NL7606548A - Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat.

Info

Publication number
NL7606548A
NL7606548A NL7606548A NL7606548A NL7606548A NL 7606548 A NL7606548 A NL 7606548A NL 7606548 A NL7606548 A NL 7606548A NL 7606548 A NL7606548 A NL 7606548A NL 7606548 A NL7606548 A NL 7606548A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
aligning
cartridge
semi
regard
conductive substrate
Prior art date
Application number
NL7606548A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL7606548A priority Critical patent/NL7606548A/xx
Priority to FR7630898A priority patent/FR2379097A1/fr
Priority to DE2651430A priority patent/DE2651430C3/de
Priority to GB46979/76A priority patent/GB1571907A/en
Priority to CA265,868A priority patent/CA1078240A/en
Priority to JP669177A priority patent/JPS52154369A/ja
Publication of NL7606548A publication Critical patent/NL7606548A/xx
Priority to US05/924,351 priority patent/US4251160A/en

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7073—Alignment marks and their environment
    • G03F9/7076—Mark details, e.g. phase grating mark, temporary mark
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/18—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical projection, e.g. combination of mirror and condenser and objective
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
NL7606548A 1976-06-17 1976-06-17 Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat. NL7606548A (nl)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7606548A NL7606548A (nl) 1976-06-17 1976-06-17 Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat.
FR7630898A FR2379097A1 (fr) 1976-06-17 1976-10-14 Procede et dispositif pour l'aligement d'une configuration de masquage par rapport a un substrat
DE2651430A DE2651430C3 (de) 1976-06-17 1976-11-11 Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten eines Maskenmusters in bezug auf ein Substrat
GB46979/76A GB1571907A (en) 1976-06-17 1976-11-11 Aligning a mark pattern relative to a substrate
CA265,868A CA1078240A (en) 1976-06-17 1976-11-17 Modulation alignment of mask pattern relative to semiconductor substrate
JP669177A JPS52154369A (en) 1976-06-17 1977-01-24 Method of positioning mask pattern and apparatus therefor
US05/924,351 US4251160A (en) 1976-06-17 1978-07-13 Method and arrangement for aligning a mask pattern relative to a semiconductor substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7606548A NL7606548A (nl) 1976-06-17 1976-06-17 Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7606548A true NL7606548A (nl) 1977-12-20

Family

ID=19826386

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7606548A NL7606548A (nl) 1976-06-17 1976-06-17 Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4251160A (ja)
JP (1) JPS52154369A (ja)
CA (1) CA1078240A (ja)
DE (1) DE2651430C3 (ja)
FR (1) FR2379097A1 (ja)
GB (1) GB1571907A (ja)
NL (1) NL7606548A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0002668A2 (de) * 1977-12-30 1979-07-11 International Business Machines Corporation Einrichtung zur optischen Abstandsmessung

Families Citing this family (90)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2436967A1 (fr) * 1978-09-19 1980-04-18 Thomson Csf Procede d'alignement optique de motifs dans deux plans rapproches et dispositif d'alignement mettant en oeuvre un tel procede
DE2845603C2 (de) * 1978-10-19 1982-12-09 Censor Patent- und Versuchs-Anstalt, 9490 Vaduz Verfahren und Einrichtung zum Projektionskopieren
US4422763A (en) * 1978-12-08 1983-12-27 Rca Corporation Automatic photomask alignment system for projection printing
DE2905636C2 (de) * 1979-02-14 1985-06-20 Censor Patent- Und Versuchs-Anstalt, Vaduz Verfahren zum Kopieren von Masken auf ein Werkstück
FR2450468A1 (fr) * 1979-02-27 1980-09-26 Thomson Csf Systeme optique d'alignement de deux motifs et photorepeteur mettant en oeuvre un tel systeme
JPS5612729A (en) * 1979-07-12 1981-02-07 Nippon Kogaku Kk <Nikon> ?alignmening device for ic projection exposure equipment
JPS5612728A (en) * 1979-07-12 1981-02-07 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Alignmening device for ic projection exposure equipment
DE2939044A1 (de) * 1979-09-27 1981-04-09 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Einrichtung fuer elektronenstrahllithographie
FR2472208A1 (fr) * 1979-12-18 1981-06-26 Thomson Csf Systeme optique d'alignement de deux motifs et photorepeteur mettant en oeuvre un tel systeme
US4309813A (en) * 1979-12-26 1982-01-12 Harris Corporation Mask alignment scheme for laterally and totally dielectrically isolated integrated circuits
JPS56110234A (en) * 1980-02-06 1981-09-01 Canon Inc Projection printing device
DD151231A1 (de) * 1980-06-02 1981-10-08 Dietmar Klingenfeld Optische anordnung fuer projektionslithografische einrichtungen
JPS58193547A (ja) * 1982-05-07 1983-11-11 Hitachi Ltd 縮小投影露光装置
US4388386A (en) * 1982-06-07 1983-06-14 International Business Machines Corporation Mask set mismatch
JPS5936220A (ja) * 1982-08-25 1984-02-28 Toshiba Corp 固定スリット型光電顕微鏡
JPS5998525A (ja) * 1982-11-26 1984-06-06 Canon Inc 分割焼付け装置のアライメント方法
JPS59101828A (ja) * 1982-12-01 1984-06-12 Canon Inc 観察装置
JPH0619280B2 (ja) * 1983-09-24 1994-03-16 名古屋大学長 光学式自動位置決め装置
US4568189A (en) * 1983-09-26 1986-02-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Apparatus and method for aligning a mask and wafer in the fabrication of integrated circuits
DE3336901A1 (de) * 1983-10-11 1985-04-18 Deutsche Itt Industries Gmbh, 7800 Freiburg Maskenmarkierung und substratmarkierung fuer ein verfahren zum justieren einer eine maskenmarkierung enthaltenden photomaske auf einer substratmarkierung
US4631416A (en) * 1983-12-19 1986-12-23 Hewlett-Packard Company Wafer/mask alignment system using diffraction gratings
US4596467A (en) * 1984-03-16 1986-06-24 Hughes Aircraft Company Dissimilar superimposed grating precision alignment and gap measurement systems
US4765714A (en) * 1984-04-03 1988-08-23 Horner Joseph L Binary phase-only optical correlation system
US4725737A (en) * 1984-11-13 1988-02-16 Hitachi, Ltd. Alignment method and apparatus for reduction projection type aligner
JPS61215905A (ja) * 1985-03-22 1986-09-25 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 位置検出装置
DE3512615A1 (de) * 1985-04-06 1986-10-16 Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar Anordnung zur ausrichtung, pruefung und/oder vermessung zweidimensionaler objekte
DE3517070A1 (de) * 1985-05-11 1986-11-13 Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar Verfahren und anordnung zur ausrichtung, pruefung und/oder vermessung zweidimensionaler objekte
JPS61287229A (ja) * 1985-06-14 1986-12-17 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 露光装置、及び該露光装置を用いた回路パターン製造方法
US4771180A (en) * 1985-10-11 1988-09-13 Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. Exposure apparatus including an optical system for aligning a reticle and a wafer
NL8600639A (nl) * 1986-03-12 1987-10-01 Asm Lithography Bv Werkwijze voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL8600638A (nl) * 1986-03-12 1987-10-01 Philips Nv Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat.
JPS62229942A (ja) * 1986-03-31 1987-10-08 Univ Nagoya 光学式位置決め装置
EP0243520B1 (en) * 1986-04-29 1991-11-27 Ibm Deutschland Gmbh Interferometric mask-wafer alignment
NL8601278A (nl) * 1986-05-21 1987-12-16 Philips Nv Inrichting voor het detekteren van een vergrotingsfout in een optisch afbeeldingssysteem.
JP2569544B2 (ja) * 1987-04-08 1997-01-08 株式会社ニコン 位置決め装置
JP2658051B2 (ja) * 1987-05-15 1997-09-30 株式会社ニコン 位置合わせ装置，該装置を用いた投影露光装置及び投影露光方法
JPS63153821A (ja) * 1987-10-27 1988-06-27 Nikon Corp 位置合わせ装置
US5734478A (en) * 1988-10-12 1998-03-31 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US5189494A (en) * 1988-11-07 1993-02-23 Masato Muraki Position detecting method and apparatus
JPH02192114A (ja) * 1989-01-20 1990-07-27 Canon Inc 位置合わせ装置
JP2650396B2 (ja) * 1989-02-07 1997-09-03 キヤノン株式会社 位置検出装置及び位置検出方法
USRE36799E (en) * 1990-06-13 2000-08-01 Nikon Corporation Projection optical apparatus using plural wavelengths of light
JP3033135B2 (ja) * 1990-06-13 2000-04-17 株式会社ニコン 投影露光装置及び方法
NL9001611A (nl) * 1990-07-16 1992-02-17 Asm Lithography Bv Apparaat voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat.
JPH0488624U (ja) * 1990-12-14 1992-07-31
NL9100410A (nl) 1991-03-07 1992-10-01 Asm Lithography Bv Afbeeldingsapparaat voorzien van een focusfout- en/of scheefstandsdetectie-inrichting.
WO1995034025A1 (en) * 1994-06-02 1995-12-14 Philips Electronics N.V. Method of repetitively imaging a mask pattern on a substrate, and apparatus for performing the method
DE69531854T2 (de) * 1994-08-02 2004-08-19 Koninklijke Philips Electronics N.V. Verfahren zur wiederholten abbildung eines maskenmusters auf einem substrat
JP2870461B2 (ja) * 1995-12-18 1999-03-17 日本電気株式会社 フォトマスクの目合わせマーク及び半導体装置
DE69709584T2 (de) * 1996-03-04 2002-06-13 Asm Lithography B.V., Veldhoven Lithographisches gerät zur step-und-scan übertragung eines maskenmusters
DE69704998T2 (de) * 1996-03-15 2001-09-27 Asm Lithography B.V., Veldhoven Ausrichtungsvorrichtung und lithographischer apparat mit einer solchen vorrichtung
EP0841594A3 (en) * 1996-11-07 1999-08-25 Nikon Corporation Mark for position detection, mark detecting method and apparatus, and exposure system
US5837169A (en) * 1996-11-19 1998-11-17 Northern Telecom Limited Creation of bragg reflactive gratings in waveguides
DE69817491T2 (de) 1997-03-07 2004-06-17 Asml Netherlands B.V. Lithographisches belichtungsgerät mit einer ausserhalb der belichtungsachse liegenden ausrichtungsvorrichtung
TW367407B (en) * 1997-12-22 1999-08-21 Asml Netherlands Bv Interferometer system with two wavelengths, and lithographic apparatus provided with such a system
US6417922B1 (en) 1997-12-29 2002-07-09 Asml Netherlands B.V. Alignment device and lithographic apparatus comprising such a device
US6160622A (en) * 1997-12-29 2000-12-12 Asm Lithography, B.V. Alignment device and lithographic apparatus comprising such a device
WO2000024057A1 (en) * 1998-10-20 2000-04-27 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of manufacturing a semiconductor device in a silicon body, a surface of said silicon body being provided with a grating and an at least partially recessed oxide pattern
US6368763B2 (en) 1998-11-23 2002-04-09 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
US6248486B1 (en) * 1998-11-23 2001-06-19 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
US6544694B2 (en) 2000-03-03 2003-04-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of manufacturing a device by means of a mask phase-shifting mask for use in said method
US7541201B2 (en) 2000-08-30 2009-06-02 Kla-Tencor Technologies Corporation Apparatus and methods for determining overlay of structures having rotational or mirror symmetry
US7068833B1 (en) 2000-08-30 2006-06-27 Kla-Tencor Corporation Overlay marks, methods of overlay mark design and methods of overlay measurements
TW526573B (en) * 2000-12-27 2003-04-01 Koninkl Philips Electronics Nv Method of measuring overlay
TW556296B (en) * 2000-12-27 2003-10-01 Koninkl Philips Electronics Nv Method of measuring alignment of a substrate with respect to a reference alignment mark
CN1295563C (zh) * 2001-05-18 2007-01-17 皇家菲利浦电子有限公司 制造器件的光刻法
US7804994B2 (en) * 2002-02-15 2010-09-28 Kla-Tencor Technologies Corporation Overlay metrology and control method
JP3872782B2 (ja) * 2002-08-29 2007-01-24 Ｔｈｋ株式会社 保持対象の位置及び姿勢補正方法及び装置
KR100543536B1 (ko) * 2002-09-20 2006-01-20 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 마커구조체, 상기 리소그래피 마커구조체를포함하는 리소그래피 투영장치 및 상기 리소그래피마커구조체를 사용하여 기판을 정렬하는 방법
US6807503B2 (en) * 2002-11-04 2004-10-19 Brion Technologies, Inc. Method and apparatus for monitoring integrated circuit fabrication
SG138445A1 (en) * 2003-02-14 2008-01-28 Asml Netherlands Bv Device and method for wafer alignment with reduced tilt sensitivity
US7053355B2 (en) 2003-03-18 2006-05-30 Brion Technologies, Inc. System and method for lithography process monitoring and control
US7075639B2 (en) 2003-04-25 2006-07-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Method and mark for metrology of phase errors on phase shift masks
US7608468B1 (en) * 2003-07-02 2009-10-27 Kla-Tencor Technologies, Corp. Apparatus and methods for determining overlay and uses of same
US7346878B1 (en) 2003-07-02 2008-03-18 Kla-Tencor Technologies Corporation Apparatus and methods for providing in-chip microtargets for metrology or inspection
US7288779B2 (en) * 2003-12-17 2007-10-30 Asml Netherlands B.V. Method for position determination, method for overlay optimization, and lithographic projection apparatus
US7557921B1 (en) 2005-01-14 2009-07-07 Kla-Tencor Technologies Corporation Apparatus and methods for optically monitoring the fidelity of patterns produced by photolitographic tools
US7837907B2 (en) * 2007-07-20 2010-11-23 Molecular Imprints, Inc. Alignment system and method for a substrate in a nano-imprint process
TWI401529B (zh) * 2008-06-27 2013-07-11 Au Optronics Corp 光罩上的對位標尺及應用對位標尺的遮蔽件位置確認方法
WO2010085632A2 (en) * 2009-01-23 2010-07-29 University Of Washington Virtual core flow cytometry
US9927718B2 (en) 2010-08-03 2018-03-27 Kla-Tencor Corporation Multi-layer overlay metrology target and complimentary overlay metrology measurement systems
JP2014513869A (ja) 2011-04-22 2014-06-05 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． ウェーハのようなターゲットを処理するためのリソグラフィシステム、及びウェーハのようなターゲットを処理するためのリソグラフィシステムを動作させる方法
EP2699967B1 (en) 2011-04-22 2023-09-13 ASML Netherlands B.V. Position determination in a lithography system using a substrate having a partially reflective position mark
US9383662B2 (en) 2011-05-13 2016-07-05 Mapper Lithography Ip B.V. Lithography system for processing at least a part of a target
US10890436B2 (en) 2011-07-19 2021-01-12 Kla Corporation Overlay targets with orthogonal underlayer dummyfill
US9030661B1 (en) 2013-03-15 2015-05-12 Kla-Tencor Corporation Alignment measurement system
US9230050B1 (en) 2014-09-11 2016-01-05 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Air Force System and method for identifying electrical properties of integrate circuits
US10451412B2 (en) 2016-04-22 2019-10-22 Kla-Tencor Corporation Apparatus and methods for detecting overlay errors using scatterometry
US10270947B2 (en) 2016-09-15 2019-04-23 Microsoft Technology Licensing, Llc Flat digital image sensor
EP3586189B1 (en) * 2017-02-23 2024-01-10 Nikon Corporation Measurement of a change in a geometrical characteristic and/or position of a workpiece

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3695758A (en) * 1969-06-30 1972-10-03 Nippon Kogaku Kk Illumination device for projector type ic printer
NL7100212A (ja) * 1971-01-08 1972-07-11
JPS5117297B1 (ja) * 1971-03-11 1976-06-01
US3739247A (en) * 1971-05-17 1973-06-12 Canon Kk Positioning device using photoelectric scanning
GB1391270A (en) * 1971-12-08 1975-04-16 Rank Organisation Ltd Photolithography

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0002668A2 (de) * 1977-12-30 1979-07-11 International Business Machines Corporation Einrichtung zur optischen Abstandsmessung
EP0002668A3 (en) * 1977-12-30 1979-07-25 International Business Machines Corporation Optical distance measuring apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
FR2379097B1 (ja) 1983-06-17
DE2651430A1 (de) 1977-12-29
JPS52154369A (en) 1977-12-22
JPS619733B2 (ja) 1986-03-25
DE2651430B2 (de) 1980-03-13
FR2379097A1 (fr) 1978-08-25
GB1571907A (en) 1980-07-23
DE2651430C3 (de) 1980-11-20
CA1078240A (en) 1980-05-27
US4251160A (en) 1981-02-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7606548A (nl) Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat.
NL7712371A (nl) Werkwijze en apparaat voor het bevestigen van inrichtingen op een substraat.
NL7703555A (nl) Werkwijze en inrichting voor het waarnemen van ijs op een oppervlak.
NL186984C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een transistorinrichting.
NL186125B (nl) Inrichting voor het bevestigen van een micro-schijfje met geintegreerd circuit op een substraat.
NL7608005A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verkrijgen van gegevens aangaande de kleurendichtheid van een werkstuk.
NL7703591A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bekleden van onderdelen.
BE851433A (nl) Werkwijze en inrichting voor het etsen
NL7714125A (nl) Werkwijze en inrichting voor het overbrengen van vloeistof.
NL7607473A (nl) Verstuifinrichting en werkwijze voor het ver- stuiven met een dergelijke inrichting.
NL7711587A (nl) Werkwijze en inrichting voor het begassen van een vloeistof.
NL7705607A (nl) Werkwijze en inrichting voor het detekteren van fouten op een fotomasker.
NL7712357A (nl) Inrichting voor het omslaan van een bladzijde.
BE847923A (nl) Werkwijze en inrichting voor het transporteren van een filmstrook,
NL7710712A (nl) Elektrochemische inrichting en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL179774C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidergeheugeninrichting met een zwevende geheugenelektrode.
NL7706354A (nl) Inrichting voor het opzamelen en leveren van elektronische ketenelementen met evenwijdige geleiders.
NL7704726A (nl) Werkwijze en inrichting voor het voorverhitten van cokes.
NL7501383A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bevestigen van een vel op een onderlaag.
NL7505134A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL7902327A (nl) Werkwijze en inrichting voor het meten van een oppervlaktespanning.
NL178487C (nl) Inrichting en werkwijze voor het versproeien van een vloeistof.
NL7705420A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verkrijgen van gecompenseerde metingen in een boorgat.
NL7713071A (nl) Werkwijze en inrichting voor het ontstapelen.
NL7704176A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verstijven van platte textieldelen.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed