NL186201C - Werkwijze voor het vervaardigen van maskers voor roentgenlithografie. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van maskers voor roentgenlithografie.

Info

Publication number
NL186201C
NL186201C NL7706552A NL7706552A NL186201C NL 186201 C NL186201 C NL 186201C NL 7706552 A NL7706552 A NL 7706552A NL 7706552 A NL7706552 A NL 7706552A NL 186201 C NL186201 C NL 186201C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufacturing masks
roentgen
lithography
roentgen lithography
masks
Prior art date
Application number
NL7706552A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL7706552A (nl
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of NL7706552A publication Critical patent/NL7706552A/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL186201C publication Critical patent/NL186201C/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/22—Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
NL7706552A 1976-06-15 1977-06-14 Werkwijze voor het vervaardigen van maskers voor roentgenlithografie. NL186201C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762626851 DE2626851C3 (de) 1976-06-15 1976-06-15 Verfahren zur Herstellung von Masken für die Röntgenlithographie

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL7706552A NL7706552A (nl) 1977-12-19
NL186201C true NL186201C (nl) 1990-10-01

Family

ID=5980611

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7706552A NL186201C (nl) 1976-06-15 1977-06-14 Werkwijze voor het vervaardigen van maskers voor roentgenlithografie.

Country Status (7)

Country Link
JP (1) JPS52153673A (enrdf_load_stackoverflow)
BE (1) BE855701A (enrdf_load_stackoverflow)
DE (1) DE2626851C3 (enrdf_load_stackoverflow)
FR (1) FR2355314A1 (enrdf_load_stackoverflow)
GB (1) GB1544787A (enrdf_load_stackoverflow)
IT (1) IT1083777B (enrdf_load_stackoverflow)
NL (1) NL186201C (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4171489A (en) * 1978-09-13 1979-10-16 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Radiation mask structure
GB2089524B (en) * 1980-12-17 1984-12-05 Westinghouse Electric Corp High resolution lithographic process
GB2121980B (en) * 1982-06-10 1986-02-05 Standard Telephones Cables Ltd X ray masks
DE3435178A1 (de) * 1983-09-26 1985-04-04 Canon K.K., Tokio/Tokyo Gegenstand mit maskenstruktur fuer die lithografie
DE3338717A1 (de) * 1983-10-25 1985-05-02 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung einer roentgenmaske mit metalltraegerfolie
JPS6169133A (ja) * 1985-05-07 1986-04-09 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai 軟ｘ線露光方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1948141A1 (de) * 1968-09-23 1970-04-23 Polaroid Corp Optisches Element mit Antireflexueberzug

Also Published As

Publication number Publication date
DE2626851B2 (de) 1981-07-02
IT1083777B (it) 1985-05-25
GB1544787A (en) 1979-04-25
DE2626851C3 (de) 1982-03-18
BE855701A (fr) 1977-10-03
JPS52153673A (en) 1977-12-20
FR2355314B1 (enrdf_load_stackoverflow) 1981-08-14
NL7706552A (nl) 1977-12-19
DE2626851A1 (de) 1977-12-22
FR2355314A1 (fr) 1978-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7700756A (nl) Werkwijze en inrichting voor het automatisch inspecteren en corrigeren van maskers.
NL7704737A (nl) Werkwijze voor het bereiden van reukstoffen.
NL187508C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen.
NL7706385A (nl) Werkwijze voor de bereiding van nieuwe roentgen contrast middelen.
NL7804574A (nl) Werkwijze voor het bewaken van de ontwikkeling van fotoresistief materiaal.
NL7606035A (nl) Werkwijze voor het maken van een resistief masker.
NL7602623A (nl) Werkwijze en inrichting voor het maken van dag- lichtprojectieschermen.
NL7702422A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van filter- -beklede fosfordeeltjes.
NL7704363A (nl) Roentgencontrastmiddel en werkwijze voor het bereiden daarvan.
NL7601881A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van drukvormen.
NL7713519A (nl) Inrichting voor het vervaardigen van banden.
NL7708170A (nl) Werkwijze voor de bereiding van fotoresist sa- menstellingen.
NL7808613A (nl) Micro-bollen en werkwijze voor het vervaardigen van de- ze micro-bollen.
NL175150C (nl) Inrichting voor het vervaardigen van gerasterde drukvormen.
NL162215B (nl) Werkwijze voor het fotografisch vervaardigen van maskers.
NL7608315A (nl) Werkwijze voor het desoxygeneren van secundaire alcoholen.
NL7607558A (nl) Inrichting voor het vervaardigen van soft-ice.
NL7707654A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van massieve vormstukken.
NL188124C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting van het ladinggekoppelde type.
NL170227C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van veiligheidsschoeisel.
NL186201C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van maskers voor roentgenlithografie.
NL187816C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van gestrekte folies van polyethyleentereftalaat.
NL7713649A (nl) Werkwijze voor het bereiden van benzothiazool- verbindingen.
NL185989B (nl) Werkwijze voor het afkorten van roosters.
NL182264C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van halfgeleiderinrichtingen.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee