De elektroly-tiscbe afzetting van de tweede laag wordt zodanig uitgevoerd dat een 10 dikte van de platering wordt verkregen van ongeveer 0,127 tot ongeveer 5 ym, en bij voorkeur van ongeveer 1,27 tot ongeveer 2,5¾ you De afzetting van de tweede of tussengelegen laag kan worden uitgevoerd onder toepassing van alle bekende nikkelelektrolyten, waaronder een Watts-type nikkelplateringsbad, een fluoroboraat, een boog chloride, een sul-15 famaatnikkelelektrolyt en dergelijke. Hoewel de tweede nikkelboudende laag bij voorkeur iiit vrijwel zuiver nikkel bestaat dat bet vereiste zwavelgebalte bevat, is gebleken, dat de elektrolyt voor bet afzetten van de tweede· laag tijdens zijn gebruik in toenemende mate verontreinigd kan worden met ijzer uit de voorgaande nikkel-ijzerboudende elektrolyt, 20 in bet bijzonder wanneer tussendoor niet met water wordt gespoeld, bet-welk leidt tot een progressieve stijging van bet ijzerpercentage in de tweede platering. Gebaseerd op tot nu toe uitgevoerde proeven is gevon-den dat de tweede laag ijzer in de gatering kan bevatten in boeveelhe-den tot ongeveer 10 gev.% zonder enige significante nadelige invloed 25 op de bescherming tegen corrosie en de fysische eigenschappen van de samengestelde elektroplatering.

De bebeerste hoeveelbeid zwavel wordt in de tweede nikkelboudende laag gexntroduceerd door willekeurig welke van een verscbeidenbeid van zwavelverbindingen van de gewoonlijk in glanzende nikkelplaterings-30 baden toegepaste typen te gebruiken. Gescbikte zwavelverbindingen die bij voorkeur in d.e glanzende nikkelbaden die voor toepassing gescbikt zijn, worden gebruikt, omvatten natriumallylsulfonaat, natriumstyreen-sulfonaat, saccharine, benzeensulfonamide, naftaleentrisulfonzuur, ben-zeensulfonzuur en dergelijke. Daarenboven omvatten de zwavelverbindin-35 gen die gescbikt gebruikt kunnen worden of combinaties daarvan, in de 8203757 - -7 - ♦ * elektrolyt voor bet afzetten van de tveede laag, de zvavelverbindingen die bescbreven zijn in de Amerikaanse octrooischrift en 3.090.733; 3.795.591; en de op 6 juli 1981 ingediende Amerikaanse octrooiaanvrage N0.28O.6U3. De iriboud van genoemde Amerikaanse octrooiliteratuur dient 5 bierin door vervij zing inbegrepen te vorden geacht. Het Amerikaanse octrooischrift 3.090.733 openbaart bet gebruik van verscbeidene sulfi-naten teneinde bet vereiste zvavelgehalte te geven aan een tussengelegen nikkellaag, zoals natriumbenzeensulfinaat, natriumtolueensulfinaat, natriumnaftaleensulfinaat, natriumchlorobenzeensulfinaat, natrliumbromo-10 benzeensulfinaat en dergelijke, Het Amerikaanse octrooischrift 3.703.UU8 openbaart bet gebruik ran thiosulfonaten van nitrilen of amiden als zvsvelbron in de elektrolyt voor bet afzetten van een tussengelegen nikkellaag. De genoemde Amerikaanse octrooiaanvrage openbaart bet gebruik van thiazoolverbindingen alleen of in combinatie met andere zva-13 velverbindingen teneinde een tussengelegen nikkelafzetting te verkrij- gen die bet vereiste zvavelgehalt e berat. Tot dergelijke thiazoolverbin-dingen behoren 2-aminothiazool, 2-amino-U-methyl-thiazool, 2-amino-U,5-dimetbyltbiazool, 2-mercaptothiazoline, 2-amino-5-bromothiazoolmonohydro-bromide, 2-amino-5-nitrothiazool en dergelijke.

20 De concentratie van de gebruikte zvsvelverbinding of mengsel van zvavelverbindingen in de elektrolyt vordt zodanig beheerst, dat een • zvavelgehalte in de tveede laag binnen de bovenstaand vermelde trajec-ten vordt verkregen. De specifieke concentratie zal varieren afhankelijk van de specifieke toegepaste verbinding of verbindingen en vordt over-25 eenkomstig de conventionele praktijk gevarieerd om de gevenste zvavel-concentratie te verschaffen. Wanneer een tbiazooladditief vordt ge-bruikt, kan typerend een concentratie van ongeveer 0,01 tot ongeveer Q,U g/dm^ vorden gebruikt om de vereiste zvavelconcentratie te bereiken.

De samengestelde elektroplatering vordt typerend aangebracht op 30 een elektriscb geleidend oppervlak met een basislaag van koper, messing, nikkel, kobalt of een nikkel-ijzerlegering.

De samengestelde elektroplatering omvat desgevenst, maar bij ' voorkeur verier een buitenste cbroomplatering die continu of micro-discontinu kan zijn en typerend een decoratieve platering kan omvatten, 35 afgeleid van conventionele drievaardige of zesvaardige chroomelektroly- 8203757 * * - 8 - ten. De buitenste chroomafzetting kan in dikte varieren van ongeveer 0,05 tot ongeveer 1,27 ym waarbij dikten van ongeveer 0,25 tot ongeveer 0,51 ym de voorkeur hebben. Bi j voorkeur bevat de buitenste chroomplatering of meervoudige chroomplateringen microscopische discon-5 tinuiteiten die generiek kunnen worden gedefinieerd als een platering met een veelvoud van microscopische gaatjes. Binnen deze generieke defi-nitie valt een microporeuze platering waarin de microscopische gaatjes porien zijn die in het algemeen varieren van ongeveer 9300 tot 77.500 per cm.. Daarenboven omvat de definitie een platering met microscheuren 10 waarin microscopische gaatjes of scheuren aanwezig zijn, varierend van' ongeveer 118 tot ongeveer 787 scheuren per lineaire cm.

Een dergelijke microdiscontinue chroomplatering kan. voordelig vorden verkregen door een vierde nikkelhoudende laag aan te brengen tussen de derde nikkel-ijzerlaag· en de buitenste of vijfde chroomplate-15 ring, welke microscopisch fijne anorganische deeltjes omvat. De micro-discontinulteiten in de chroomplatering kunnen ook worden verkregen door een vierde nikkellaag in een zodanige toestand langs elektrolyse af te zetten, dat daarin microscheuren ontstaan zodat de daaropvolgend afgezette chroomlaag met microscheuren zal worden geplateerd zoals 20 vollediger beschreven is in het Amerikaanse octrooischrift 3.761.303, waarvan de inhoud hier door verwijzing opgenomen moet worden geacht.

Aan de andere kant kunnen microdiscontinulteiten worden gerealiseerd door een vierde nikkelhoudende laag, die langs elektrochemische weg wordt afgezet op een zodanige wijze, dat in de vierde laag tijdens of 25 na de chroomafzetting microscheuren worden gevormd waardoor een chroomlaag met microscheuren wordt gevormd. De bovenstaande procedure is vollediger beschreven in het Amerikaanse octrooischrift 3.563.86¼ waarvan de inhoud hier door verwijzing inbegrepen moet worden geacht.

De verbeterde bescherming tegen corrosie en weerstand tegen 30 schaonheidsfouten van de samengestelde elektroplatering volgens de uit-vinding is aangetoond door proeven, waaronder de "Copper-Accelerated Acetic Acid-Salt Spray (Fog) Testing", verder aangeduid als de "CASS" Test, ASTM aanduiding B 368-68, en de "Corrodkote" procedure, AiTSI/ASTM B 38Ο-65. Teneinde een 100/5 waterdoorbraakvrij oppervlak te verschaffen 35 worden voordat de monsters aan de OASS-proef worden onderworpen, de 8203757 ♦ » - 9 - samengestelde geelektroplateerde panelen volgens de onderhavige uitvinding eerst onderworpen aan een basische reinigingsbehandeling om alle oppervlakteverontreiniging te verwijderen, gevolgd door reiniging met een verzadigde suspensie die 10 g magnesiumoxydepoeder bevat, over-5 eenkomstig de voorbereidingsprocedure die aangegeven is in de beschrij-ving van de proef, De specificatie door vele autogebruikers van met chroom geplateerde delen die gebruikt worden voor buitenafwerking, ver-eist dat de aan de CASS-proef onderworpen proefmonsters 22 uren door-stonden, hetwelk gecorreleerd kan worden met 1 tot 2 jaar blootstelling 10 in. de noordelijke stadsomgevingen. Deze specificatie is nu verhoogd tot kk urea, equivalent aan ongeveer 2 tot ^ jaren blootstelling in soortgelijke omgevingen. Verdere verhogingen in een dergelijke specificatie worden in de toekomst verwacht en bet samengestelde geelektropla-teerde voorwerp en de werkwijze volgens de onderhavige uitvinding ver-15 scbaffea een bescherming tegen.corrosie en een weerstand tegen schoon-heidsfouten die aan de eisen van de urea CASS-proef voldoen.

0m de onderhavige uitvinding verder toe te lichten, worden de volgende voorbeelden gegeven. Het zal duidelijk zijn dat de voorbeelden slechts ter toelichting worden gegeven en niet de omvang van de onder-20 havige uitvinding beogen te beperken.

In elk van de volgende voorbeelden werden stalen proefpanelen elektrolytisch geplateerd met een samengestelde elektrolytische afzet-ting en door de CASS-proef geevalueerd op zowel bescherming tegen corrosie als weerstand tegen schoonheidsfouten. De proefpanelen omvatten 25 een rechtboekig stalen paneel met een breedte van 10 cm en een lengte van 15 cm, dat zodanig gedeformeerd is, dat een zich in de lengterich-ting uitstrekkende halfcirkelvormige ribbe naast een zijrand daarvan en een onder een hoek gebogen gedeelte tussen de tegenover gelegen rand worden verkregen teneinde gebieden te verschaffen met lage, tussen-30 gelegen en hoge stroomdichtheid. Het gebied met tussengelegen stroom-dichtheid of controlegebied heeft een dikte van de platering van ongeveer 75% van de platering in het gebied met hoge stroomdichtheid (HCD) en is 200$ van de dikte van het gebied van lage stroomdichtheid (LCD).

Elk proefpaneel wordt eerst elektrolytisch geplateerd teneinde een koper-35 basislaag te verschaffen met een dikte van 12,7 ym in het controlegebied 8203757 * » - 10 - .waarna de over-hechtende elektroplateringen vorden afgezet op een wijze zoals later zal vorden beschreven.

De samenstelling en bedrijfsomstandigheden van de verscheidene bij het vervaardigen van de samengestelde geelektroplateerde monsters 5 toegepaste elektrolyten overeenkomstig de volgende voorbeelden, zijn als volgb: A. Nikkel-i.jzer (32% i.jzer) Νχ50^.6Η20 l6l g/dm3

NiCl2.6H20 105 g/dm3 10 H3B03 50 g/dm3

FeSO^.^O:: 3M g/dm3 natriumgluconaat 19,0 g/dm^ isoascorbinezuur ^,7 g/dm3 3 natriums ac charine 3,7 g/dm 15 natriumallylsulfonaat ^,8 g/dm secondair glansgevend middel (a) 0,125 vol.% pH 3,2 agitatie lucht 2 kathodestroomdichtheid A/m

20 temperatuur 5^°C

B. Nikkel-i.jzer (lh% i,jzer)

NiSOj^.SHgO 155 g/dm3

HiCl2.6H20 105 g/dm3 H3B03 50 g/dm3 25 FeSO^.THgO 28,5 g/dm3 wij nsteenzuur 12,8 g/dm3 3 lactose ca. 2,5 g/dm 2 isoascorbinezuur . ca. 3,5 g/dm Λ natriumsaccharine 3,7 g/dm-3 2 30 natriumallylsulfonaat g/dm secondair glansgevend middel (a) 0,250 vol.% 2 natriumlaurylethersulfaat ca. 500 mg/dm .

pH 3,3 agitatie geen 35 kathodestroomdichtheid 377 A/m2

temperatuur 57°C

8203757 --11- V * C. Nikkel’basislaag met niet geleideade deelt.jes

HiSO^.^HgO 312 g/dm3 HC12.6S20 63 g/dm3 - H,B0 g/dm3 3 i 3 5 natriumsaccharine 2,2 g/dmύ q natriumallylsulfonaat ^,0 g/dm·3 secondair glansgevend middel (b) 0,150 vol.%

O

Si0_ vaste stoffen ^ g/dnr aluminiumhydroxyde 35 mg/dm

10 pH 3,T

agitatie lucht 2 kathodestroomdichtheid Wk A/m

temperatuur 63°C

D. flikkelbasislaag met microscheuren 15 . HiSO^^HgO 62 g/dm3

NiCl2.6H20 165 g/dm3 H^BO^ 35 g/dm3 additief (c) 0,25 vol.$ pH ^ 2,3 20 agitatie mild, met lucht 2 kathodestroomdichtheid 323 A/m

temperatuur 35°C

E. Zesvaardige chroombasislaag 3 chroomzuur 250 g/dm 25 sulfaationen . 1,0 g/dm^ verhouding CrO^/SO^”^ 250/1 fluoride 0,^5 g/dm3

temperatuur U3°C

2 kathodestroomdichtheid l6l5 A/m 30 F. Trivalente chroombasislaag

Cr+3 28,1 g/dm3 q hydroxyzuurcomplexor 28,6 g/dm0 Μ^+ W,1 g/dm3

Cl" 50,6 g/dm3 35 H3B03 56,0 g/dm3 «ik..1 8203757 ψ * - 12 - Ο reductiemiddel 650 mg/dnr soortelijk gewicht 1,202 pH 3,6

temperatuur 21°C

2 5 kathodestroomdichtheid 1076 A/m G. 0,05$ S nikkelbasislaag

HiSO^^HgO _ 30U g/dm3

NiCl2.6H20 73 g/dm3 H BQ b3 g/dm3 J J ·5

10 natriumsaccharine ^,3 g/dmJ

3 natriumallylsulfonaat 5,2 g/dm pH 3,0 agitatie mild, met lucht 2 kathodestroomdichtheid ^31 A/m

15 temperatuur 5b°C

H. 0,15$ S nikkelbasislaag

HiSOj^HgO 30U g/dm3

HiCl2.6H20 63 g/dm3 H3B03 ^ 1^3 g/dm3 20 2-aminothiazool h5 mg/dm3 pH 2,il· agitatie lucht 2 kathodestroomdichtheid b3k A/m temperatuur 63°C .

25 I. 0,15$ S nikkelhasislaag + ijzer om een 6$ ijzerhoudende legering te krijgen

NiS0^.6H20 30¾ g/dm3

HiCl2.6H20 63 g/dm3 Η B0 k3 g/dm3 j j 3 30 wijnsteenzuur 5 g/dm

FeSO^.THgO 6,h g/dm3 2-aminothiazool ^5 mg/dm3

pH 2'fU

agitatie lucht 35 kathodestroomdichtheid A/m

temperatuur 63°C

2 8203757 " " ^ ........ ......

Λ. A

w ψ ' > 13 - v

Het secondaire glansgevende middel (a) van de bovenstaande elek- . --- trolyten A en B omvat een mengsel van een acetylemsche alcohol, een f '> — polyamine met hoog molecuulgewicht, en een organisch sulfide. Het secon- ^ daire glansgevende middel (b) van elektrolyt C omvat een mengsel van t \ ' -*1 5 acetylenische alcoholen en acetylenische sulfonaten. Het additief (c) van elektrolyt D is een imine-additief om de vorming van microscheuren r; · • · « ·.“ —’U' m de nikkelbasislaag te geven. -¾

Yoorbeeld X

Een reeks met koper geplateerde stalen proefpanelen zoals boven 10 beschreven, werd elektroly-tisch geplateerd in elektrolyt A onder de ·;4* eerder vermelde omstandigheden onder vorming van een eerste laag van ?Φ

een mkkel-ijzerlegering welke ongeveer 32% ijzer bevatte, welke laag ; ; P

afgezet werd in het controlegebied met een dikte van 12,7 ym. Een twee- . .-¾ de nikkel-ij zerlaag werd onder toepassing van elektrolyt B afgezet on-15 der vorming van een afzetting van een legering die lk% ijzer bevatte met een dikte in het controlegebied van 12,7 ym. Het paneel werd daarna aan elektrolyse in elektrolyt C ondervorpen waarbij een nikkelbasislaag . werd verkregen die fijn gedispergeerde niet geleidende deeltjes bevatte ; . *- teneinde microporositeit in de daarover gelegen chroomlaag te veroorza-20 ken. De nikkelbasislaag werd afgezet met een dikte in het controle- i ; · gebied van ongeveer 1,27 ym. Tenslotte werd een chroomlaag op de nikkel-basislaag afgezet onder toepassing van elektrolyt E tot een dikte van '.v .

0,25 ym in het controlegebied.

De verkregen geplateerde panelen werden na een geschikte reini- p j- 25 ging in een sterk basisch reinigingsmiddel en een magnesiumoxydesuspen-sie blootgesteld in een CASS-proefkamer gedurende een periode van kb uren en geevalueerd overeenkomstig de ASTM (B 537) specificatie. Over-eenkomstig deze evaluatieprocedure, vertegenwoordigt het eerste cijfer de bescherming van het basismetaal en geeft het. tweede cijfer het cos-30 metische uiterli«jk van de proefpanelen aan het einde van de proef aan.

Een monster met perfecte corrosie-eigenschappen dat geen verslechte- . .

ring vertoont, zou 10/10 scoren. Lagere cijfers geven progressieve maten van tekortschieten aan, zodat een score beneden 7 voor hetzij de bescherming hetzij het uiterlijk vanuit commercieel standpunt bezien 35 ohbevredigend wordt geacht voor strenge omstandigheden in de buiten- 8203757 - ]Λ - lucht.

De gemiddelde scores voor de volgens voorbeeld I vervaardigde proefpanelen aan het einde van de uren durende CASS-blootstelling waren als volgfc: 5 LCD 8/7 controle 9/8 HCD 10/10

Voorbeeld II

Een tweede reeks met koper geplateerde stalen proefpanelen werd 10 elektrolytisch geplateerd overeenkomstig de in voorbeeld I beschreven reeks, met deze uitzondering, dat een zwavelhoudende nikkelbasislaag werd aangebracht onder toepassing van. elektrolyt G tnssen de twee lagen van nikkel-ij zerlegering. De zwavelhoudende nikkelbasislaag bevatte 0,05¾ zwavel en werd geplateerd tot een dikte in bet controlegebied van 15 1,27 ym. - . '

De proefpanelen werden blootgesteld aan de CASS-proefprocedure onder dezelfde omstandigheden als beschreven in voorbeeld I en werden aan het einde als volgt geevalueerd: LCD 9/9 20 controle 10/9 HCD 10/10

Het is duidelijk dat het gebruik van de zwavelhoudende nikkelbasislaag overeenkomstig de onderhavige uitvinding tussen de lagen van nikkel-ijzerlegering tot een duidelijke verbetering leidde in vergelij-25 king met de resultaten die verkregen waren met de proefpanelen van voorbeeld I, die een dergelijke zwavelhoudende nikkelbasislaag misten. Voorbeeld III

De plateringsvolgorde zoals beschreven in voorbeeld II werd her-haald met. een derde set proefpanelen met deze uitzondering, dat de zwa-30 velhoudende nikkelbasislaag tussen de lagen van nikkel-ijzerlegering aangebracht werd onder toepassing van elektrolyt H om een gemiddeld zwavelgehalte van 0,15¾ te bereiken. Alle controledikten van de plaat waren vrijwel identiek aan die van de voorbeelden I en II.

De proefpanelen werden opnieuw aan de bb uren durende CASS-bloot-35 stelling onderworpen en een evaluatie van de aan het eind van de proof* 8203757 .-15- verkregen resuitaten gaf: LCD 1Q/10 coutrole 10/10 HCD 10/10

5 Het is duidelijk.uit de aan de proefpanelen van voorbeeld III

verkregen resultaten, dat een verbetering in bescherming tegen corrosie en veerstand tegen schoonheidsfouten vordt verkregen door een verhoging van hetzvavelgehalte van de tussengelegen nikkelbasislaag.

Voorbeeld 17 10 De plateringsvolgorde zoals bescbreven in voorbeeld III verd her- baald met een vierde reeks met koper geplateerde proefpanelen met deze uitzondering dat de zvavelhoudende nikkelbasislaag elektrolytisch verd afgezet onder toepassing van elektrolyt I onder vorming van een tussengelegen laag die 0,15# zvavel en ongeveer 6% ijzer bevatte. De proefpa-15 nelen verden aan de CASS-proef ondervorpen en de verkregen result at en varen identiek aan die velke in voorbeeld III varen verkregen.

Voorbeeld V

De plateringsvolgorde zoals beschreven in voorbeeld I verd her-haald met een vijfde reeks met koper geplateerde proefpanelen, met deze 20 uitzondering,.dat de nikkelbasislaag die de fijn gedispergeerde niet ge-leidende deeltjes bevatte, geelimineerd verd zodat de buitenste chroom-laag vrijvel continu vas en direct over de tveede nikkel-ijzerplatering verd aangebracht.

De verkregen samengestelde proefpanelen verden opnieuv in de 25 CASS-blootstellingsproef geevalueerd en de aan de proefpanelen verkregen gemiddelde scores varen als volgt: LCD 6/5 controle 8/6 HCD 9/7

30 Voorbeeld VI

• De elektroplateringsvolgorde zoals beschreven in voorbeeld V

verd herhaald met een zesde reeks van met koper geplateerde proefpanelen, maar vaarin een zvavelboudende nikkelbasislaag met een zvavelgehal-te van 0,15# geplateerd verd tussen de hoge en lage nikkel-ij zerlagen 35 met een dikte van 2,5^- ym in het controlegebied,onder toepassing van 8203757 "ψ - 16 -

elektrolyt Η. Na een kk uren durende CASS-blootsteQihggproef varen de scores aan de samengestelde geelektroplateerde proefpanelen als volgt: LCD . 9/T

controle 10/9 5 HOD 10/10

Voorbeeld VII

De plateringsvolgorde zoals beschreven in voorbeeld III verd her-haald aan een zevende reeks van met koper geplateerde proefpanelen met deze uitzondering, dat de nikkelbasislaagafzetting, die fijn gedisper-10 geerde nietgeleidende deeltjes bevatte, elektrolytisch afgezet door elektrolyt C, vervangen verd door een nikkelbasislaag met microscheuren, gebruikmakend van elektrolyt D om. een gemiddelde scheurdichtheid van 19T tot 276 scheuren per lineaire cm te verkrijgen. Deze microscheuren houdende nikkelafzetting over de buitenste laag van nikkel-ij zerlegering 15 veroorzaakten corresponderende microscheuren in de daarop liggende chroomlaag.

De samengestelde geelektroplateerde proefpanelen verden ondervor-pen aan een W uren durende CASS-blootstellingsproef en de verkregen gemiddelde scores varen als volgt: 20 LCD 10/10 controle 10/10 HCD 10/9

Voorbeeld VIII

De elektroplateringsvolgorde van voorbeeld VI verd herhaald met 25 een achtste reeks met koper geplateerde proefpanelen met deze uitzondering, dat de buitenste decoratieve chroomlaag geplateerd verd vanuit een drievaardige chroomelektrolyt onder toepassing van elektrolyt F.

Deze chroomafzetting vas van micro-discontinue aard met een poriendicht- 2 held van 31.000 porien per cm . De verkregen samengestelde geelektro-30 plateerde proefpanelen verden in de kk uren durende CASS-blootstellingsproef geevalueerd en de verkregen gemiddelde scores varen als volgt: LCD 9/9 controle 10/9 H.CD 10/9 35 De iets lagere scores van het uiterlijk van de volgens voorbeeld 8203757 ..........' :'?/__‘ ; 'ffi. . ..........*;.

x*» ;

V

. . -17 - ·: VIII vervaardigde proefpanelen waren te vijten aan een minimale boeveel- .

. ·'· .

Jieid zichtbare vlekken, hetgeen termanste gedeeltelijk te wijten is ’ ΐί'ί-ί aan de afwezigheid van de onderliggende micro-discontinue nikkelbasis-laag beneden de buitenste decoratieve chroomlaag. ;·.Λ':

5 Voorbeeld IX

Verdere met koper geplateerde proefpanelen werden behandeld on- -ri;* ·· . , . . ., .·> ··· ’ ·. der toepassing van nikkel-ijzerelektrolyten A en B met gemodificeerde '·;· ’·-* ··* · * *' ' samenstellingen teneinde een eerste nikkel-ij zerlaag te verkrijgen die "·’ ' V- ' .- - · ..- ijzergebaltes, vari.&rend van 15 tot 50 gev.%, b e-vat te met een dikte S - .

10 van 5,1 tot 51 m en een derde laag van een mkkel-ijzerlegermg die / s·' :yt· ·./.

ijzer bevatte in een hoeveelheid, varierend van 5 tot 19 gew.$, maar ;, een geringere boeveelheid ijzer dan de eerste laag bevatte en met een dikte van 5,1 tot 51 ym» Deze proefpanelen werden eveneens aan elektro-lyse in de elektrolyten G, H en I met gemodificeerde samenstellingen 15 onderworpen teneinde een tweede of tussengelegen zwavelboudende nikkel-basislaag te verscbaffen, gelegen tussen de nikkel-ijzerlagen, welke 0,02 tot 0,5 gew.$ zwavel en 0 tot 10 gev.% ijzer bevatten, en met een dikte van 0 ,13 tot 5,1 ym.

Sommige van de samengestelde geelektroplateerde proefpanelen wer-20 den verder onderworpen aan een decoratieve chroomplateringstrap, gebruik-makend van elektrolyten E en F teneinde een continue en discontinue buitenste chroomlaag te verkrijgen waarvan de dikte varieerde van 0,05 tot 1,27 ym. tfeer andere samengestelde geelektroplateerde proefpanelen werden verder onderworpen aan elektroplatering onder toepassing van 25 elektrolyten C en D teneinde een vierde nikkelhoudende laag aan te brengen. met een dikte van 0,13 tot 5,1 ym teneinde micro-discontinuitei-ten in de buitenste chroomplatering te veroorzaken.

Alle samengestelde geelektroplateerde proefpanelen volgens. dit voorbeeld bezaten een bevredigende bescberming tegen corrosie en weer-30 stand tegen s choonbe i ds fout en.

Hoewel het duidelijk zal zijn dat de beschreven voorkeursuitvoe-rxngsvormen van de uitvinding wel berekend zijn om aan de bovenvermelde doeleinden te voldoen,. zal ook duidelijk zijn dat de uitvinding modifi-35 caties, varieties en wijzigingen kan ondergaan zonder dat daarmede de omvang van de uitvinding wordt verlaten.

8203757

Claims

1. Samengesteld geelektroplateerd voorwerp, omvattende een lichasm met een elektrisch geleidend oppervlak, een hechtende eerste laag op het oppervlak welke een nikkel-ij zerlegering omvat met een gemiddeld ijzergehalte vanongeveer 15 tot ongeveer 50 gew.$, eenhechtende tweede 5 laag op genoemde eerste laag welke een nikkelhoudende platering omvat met een gemiddeld zvavelgehalte van ongeveer 0,02 tot ongeveer 0,5 gev,^ en een hechtende derde laag op genoemde tweede laag welke een nikkel-ijzerlegering omvat met een gemiddeld ijzergehalte dat lager is dan dat van genoemde eerste laag en varieert van ongeveer 5 tot ongeveer 19 .10 gew.$.

2. Voorwerp volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het verder een hechtende chroomlaag op genoemde derde laag omvat.

3. Voorwerp volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het verder een hechtende nikkelhoudende platering op genoemde derde laag en een 15 hechtende buitenste chroomplatering omvat. k. Voorwerp volgens comclusie 3, met het kenmerk, dat de nikkelhoudende laag waarop genoemde buitenste chroomplatering wordt aangebracht, micro-discontinuiteiten in genoemde chroomlaag veroorzaakt.

5. Voorwerp volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat genoemde eer-20 ste laag een dikte van 5,1 tot 51 ym heeft, genoemde tweede laag een dikte van ongeveer 0,127 tot ongeveer 5,1 ym heeft, en genoemde derde laag een dikte van ongeveer 5,1 tot ongeveer 51 ym heeft.

6. Voorwerp volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de dikte van genoemde eerste laag ongeveer 12,7 tot ongeveer 25,^ ym bedraagt, de 25 dikte van genoemde tweede laag ongeveer 1,27 tot ongeveer 2,5^ ym bedraagt, en de dikte van genoemde derde laag ongeveer 7,6 tot ongeveer 25,^ ym bedraagt.

7. Voorwerp volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het gemiddel-de ijzergehalte van genoemde derde laag tenminste 2% minder is dan het 30 gemiddelde ijzergehalte van genoemde eerste laag.

8. Voorwerp volgens conclusie 1, met het kenmerk,. dat het gemiddel- 8203757 -19- /: ·* -:Sr ·,' Vi'*;': =¾ de ijzergehalte van genoemde derde laag tenminste 5% lager is dan het ; ·· - gemiddelde ijzergehalte van genoemde eerste laag. s". .. '

9. Voorwerp volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het gemiddel-de ijzergehalte van genoemde derde laag ongeveer 50# hedraagt van het 5 gemiddelde ijzergehalte van genoemde eerste laag. ·'. .· »*·*.

10. Voorwerp volgens conelusie 1, met het kenmerk, dat het gemiddel- .? de ijzergehalte van genoemde eerste laag ongeveer 25 tot ongeveer 35 • ·.·;·' ·· gew.# is en het gemiddelde ijzergehalte van genoemde derde laag ongeveer 10 tot ongeveer 1¼ gew,# is.

11. Voorwerp volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het zwavelge- fJ’ · halte van genoemde eerste en genoemde derde laag varieert van ongeveer ::...: 0,01 tot ongeveer 0,1 gew.#.

12. Voorwerp volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het zwavelge-halte van genoemde derde laag lager is dan het zwavelgehalte van ge- 15 noemde tweede laag. _

13. Voorwerp volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het gemiddelde zwavelgehalte van genoemde tweede laag ongeveer 0,1 tot ongeveer 0,2 gew.# bedraagt. 1^. Voorwerp volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat genoemde 20 chroomplatering een dikte heeft van ongeveer 0,05 tot ongeveer 1,27 ym.

15. Voorwerp volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de dikte van ·' genoemde chroomplatering ongeveer 0,25 tot ongeveer 0,51 ym "bedraagt.

16. Voorwerp volgens conclusie 3, met het kenmerk, dat genoemde nik-kelhoudende laag op de derde laag een dikte heeft van ongeveer 0,127 25 tot ongeveer 5,1 ym.

17. Voorwerp volgens conclusie 3, met het kenmerk, dat de dikte van genoemde nikkelhoudende laag op de derde laag ongeveer 1,27 tot ongeveer 2,5^ ym is.

18. Samengesteld geelektroplateerd voorwerp, omvattende een lichaam 30 met een elektrisch geleidend oppervlak, een hechtende eerste laag op het oppervlak met een dikte van ongeveer 5,1 tot ongeveer 51 ym, omvattende een nikkel-ijzerlegering met een gemiddeld ijzergehalte van ongeveer 15 tot ongeveer 50 gew.#, een hechtende tweede laag op genoemde eerste Jaag met een dikte van ongeveer 0,127 tot ongeveer 5,1 ym, omvat-35 tende een nikkelhoudende platering met een gemiddeld zwavelgehalte van 8203757 -20- ongeveer 0,02 tot ongeveer 0,5 gew.#. en een hechtende derde laag op genoemde tweede laag met een dikte van ongeveer 5,1 tot ongeveer 51 urn, omvattende een nikkel-ijzerlegering met een gemiddeld ijzergehalte dat / lager is dan dat van genoemde eerste laag en varieert van ongeveer 5 v 5 tot ongeveer 19 gew.#,

19. Samengesteld geelektroplateerd voorwerp, omvattende een lichaam >·· ^ met een elektrisch geleidend oppervlak, een hechtende eerste laag op ge- o' noemd oppervlak met een dikte van ongeveer 12,7 tot ongeveer 25,k ym, omvattende een nikkel-ij zerlegering met een gemiddeld ijzergehalte van 10 ongeveer 25 tot ongeveer 35 gew.#, een hechtende tweede laag op genoem-de eerste laag met een dikte van ongeveer 1,27 tot ongeveer 2,54 ym, omvattende een mkkelhoudende platering met een gemiddeld zwavelgehalte * -*·"> van ongeveer 0,1 tot ongeveer 0,2 gew.# , en een hechtende derde laag op V- genoemde tweede laag met een dikte van ongeveer J,6 tot ongeveer 25,^ 15 ym, omvattende een nikkel-ijzerlegering met een gemiddeld ijzergehalte van ongeveer 10 tot ongeveer gew. %. -/:...

20. Samengesteld geelektroplateerd voorwerp, omvattende een lichaam met een elektrisch geleidend oppervlak, een hechtende eerste laag op het oppervlak met een dikte van ongeveer 5,1 tot ongeveer 51 ym, omvat- 20 tende een nikkel-ijzerlegering met een gemiddeld ijzergehalte van ongeveer 15 tot ongeveer 50 gew.#, een hechtende tweede laag op genoemde eerste laag met een dikte van ongeveer 0,127 tot ongeveer 5,1 ym, omvat- ,.. - tende een nikkelhoudende platering met een gemiddeld zwavelgehalte van ongeveer 0,02 tot ongeveer 0,5 gew.#, een hechtende derde laag op ge-25 noemde tweede laag met een dikte van ongeveer 5,1 tot ongeveer 51 ym, omvattende een nikkel-ijzerlegering met een gemiddeld ijzergehalte dat lager is dan dat van genoemde eerste laag en varieert van-ongeveer 5 tot ongeveer 19 gew.#, een hechtende vierde laag op genoemde derde laag, omvattende een nikkelhoudende platering met een dikte van ongeveer 0,127 30 tot ongeveer 5,1 ym, en een hechtende vijfde huitenste chroomlaag op genoemde vierde laag met een dikte van ongeveer 0,05 tot ongeveer 1,27 ym.

21. Werkwijze voor het vervaardigen van een samengesteld geelektroplateerd voorwerp, waarbij voorzien wordt in een lichaam met een elek- 35 trisch geleidend oppervlak, op genoemd oppervlak langs elektrolytische 820 3 75 7. -21 - weg een hechtende eerste laag wordt afgezet velke een nikkel-ij zerlege-ring omvat met een. gemiddeld ijzergehalte van ongeveer 15 tot 50 gew.$, op genoemde eerste laag langs elektrolytische weg een hechtende tweede l- laag wordbtafgezet omvat tende een nikkelhoudende platering met een ge-5 middeld zwavelgehalte van ongeveer 0,02 tot ongeveer 0,5 gew.$, en op genoemde tweede laag langs elektrolytische weg een hechtende derde laag wordt afgezet welke een nikkel-ij zerlegering omvat met een gemiddeld ijzergehalte dat lager is dsndat van genoemde eerste laag en varieert van ongeveer 5 tot ongeveer 19 gev,%, .«,·

22. Werkwij ze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat verder een ·: \· hechtende chroomplatering langs elektrolytische weg op genoemde derde laag wordt afgezet.

23. Werkwij ze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat verder een hechtende vierde laag langs elektrolytische weg op genoemde derde laag 15 wordt afgezet , omvattende een nikkelhoudende platering, en daarna op genoemde vierde laag langs elektrolytische weg een hechtende huitenste chroomplatering wordt afgezet. 2¼. Werkwijze volgens conclusie 23, met het kenmerk, dat de elektro lytische afzetting van genoemde vierde laag wordt uitgevoerd om micro-20 discontinuiteiten in genoemde huitenste chroomplatering te veroorzaken, ' -

25. Werkwijze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat de elektro lytische afzetting van de eerste, tweede en derde lagen zodanig wordt uitgevoerd, dat een eerste laag wordt verkregen met een dikte van onge- - veer 5,1 tot ongeveer 51 ym, een tweede laag wordt verkregen met een 25 dikte van ongeveer 0,127 tot ongeveer 5,1 ym en een derde laag wordt verkregen met een dikte van ongeveer 5,1 tot ongeveer 51 ym.

26. Werkwij ze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat de elektrolytische afzetting van de eerste, tweede en derde laag zodanig wordt uitgevoerd, dat een eerste laag wordt verkregen met een dikte van onge- 30 veer 12,7 tot ongeveer 25,¼ ym, een tweede laag wordt verkregen met een dikte van ongeveer 1,27 tot ongeveer 2,5¼ ym>-en een derde laag wordt verkregen met een dikte van ongeveer 7,6 tot ongeveer 25,¼ ym.

27. Werkwijze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat de elektrolytische afzetting van de eerste en derde laag zodanig wordt uitgevoerd, 35 dat een derde laag wordt verkregen met een gemiddeld ijzergehalte dat 8203757 > -ν' w - 22 - tenminste ongeveer 2% lager is dan het ijzergehalte van genoemde eerste laag.

28. Werkwijze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat de elektro-lytische afzetting van de eerste en derde laag zodanig wordt uitgevoerd, 5 dat een gemiddeld ijzergehalte in genoemde derde laag wordt verkregen dat tenminste 5% lager is dan het ijzergehalte van genoemde eerste laag.

29. Werkwijze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat de elektro-lytische afzetting van de eerste en derde laag zodanig wordt uitgevoerd, dat een gemiddeld ijzergehalte in genoemde derde laag wordt verkregen 10 van ongeveer 50% minder dan het gemiddelde ijzergehalte van genoemde eerste laag.

30. Werkwijze volgens conclusie 21,. met het kenmerk., dat de elektro-lytische afzetting van de eerste en derde laag zodanig wordt uitgevoerd, dat een gemiddeld ijzergehalte in genoemde eerste laag van ongeveer 25 15 tot ongeveer 35% en een gemiddeld ijzergehalte in genoemde derde laag van ongeveer 10 tot ongeveer l5 gew.% wordt verkregen.

31. Werkwijze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat de elektro-lytische afzetting van de eerste en derde laag zodanig wordt uitgevoerd, dat een gemiddeld zwavelgehalte in genoemde eerste en derde laag wordt 20 verkregen van ongeveer 0,01 tot ongeveer 0,1 gew.%.

32. Werkwijze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat de elektro-lytische afzetting van genoemde derde laag zodanig wordt uitgevoerd, dat een gemiddeld zwavelgehalte wordt verkregen in genoemde derde laag dat lager is dan het gemiddeld zwavelgehalte in genoemde tweede laag.

33. Werkwijze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat de elektro- lytische afzetting van genoemde tweede laag zodanig wordt uitgevoerd, dat een gemiddeld zwavelgehalte in genoemde tweede laag wordt verkregen van ongeveer 0,1 tot ongeveer 0,2 gew„%. 3¼. Werkwijze volgens conclusie 22, met het kenmerk, dat de elektro-30 lytische afzetting van genoemde buitenste chroomplatering zodanig wordt uitgevoerd, dat een dikte van ongeveer 0,05 tot ongeveer 1,27 ym wordt verkregen.

35. Werkwijze volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat de elektro-lytische afzetting van genoemde buitenste chroomplatering zodanig wordt 35 uitgevoerd, dat een dikte van ongeveer 0,25 tot ongeveer 0,5 ym:.wordt 8203757 — i - 23 - verkregen *.

36. Werkvijze volgens conclusie 23, met het kenmerk, dat de eLektro-lytische afzetting van genoemde vi.erde laag zodanig vordt geregeld, dat een dikte van ongeveer 0,127 tot ongeveer 5,1 ym vordt verkregen. 5 3T. Werkvijze volgens conclusie 23, met het kenmerk, dat de elektro lytische afzetting van genoemde vierde laag zodanig vordt uitgevoerd, dat een dikte van ongeveer 1,27.tot ongeveer 2,5^ ym vordt verkregen.

38. Werkvijze volgens conclusie 22, met het kenmerk, dat de elektro-lytische afzetting van genoemde buitenste chroomplatering zodanig vordt 10. uitgevoerd, dat micro-discontinuiteiten in genoemde chroomplatering vorden verkregen.

39. Werkvij ze voor het vervaardigen van een samengesteld geelektro-plateerd voorverp, vaarbij voorzien vordt in een lichaam met een elek-trisch geleidend oppervlak, op genoemd oppervlak. langs elektrolytische 15 veg een hechtende eerste laag vordt afgezet velke een nikkel-ij zerlege-ring omvat met een gemiddeld ijzergehalte van ongeveer 15 tot ongeveer 50 gev.#, op genoemde eerste laag langs elektrolytische veg een hechtende tveede laag vordt afgezet velke een nikkelhoudende platering omvat met een gemiddeld zvavelgehalte van ongeveer 0,02 tot ongeveer 0,5 gev.-20 op genoemde tveede laag langs elektrolytische veg een hechtende der- de laag vordt afgezet velke een nikkel-i j zerlegering omvat met een gemiddeld ijzergehalte dat lager is dan dat van genoemde eerste laag en varieert van ongeveer 5 tot ongeveer 19 gev.$, op genoemde derde laag langs elektrolytische veg een hechtende vierde laag vordt afgezet velke 25 een nikkelhoudende platering omvat met een dikte van ongeveer 0,127 tot ongeveer 5,1 ym op zodanige vijze, dat micro-discontinuiteiten in een buitenste chroomplatering vorden veroorzaakt, en op genoemde vierde laag langs elektrolytische veg een buitenste chroomplatering vordt afgezet met een dikte van ongeveer 0,05 tot ongeveer 1,27 ym. 8203757