NL169234C - Werkwijze voor het bereiden van een fotogevoelig preparaat en werkwijze voor het etsen van een ondergrond. - Google Patents

Werkwijze voor het bereiden van een fotogevoelig preparaat en werkwijze voor het etsen van een ondergrond.

Info

Publication number
NL169234C
NL169234C NL7208520A NL7208520A NL169234C NL 169234 C NL169234 C NL 169234C NL 7208520 A NL7208520 A NL 7208520A NL 7208520 A NL7208520 A NL 7208520A NL 169234 C NL169234 C NL 169234C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
etching
preparing
substrate
photo sensitive
sensitive preparation
Prior art date
Application number
NL7208520A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7208520A (nl
NL169234B (nl
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP46044731A external-priority patent/JPS5011284B1/ja
Priority claimed from JP46044991A external-priority patent/JPS5011285B1/ja
Priority claimed from JP7685771A external-priority patent/JPS5010725B2/ja
Application filed by Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Publication of NL7208520A publication Critical patent/NL7208520A/xx
Publication of NL169234B publication Critical patent/NL169234B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL169234C publication Critical patent/NL169234C/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08C—TREATMENT OR CHEMICAL MODIFICATION OF RUBBERS
    • C08C19/00—Chemical modification of rubber
    • C08C19/10—Isomerisation; Cyclisation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/008—Azides
    • G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0125—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the macromolecular azides
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
NL7208520A 1971-06-21 1972-06-21 Werkwijze voor het bereiden van een fotogevoelig preparaat en werkwijze voor het etsen van een ondergrond. NL169234C (nl)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP46044731A JPS5011284B1 (nl) 1971-06-21 1971-06-21
JP46044991A JPS5011285B1 (nl) 1971-06-22 1971-06-22
JP7685771A JPS5010725B2 (nl) 1971-10-01 1971-10-01

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7208520A NL7208520A (nl) 1972-12-27
NL169234B NL169234B (nl) 1982-01-18
NL169234C true NL169234C (nl) 1982-06-16

Family

ID=27292010

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7208520A NL169234C (nl) 1971-06-21 1972-06-21 Werkwijze voor het bereiden van een fotogevoelig preparaat en werkwijze voor het etsen van een ondergrond.

Country Status (6)

Country Link
CH (1) CH571730A5 (nl)
DE (1) DE2230969C3 (nl)
FR (1) FR2143224B1 (nl)
GB (1) GB1392236A (nl)
IT (1) IT958468B (nl)
NL (1) NL169234C (nl)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6057584B2 (ja) * 1979-04-24 1985-12-16 ジェイエスアール株式会社 ホトレジスト組成物

Also Published As

Publication number Publication date
DE2230969B2 (de) 1975-02-13
NL7208520A (nl) 1972-12-27
CH571730A5 (nl) 1976-01-15
FR2143224B1 (nl) 1978-03-03
FR2143224A1 (nl) 1973-02-02
GB1392236A (en) 1975-04-30
DE2230969A1 (de) 1972-12-28
NL169234B (nl) 1982-01-18
IT958468B (it) 1973-10-20
DE2230969C3 (de) 1975-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL161305B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL170901C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL166361C (nl) Werkwijze voor het anisotroop etsen van een mono- kristallijn plaatje van silicium.
NL7510336A (nl) Halfgeleiderinrichting en werkwijze voor het ver- vaardigen daarvan.
NL165302C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotogevoelig elastomeer mengsel, fotogevoelig element met een laag van zo'n mengsel en werkwijze voor het vormen van een drukplaat.
NL161302B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL7508940A (nl) Silicon-catheter en werkwijze voor het vervaar- digen daarvan.
NL188354C (nl) Werkwijze voor de bereiding van een substraat voor de kwantitatieve bepaling van plasmakallikreine en werkwijze voor het kwantitatief bepalen van plasmakallikreine.
NL7410943A (nl) Werkwijze voor het etsen van een polyimidefilm.
NL7414007A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL7608923A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7612006A (nl) Werkwijze voor het laten groeien van een monokris- tal van een halfgeleiderverbinding.
NL158022B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7413791A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL161619B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL159824B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een lichtgevoelig half- geleiderelement.
NL7313572A (nl) Werkwijze voor het etsen van silicium- of ger- mplakken en halfgeleiderinrichtingen ver- igd met toepassing van deze werkwijze.
NL7509464A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL7505134A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL171898C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een analgeticum; alsmede werkwijze voor het bereiden van daarvoor geschikte verbindingen.
NL151506B (nl) Werkwijze en inrichting voor het uitvoeren van een tweedimensionale immuunelektroforese.
NL169374B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een overdrachtsbeeld.
NL155131B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL169234C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotogevoelig preparaat en werkwijze voor het etsen van een ondergrond.
NL7612257A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting alsmede een volgens deze werk- wijze vervaardigde halfgeleiderinrichting.

Legal Events

Date Code Title Description
BC A request for examination has been filed
V4 Lapsed because of reaching the maxim lifetime of a patent