NL184792B - Werkwijze voor het bekleden van een isolerend substraat met metaaloxyden, inrichting voor de toepassing van deze werkwijze, alsmede voorwerp bekleed door toepassing van deze werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het bekleden van een isolerend substraat met metaaloxyden, inrichting voor de toepassing van deze werkwijze, alsmede voorwerp bekleed door toepassing van deze werkwijze.

Info

Publication number
NL184792B
NL184792B NLAANVRAGE7612749,A NL7612749A NL184792B NL 184792 B NL184792 B NL 184792B NL 7612749 A NL7612749 A NL 7612749A NL 184792 B NL184792 B NL 184792B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
coating
insulating substrate
metal oxides
article coated
article
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7612749,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL184792C (nl
NL7612749A (nl
Original Assignee
Battelle Memorial Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Battelle Memorial Institute filed Critical Battelle Memorial Institute
Publication of NL7612749A publication Critical patent/NL7612749A/nl
Publication of NL184792B publication Critical patent/NL184792B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL184792C publication Critical patent/NL184792C/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/23—Mixtures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/23—Mixtures
    • C03C2217/231—In2O3/SnO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/23—Mixtures
    • C03C2217/232—CdO/SnO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/151—Deposition methods from the vapour phase by vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
NLAANVRAGE7612749,A 1975-11-19 1976-11-17 Werkwijze voor het bekleden van een isolerend substraat met metaaloxyden, inrichting voor de toepassing van deze werkwijze, alsmede voorwerp bekleed door toepassing van deze werkwijze. NL184792C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1501975A CH610013A5 (nl) 1975-11-19 1975-11-19

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7612749A NL7612749A (nl) 1977-05-23
NL184792B true NL184792B (nl) 1989-06-01
NL184792C NL184792C (nl) 1989-11-01

Family

ID=4405620

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7612749,A NL184792C (nl) 1975-11-19 1976-11-17 Werkwijze voor het bekleden van een isolerend substraat met metaaloxyden, inrichting voor de toepassing van deze werkwijze, alsmede voorwerp bekleed door toepassing van deze werkwijze.

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4112137A (nl)
JP (1) JPS5262678A (nl)
BE (1) BE848500A (nl)
CA (1) CA1093910A (nl)
CH (1) CH610013A5 (nl)
DE (1) DE2653242C2 (nl)
FR (1) FR2332338A1 (nl)
GB (1) GB1542496A (nl)
IT (1) IT1121741B (nl)
NL (1) NL184792C (nl)
SE (1) SE420914B (nl)

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH631743A5 (de) * 1977-06-01 1982-08-31 Balzers Hochvakuum Verfahren zum aufdampfen von material in einer vakuumaufdampfanlage.
US4349425A (en) * 1977-09-09 1982-09-14 Hitachi, Ltd. Transparent conductive films and methods of producing same
JPS581186B2 (ja) * 1977-12-13 1983-01-10 双葉電子工業株式会社 イオンプレ−テイング装置
GB2085482B (en) * 1980-10-06 1985-03-06 Optical Coating Laboratory Inc Forming thin film oxide layers using reactive evaporation techniques
JPS5775414A (en) * 1980-10-28 1982-05-12 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of magneti substance thin film target for sputtering
JPS5778519A (en) * 1980-11-05 1982-05-17 Citizen Watch Co Ltd Production of electrochromic display element
JPS58197262A (ja) * 1982-05-13 1983-11-16 Canon Inc 量産型真空成膜装置及び真空成膜法
US4474827A (en) * 1982-07-08 1984-10-02 Ferralli Michael W Ion induced thin surface coating
GB8324779D0 (en) * 1982-09-29 1983-10-19 Nat Res Dev Depositing film onto substrate
US4664980A (en) * 1984-09-14 1987-05-12 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Oxidation protection coatings for polymers
US4604181A (en) * 1984-09-14 1986-08-05 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Apparatus for producing oxidation protection coatings for polymers
US4560577A (en) * 1984-09-14 1985-12-24 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Oxidation protection coatings for polymers
US4620872A (en) * 1984-10-18 1986-11-04 Mitsubishi Kinzoku Kabushiki Kaisha Composite target material and process for producing the same
CH664163A5 (de) * 1985-03-01 1988-02-15 Balzers Hochvakuum Verfahren zum reaktiven aufdampfen von schichten aus oxiden, nitriden, oxynitriden und karbiden.
DE3683039D1 (de) * 1986-04-04 1992-01-30 Ibm Deutschland Verfahren zum herstellen von silicium und sauerstoff enthaltenden schichten.
US4719355A (en) * 1986-04-10 1988-01-12 Texas Instruments Incorporated Ion source for an ion implanter
US4888202A (en) * 1986-07-31 1989-12-19 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Method of manufacturing thin compound oxide film and apparatus for manufacturing thin oxide film
US4876984A (en) * 1987-06-12 1989-10-31 Ricoh Company, Ltd. Apparatus for forming a thin film
US4970376A (en) * 1987-12-22 1990-11-13 Gte Products Corporation Glass transparent heater
US5008215A (en) * 1989-07-07 1991-04-16 Industrial Technology Research Institute Process for preparing high sensitivity semiconductive magnetoresistance element
US5306408A (en) * 1992-06-29 1994-04-26 Ism Technologies, Inc. Method and apparatus for direct ARC plasma deposition of ceramic coatings
US5792521A (en) * 1996-04-18 1998-08-11 General Electric Company Method for forming a multilayer thermal barrier coating
US6428848B1 (en) * 1998-08-06 2002-08-06 Toray Industries, Inc. Method for producing a metal evaporated article
US6620525B1 (en) 2000-11-09 2003-09-16 General Electric Company Thermal barrier coating with improved erosion and impact resistance and process therefor
US6492038B1 (en) 2000-11-27 2002-12-10 General Electric Company Thermally-stabilized thermal barrier coating and process therefor
US6544665B2 (en) 2001-01-18 2003-04-08 General Electric Company Thermally-stabilized thermal barrier coating
US6617049B2 (en) 2001-01-18 2003-09-09 General Electric Company Thermal barrier coating with improved erosion and impact resistance
US20030034458A1 (en) * 2001-03-30 2003-02-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Radiation image storage panel
US6586115B2 (en) 2001-04-12 2003-07-01 General Electric Company Yttria-stabilized zirconia with reduced thermal conductivity
WO2002087787A1 (en) * 2001-04-30 2002-11-07 University Of Virginia Patent Foundation Method and apparatus for efficient application of substrate coating
WO2005042064A1 (en) * 2003-10-31 2005-05-12 Ventracor Limited Improved blood pump comprising polymeric components
US20050229856A1 (en) * 2004-04-20 2005-10-20 Malik Roger J Means and method for a liquid metal evaporation source with integral level sensor and external reservoir
LV13383B (en) * 2004-05-27 2006-02-20 Sidrabe As Method and device for vacuum vaporization metals or alloys
RU2296278C2 (ru) * 2005-04-05 2007-03-27 Сергей Борисович Бабакин Холодильник для пищевых продуктов
US20100129564A1 (en) * 2007-04-28 2010-05-27 Enerize Corporation Method for deposition of electrochemically active thin films and layered coatings
US20090117289A1 (en) * 2007-10-09 2009-05-07 Enerize Corporation Method and apparatus for deposition of thin film materials for energy storage devices
US8323408B2 (en) * 2007-12-10 2012-12-04 Solopower, Inc. Methods and apparatus to provide group VIA materials to reactors for group IBIIIAVIA film formation
EP2113584A1 (en) * 2008-04-28 2009-11-04 LightLab Sweden AB Evaporation system
DE102010040049A1 (de) * 2010-08-31 2012-03-01 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Elektronenstrahlverdampfungseinrichtung und Verfahren zur Abscheidung von ferromagnetischen Beschichtungsmaterialien auf einem Substrat
US8735718B2 (en) * 2010-09-13 2014-05-27 University Of Central Florida Electrode structure, method and applications
EP3725911A1 (en) * 2019-04-16 2020-10-21 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Source arrangement, deposition apparatus and method for depositing source material

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US848600A (en) * 1906-10-04 1907-03-26 Siemens Ag Production of homogeneous bodies from tantalum or other metals.
US2784115A (en) * 1953-05-04 1957-03-05 Eastman Kodak Co Method of producing titanium dioxide coatings
CH441928A (de) 1964-03-09 1967-08-15 Balzers Patent Beteilig Ag Anordnung zur elektronischen Aufdampfung von Substanzen auf isolierende Unterlagen
US3492152A (en) * 1967-01-30 1970-01-27 Gen Dynamics Corp Method of vacuum vapor depositing a material on a substrate including reconstitution of decomposed portions of the material
US3634647A (en) * 1967-07-14 1972-01-11 Ernest Brock Dale Jr Evaporation of multicomponent alloys
US3562141A (en) * 1968-02-23 1971-02-09 John R Morley Vacuum vapor deposition utilizing low voltage electron beam
US3756193A (en) * 1972-05-01 1973-09-04 Battelle Memorial Institute Coating apparatus
US3912462A (en) * 1974-01-25 1975-10-14 Westinghouse Electric Corp Selective dimensional control of fine wire mesh

Also Published As

Publication number Publication date
DE2653242C2 (de) 1985-12-19
BE848500A (fr) 1977-05-18
NL184792C (nl) 1989-11-01
GB1542496A (en) 1979-03-21
IT1121741B (it) 1986-04-23
SE420914B (sv) 1981-11-09
DE2653242A1 (de) 1977-06-02
SE7612832L (sv) 1977-05-20
CA1093910A (fr) 1981-01-20
JPS6149764B2 (nl) 1986-10-31
FR2332338A1 (fr) 1977-06-17
JPS5262678A (en) 1977-05-24
CH610013A5 (nl) 1979-03-30
NL7612749A (nl) 1977-05-23
US4112137A (en) 1978-09-05
FR2332338B1 (nl) 1979-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL184792C (nl) Werkwijze voor het bekleden van een isolerend substraat met metaaloxyden, inrichting voor de toepassing van deze werkwijze, alsmede voorwerp bekleed door toepassing van deze werkwijze.
NL161816C (nl) Werkwijze voor het door reactief verstuiven afzetten van een metaaloxydelaag en inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze.
NL185021B (nl) Bekledingsmaterialen, alsmede werkwijze voor het bekleden van een substraat en aldus beklede voorwerpen.
NL163409C (nl) Beklede zaden, alsmede werkwijze voor het bekleden van zaden.
NL171130C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een metallieke verflaag op een metaaloppervlak, alsmede de volgens deze werkwijze verkregen metalen voorwerpen.
NL185511C (nl) Werkwijze voor het vormen van een deklaag van metaal of een metaalverbinding op een oppervlak van een glazen substraat en apparaat ten gebruike daarbij.
NL7603849A (nl) Werkwijze voor het door dompeling bekleden van een metalen ondergrond met een legering van tin en lood, alsmede voortbrengselen die op deze wijze bekleed zijn.
NL178088B (nl) Werkwijze voor het vormen van een hoogglanzende bekleding op een substraat.
NL7506762A (nl) Bekledingspreparaat, van bekleding voorzien ge- vormd voortbrengsel alsmede werkwijze voor het aanbrengen van de bekleding op substraten.
NL185464C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een beitsmiddel voor metalen.
NL164424C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffect- transistor met een geisoleerde stuurelektrode, waarbij een door een tegen oxydatie maskerende laag vrijgelaten deel van het oppervlak van een siliciumlichaam aan een oxydatiebehandeling wordt onderworpen ter verkrijging van een althans gedeeltelijk in het siliciumlichaam verzonken siliciumoxydelaag.
NL7708984A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een waterrijk preparaat voor het bekleden, impregneren en plakken.
NL7611530A (nl) Werkwijze voor het bekleden van een kopersubstraat, alsmede kopersubstraat bekleed volgens deze werkwijze.
NL7707091A (nl) Werkwijze voor het aanbrengmn van een deklaag, werkwijze en inrichting voor het bepalen van een bestznddeel van de deklaag, en inrichting voor het op peil houden van het bestanddeel.
NL148956B (nl) Werkwijze voor het met een elektrische stroom aanbrengen van een bekledingslaag op een metalen substraat.
NL167515C (nl) Inrichting voor het repareren van de bekleding van een oven.
NL173486C (nl) Werkwijze voor het bekleden van oppervlakken van metalen voorwerpen met polyfenyleensulfide.
NL172978B (nl) Afdichtende bekleding voor een ondergrond en werkwijze voor het aanbrengen van een zodanige bekleding.
NL7606357A (nl) Werkwijze voor het bekleden van polyalkeenfoe- lies, de beklede polyalkeenfoelies, alsmede ge- vormd voorbrengsel, geheel of ten dele bestaande uit dergelijke beklede polyalkeenfoelies.
NL7608075A (nl) Fluorpolymeer bevattende samenstelling, hiermee bekleed gevormd voortbrengsel alsmede werkwijze voor het verbeteren van de krasvastheid van een fluorpolymeer bevattende bekledingssamenstel- ling.
NL171907C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een gemoffelde metallieke verfbekledingslaag op een metaaloppervlak, alsmede voorwerp bekleed volgens deze werkwijze.
NL7612766A (nl) Werkwijze ter behandeling van met chromaat beklede metaaloppervlakken.
NL173386C (nl) Werkwijze voor het vormen van een metaaloxydebekleding op een ondergrond.
NL7603663A (nl) Werkwijze en inrichting voor het continu solderen van kettingen van of bekleed met edele metalen.
NL178410C (nl) Werkwijze en inrichting voor het bekleden van een glazen oppervlak met een metaaloxyde alsmede daarmee verkregen beklede voorwerpen.

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee