MX2012008814A - Control del suministro de energia para eletrocirugia mediado por impedancia. - Google Patents

Abstract

Se proporciona un método para controlar el suministro de energía electroquirúrgica con base en una comparación de la impedancia tisular detectada para varios valores de umbral de impedancia. La energía se suministra al tejido en un ciclo se sellado como una serie de pulsos. Un pulso inicial tiene un perfil con un valor de inicio de energía predeterminado que aumenta a un grado de nivelación a un valor final predeterminado. Los datos de impedancia detectados se monitorean en cada pulso y se comparan a cada uno de un valor de umbral de impedancia para un punto de referencia RF, un valor de umbral de impedancia para el tiempo acumulado, y un valor de umbral de impedancia para la reducción de energía. Con base en la impedancia detectada durante un pulso, el perfil del pulso posterior puede modificarse. En el caso de un evento de alta impedancia que refleja la presencia de poco tejido, la energía puede reducirse. Se detiene un ciclo de sellado cuando la cantidad de tiempo acumulada con un valor de impedancia por arriba del valor de umbral del tiempo acumulado de la impedancia alcanza un límite de duración del ciclo de sellado.

Description

CONTROL DEL SUMINISTRO DE ENERGIA PARA ELECTROCIRUGIA MEDIADO POR IMPEDANCIA Campo de la Invención La presente descripción se refiere a sistemas y métodos para la tecnología electroquirúrgica . Más particularmente, la tecnología se refiere al control del suministro de energía para sistemas electroquirúrgicos mediados por la impedancia y métodos para sellar tejido.

Antecedentes de la Invención Los instrumentos electroquirúrgicos bipolares aplican corriente eléctrica de alta radiofrecuencia (RF) a un sitio quirúrgico para cortar, extirpar o coagular tejidos. Una aplicación particular de estos efectos electroquirúrgicos es sellar las estructuras lumínicas, tales como los vasos sanguíneos o los sitios gastrointestinales, o los bordes tisulares. Un instrumento electroquirúrgico típico toma la forma de un par de fórceps, con los electrodos colocados en ambas mordazas de los fórceps. En un procedimiento electroquirúrgico, los electrodos se colocan cercanos entre sí como las mordazas se cierran en un cierto objetivo de tal forma que la trayectoria de la corriente entre los dos electrodos pasa a través del tejido dentro del sitio objetivo. La fuerza mecánica ejercida por las mordazas y la corriente eléctrica se combinan para crear el efecto Ref. 233229 quirúrgico deseado.

Al controlar el nivel de presión mecánica aplicado a las mordazas, la distancia del hueco entre los electrodos, y la intensidad, frecuencia y duración de la energía electroquirúrgica aplicada al tejido, un cirujano puede coagular, cauterizar o sellar tejido con un fin terapéutico. Un objetivo típico de controlar el suministro de energía electroquirúrgica, más particularmente, es aplicar no más o no menos de la cantidad precisa de energía requerida para crear el efecto deseado dentro del sitio de sellado objetivo, a pesar de que se minimizan los efectos perjudiciales de la periferia del tejido al sitio objetivo. Como el tejido absorbe la energía, tal como energía de radiofrecuencia, su impedancia de energía de radiofrecuencia aumenta. Este aumento en la impedancia generalmente se considera como siendo una medición del grado en el cual el tejido ha sido "procesado" hacia un estado de punto final terapéutico. En las modalidades los sistemas y métodos actualmente descritos están dirigidos hacia el uso de la impedancia del tejido objetivo como una señal de retroalimentación para apropiadamente controlar el nivel de energía aplicado a un sitio de sellado objetivo.

Breve Descripción de la Invención Las modalidades de los sistemas y métodos electroquirúrgicos provistas incluyen suministrar energía desde un dispositivo electroquirúrgico a un sitio objetivo en un ciclo de sellado en la forma de una serie de pulsos, cada pulso teniendo una duración predeterminada. Las series de pulsos inician con un pulso inicial que tiene un perfil que comprende un valor de inicio de nivel RF predeterminado que aumenta en un grado de nivelación predeterminado a un valor final RF predeterminado. Los métodos pueden además incluir el envío de los valores de impedancia detectado del tejido a un procesador, o más específicamente, a un elemento comparador de impedancia dentro de un procesador, a lo largo de cada pulso. Cada pulso es ya sea un pulso precedente a un pulso posterior o un pulso final en un ciclo de sellado. Los métodos además puede incluir comparar los valores de impedancia detectados para cada uno de los tres valores de impedancia predeterminados, incluyendo un valor de umbral de impedancia para un punto de referencia RF, un valor de umbral de impedancia para un tiempo acumulado, y un valor de umbral de impedancia para la secuencia de energía. Los métodos además pueden incluir controlar el suministro de energía durante el ciclo de sellado respondiendo a la comparación de los valores de impedancia detectados a los valores de umbral de impedancia.

En modalidades particulares, el control de suministro de energía incluye cesar el ciclo de sellado cuando el tiempo acumulado del tejido que muestra un valor de impedancia sobre el valor del umbral del tiempo acumulado de impedancia alcanza un límite de duración de ciclo de sellado predeterminado. Las modalidades del método electroquirúrgico además pueden incluir registrar el tiempo acumulado dentro de un ciclo de sellado en marcha cuando el valor de impedancia de tejido detectado excede el valor del umbral de impedancia para el tiempo acumulado.

Con base en estas comparaciones de los datos de impedancia detectados a los valores de umbral de impedancia, pueden ocurrir varias consecuencias operativas electroquirúrgicas . Cuando el valor de impedancia detectado al final de un pulso precedente es menor que el valor del umbral de impedancia para un punto de referencia RF, los métodos además pueden incluir controlar el suministro de energía al pulso posterior de tal forma que tiene sustancialmente el mismo perfil de pulso que el del pulso inicial. Cuando el valor de impedancia detectado al final de un pulso precedente excede el umbral de impedancia para el punto de referencia RF, los métodos además pueden incluir controlar el suministro de energía al pulso posterior de tal forma que tiene un perfil elevado. Tal perfil de pulso elevado puede incluir hacer un aumento en el principio del pulso directamente en el valor final RF. Un perfil de pulso elevado también puede incluir aumentar el valor de inicio del RF al valor final del RF a un grado mayor que el del pulso precedente .

Cuando la impedancia detectada en cualquier momento durante un pulso excede el umbral de impedancia para la reducción de energía, los métodos pueden incluir la reducción del suministro de energía. Tal reducción de energía puede ocurrir inmediatamente, o puede incluir esperar que una cantidad de tiempo transcurrido predeterminada se acumule durante el cual la impedancia detectada excede el umbral de impedancia para la reducción de energía antes de reducir el suministro de energía (hasta aproximadamente 2 segundos, por ejemplo) .

La reducción del suministro de energía también puede incluir disminuir cualquiera de un nivel del suministro RF o grado de aumento. La disminución de la cantidad de energía que se esta suministrando puede incluir disminuir el suministro de energía en una cantidad entre aproximadamente 1 y aproximadamente 100 voltios. Alternativamente, la disminución de la cantidad de energía que se esta suministrando puede incluir disminuir el suministro de energía a través de un porcentaje fraccional del cual se esta suministrando. Más particularmente, la disminución de la cantidad de energía que se está suministrado puede comprender disminuir el suministro de energía a través del porcentaje fraccional de la cantidad de energía proporcional al grado al cual la impedancia detectada excede el umbral de impedancia para un valor de reducción de energía.

Con respecto a la duración del pulso y los valores RF de los pulsos, en varias modalidades del método electroquirúrgico, los pulsos RF, típicamente, son cada uno de una duración constante que puede estar en el intervalo de aproximadamente 0.5 segundos a aproximadamente 10 segundos. El número de pulsos en series de pulsos puede estar en el intervalo de un pulso a aproximadamente 30 pulsos. En varias modalidades del método electroquirúrgico, la duración del punto final de sellado acumulada está entre aproximadamente 0.1 segundo y aproximadamente 5 segundos . En varias modalidades del método electroquirúrgico, el valor de inicio RF está en el intervalo de aproximadamente 25 vatios a aproximadamente 150 vatios, y el valor final RF está en el intervalo de aproximadamente 50 vatios a aproximadamente 150 vatios .

Con respecto a los umbrales de impedancia antes mencionados, en varias modalidades del método, el umbral de impedancia para el punto de referencia RF está en el intervalo de aproximadamente 5 ohms a aproximadamente 250 ohms, el umbral de impedancia para el valor de reducción de energía está en el intervalo de aproximadamente 100 ohms a aproximadamente 900 ohms, y el umbral de impedancia para el valor de tiempo acumulado está en el intervalo de aproximadamente 100 ohms a aproximadamente 750 ohms.

Con respecto a la transición de un valor de partida RF al valor final RF de un pulso, en varias modalidades del método electroquirúrgico, la energía que se suministra incluye aumentar el nivel de energía que se está suministrando desde el valor de partida RF predeterminado a un valor final RF predeterminado durante un pulso. En algunas modalidades, el aumento en el nivel de energía durante un pulso incluye elevarla un grado que está en el intervalo de entre aproximadamente 1 vatio/segundo y aproximadamente 100 vatios/segundo . En algunas modalidades, el aumento en el nivel de energía RF durante un pulso incluye elevarla en uno o más pasos. En algunas modalidades, el aumento del nivel de energía durante un pulso puede incluir elevarla a un grado constante o a un grado cambiante. En aún modalidades adicionales, el aumento del nivel de energía durante un pulso comprende aumentarla inmediatamente a un valor final de RF predeterminado después del inicio de un pulso.

En otro aspecto, una modalidad de un método electroquirúrgico incluye suministrar energía desde un dispositivo electroquirúrgico a un sitio de tejido objetivo en un ciclo de sellado que incluye una serie de pulsos, cada pulso teniendo una duración de pulso predeterminada. Las series de los pulsos inician con un pulso inicial que tiene un perfil de pulso inicial que comprende un valor de inicio de nivel RF predeterminado que aumenta a un valor final de RF predeterminado durante el pulso. Esta modalidad del método además incluye enviar un valor de impedancia tisular detectado a un procesador durante cada pulso, cada pulso siendo ya sea un pulso precedente a un pulso posterior o siendo un pulso final. La última modalidad del método además incluye controlar el suministro de energía durante un ciclo de sellado de tal forma que: (A) un perfil de un pulso sucesor relativo al perfil de su pulso precedente tiene cualquiera del perfil idéntico o un perfil de energía superior, dependiendo en una comparación del valor de impedancia mostrado por el tejido durante el pulso inicial o precedente contra un valor de umbral de impedancia predeterminado para el punto final RF, (B) la energía se reduce durante el pulso cuando el valor de impedancia detectado excede un valor de umbral predeterminado para la reducción de energía; y (C) el suministro de energía cesa cuando una cantidad acumulada de tiempo de la impedancia detectada ha excedido un valor de umbral de impedancia predeterminado para el tiempo acumulado que ha acumulado un límite de duración de ciclo de sellado predeterminado.

Además con respecto a esta última modalidad de un método electroquirúrgico, cuando la impedancia detectada excede al valor de umbral predeterminado para el punto determinado FR, el perfil de energía del pulso posterior excede el perfil de energía del pulso precedente, y cuando la impedancia detectada es menor que el valor de umbral predeterminado para el punto establecido RF, el perfil de energía del pulso posterior es idéntico al perfil de energía del pulso precedente.

Con respecto a modalidades de un método electroquirúrgico, el perfil de . energía de un pulso incluye un valor de inicio RF, un valor final RF, y una fase de transición entre el valor de inicio RF y el valor final RF. En estas modalidades, un perfil de energía de pulso disminuida de un pulso sucesor, con respecto al pulso precedente, puede incluir cualquiera de un valor de inicio RF disminuido, o un valor final RF disminuido; y/o un grado inferior de transición desde el valor de inicio RF al valor final RF. Un perfil de pulso de energía aumentado de un pulso sucesor, con respecto al pulso precedente, puede incluir cualquiera de un valor de inicio RF superior, un valor final RF superior, y/o un grado superior de transición del valor de inicio RF al valor final RF. Y finalmente, la transición del valor de inicio RF al valor final RF comprende cualquiera de una transición en declive de una transición escalonada.

Breve Descripción de las Figuras La Figura 1 es un diagrama esquemático en bloques de un sistema para el suministro de energía RF mediado por la impedancia para electrocirugía de acuerdo con una modalidad de la tecnología descrita.

La Figura 2 es una representación esquemática de umbrales de impedancia contra los cuales los valores de impedancia detectados pueden compararse y las respuestas en consecuencia con respecto al suministro de energía RF durante un ciclo de sellado electroquirúrgico .

La Figura 3 es un diagrama de flujo que muestra los aspectos del método descrito para utilizar la impedancia detectada como datos de retroalimentación para controlar el suministro de energía durante el procedimiento de sellado electroquirúrgico.

La Figura 4 es un diagrama de flujo que muestra los aspectos de un sistema y método para utilizar la impedancia detectada como datos de retroalimentación para controlar el suministro de energía RF durante el procedimiento de sellado electroquirúrgico.

La Figura 5 es un diagrama cronometrado que muestra un ejemplo del control de una rampa de suministró de energía mediada por impedancia para electrocirugía de acuerdo con una modalidad del método.

La Figura 6 es un diagrama cronometrado que muestra un ejemplo alternativo del control del intervalo de suministro de energía mediado por la impedancia para electrocirugía de acuerdo con una modalidad del método.

La Figura 7A es un diagrama de cronometraje que muestra un perfil de suministro de energía RF según controlado por una retroalimentación de impedancia tisular de acuerdo con una modalidad del método.

La Figura 7B es un diagrama cronometrado que muestra un perfil de impedancia tisular durante el suministro de energía de acuerdo con una modalidad del método.

La Figura 8 es un diagrama cronometrado que muestra un perfil de impedancia tisular durante el suministro de energía según modificado por la aparición de una rápida elevación de la impedancia que es indicativo de una baja presencia tisular en la trayectoria del circuito RF.

Descripción Detallada de la Invención La tecnología de sellado tisular electroquirúrgica provista en la presente se refiere a la aplicación de dinámicos de la respuesta del tejido a la energía RF con información de retroalimentación para controlar el suministro de energía durante el procedimiento electroquirúrgico . El sellado tisular que es quirúrgicamente óptimo ocurre cuando se suministra un nivel de energía apropiado a un sitio objetivo en un grado óptimo; demasiada energía, o la energía suministrada demasiado rápidamente puede dañar el sitio objetivo y el tejido circundante, y muy poca energía no crea un sello de alta integridad. Otra consideración es que los efectos de absorber una cantidad dada de energía por un sitio de sellado objetivo es una función de los específicos del tipo de tejido y del volumen tisular total que recibe la energía, ambos de los cuales son variables y cada uno juega un papel en el procedimiento de sellado. Como el tejido está siendo impactado p "procesado" por energía RF, tal como por coagulación, desecación, o fulguración, o cualquier combinación de éstos, la impedancia del tejido a la corriente eléctrica aumenta. El cambio en la impedancia generalmente se atribuye a un cambio en la "fase" o "estado" del tejido.

La relación entre la entrada de energía y el grado de cambio en el estado tisular está afectada por factores tales como la composición tisular, la densidad tisular, el contenido de agua, y el contenido de electrolitos. En estos términos, un grado óptimo de suministro de energía RF es uno que conduce al cambio en la fase tisular, según se refleja en el grado de aumento en la impedancia, a un grado óptimo. El grado óptimo del cambio en la impedancia puede aprenderse empíricamente, de experiencia experimental y clínica. Por consiguiente, y como se proporciona por las modalidades del método, el cambio detectado en la impedancia del tejido durante un procedimiento electroquirúrgico es un parámetro ventajoso para utilizarse como retroalimentación en el control del grado de suministro de energía RF a un sitio de sellado objetivo. Una racionalización teórica del método se ofrece para dar soporte al entendimiento de su operación, pero sin ninguna caracterización que limitaría las reivindicaciones el método. Se considera ventajoso reconocer cuándo un tejido se procesa lentamente, y, en respuesta, para suministrar energía al tejido lentamente. Y, cuando el tejido se procesa rápidamente, en respuesta, es ventajoso suministrar energía al tejido rápidamente. El sistema de esta forma se balancea para así dirigir la energía al sitio objetivo no más rápidamente que lo que pueda absorber la energía a través del procesamiento tisular. De esta forma el tejido se procesa eficientemente a un punto final apropiado, y la diseminación de la energía en exceso más allá del sitio de sellado objetivo se minimiza.

Como se describe más adelante adicionalmente, los valores de umbral de la impedancia pueden utilizarse para controlar el suministro de energía RF en un ciclo de sellado que comprende una seri de pulsos de energía suministrados a un sitio tisular objetivo. La impedancia detectada puede utilizarse para el control del suministro de energía variable en tiempo real, como durante un pulso, o en una forma en prospecto, mediante el control de suministro de energía en un pulso posterior, así como a través de la terminación de un ciclo de suministro de energía en cualquier punto durante un pulso .

La Figura 1 es un diagrama esquemático en bloque de un sistema para el suministro de energía para electrocirugía mediada por impedancia de acuerdo con la tecnología descrita. Aunque la descripción, los ejemplos y las figuras de la presente descripción se refieren principalmente a aspectos de un método para sellado tisular electroquirúrgico, las modalidades de la tecnología también incluyen un sistema y cualquier subgrupo de sus componentes que se adaptan o configuran para operar por modalidades del método. En la Figura 1, se está llevando a cabo un procedimiento en el cual electrocirugía en un sitio objetivo 10 de un paciente a través de un dispositivo electroquirúrgico 12. Una fuente de energía, tal como un generador de radiofrecuencia (RF) 18 se acopla al aparato electroquirúrgico a través de un circuito de control 16. En algunas modalidades, el circuito de control es operable para ajustar cualquier la salida de corriente y voltaje y, por lo tanto ajustar la salida de energía al generador RF . El circuito de control también puede ajustar la salida del generador RF hacia arriba o hacia abajo en pasos o puede aumentarla o disminuirla en una pendiente seleccionada durante un pulso.

Las modalidades del método y sistemas para operar modalidades del método provistas en la presente son adecuadas tanto para la operación de un sistema electroquirúrgico de un solo canal como de canales múltiples. Los sistemas de canales múltiples típicamente incluyen un generador RF con múltiples salidas acopladas a múltiples electrodos o pares de electrodos. Los sistemas de canales múltiples que hacen uso de las modalidades del método descrito en la presente, un generador puede ser capaz de conducir los electrodos individual e independientemente, de tal forma que la activación del electrodo puede ocurrir sin restricciones con respecto a la repetición de la activación de electrodos individuales o con respecto a orden secuencial de la activación del electrodo adyacente. En otras palabras, los parámetros de activación de cada electrodo pueden basarse en configuraciones y/o retroalimentación asociada solamente con ese electrodo.

El efecto del dispositivo electroquirúrgico en tejido se monitorea en el sitio del tratamiento tisular a través de uno o más sensores asociados con el aparato electroquirúrgico. Una señal producida por el uno o más sensores se acopla a un circuito sensor 14. Los sensores pueden monitorear los factores ambientales y los parámetros operativos tales como temperatura, impedancia, voltaje RF, corriente RF, tiempo transcurrido y similar. En modalidades particulares, por lo menos algunos de los sensores monitorean los parámetros que la impedancia tisular y la energía RF.

Un circuito sensor 14 genera una señal de salida que se transporta a un procesador 15. El procesador, que opera bajo el control de un programa por aspectos del método actualmente descrito, se configura para ajustar la salida del generador RF emitiendo señales de control al circuito de control. Al hacer esto, el procesador puede ajustar la energía RF suministrada al tejido en tiempo real, en respuesta a una generación de señal por lo sensores. El programa puede retenerse en una memoria 17 e incluye ambas instrucciones para operar el procesador y los parámetros para determinar como responder a las señales desde el sensor, el cronometraje de otra información que puede utilizarse para controlar el suministro de energía por aspectos del método.

Como el tejido.se procesa a través de la aplicación de energía, ocurre una fase o cambio de estado en el tejido el cual, a su vez, causa un cambio en la impedancia del tejido. Una característica particular de la tecnología provista es la forma en la cual el procesador opera para el circuito de control y, de esta forma, la forma en la cual la energía se suministra el tejido, en respuesta a las señales provistas por el procesador desde uno o más tipos de sensores, tales como sensores de impedancia, a través del circuito sensor.

Más particularmente, las modalidades del método aplican la impedancia detectada a los aspectos cambiantes del perfil de un pulso electroquirúrgico, los componentes de un perfil incluyen un valor de inicio RF inicial, o un valor final RF, y cualquier aumento por pasos o nivelado en el suministro RF sobre el curso de un pulso desde el valor de inicio RF al valor final RF. Como se utiliza en la presente, una "rampa" de salida de energía se refiere a la diferencia entre el nivel de salida al inicio de un pulso de energía suministrada y el nivel de salida logrado al final del pulso, a pesar de la "pendiente" se refiere más específicamente al grado al cual la salida de energía cambia con el tiempo durante el pulso. La energía típicamente se suministra en una serie de pulsos que pueden ser de una duración preseleccionada o constante predeterminada, aunque en algunas modalidades, los pulsos pueden variar en longitud.

Las modalidades del sistema y método electroquirúrgico monitorean la impedancia detectada que activa el tejido que se manifiesta cuando se expone a un pulso de energía y compara los datos de impedancia con varios valores de umbral de impedancia predeterminados durante un ciclo de sellado que incluye una serie de pulsos. Las modalidades de los sistemas y método responden a estas comparaciones variando los ajustes del perfil del pulso sobre la marcha, ajustando el perfil del pulso anterior o posterior inmediatamente, y rastreando el tiempo hacia una duración del punto final de ciclo de sellado acumulado, en cuyo punto el ciclo de sellado se termina. Estas varias respuestas del sistema, colectivamente, representan un método para controlar los aspectos del funcionamiento de un sistema electroquirúrgico durante un ciclo de sellado, incluyendo la cantidad de energía suministrada durante los pulsos RF individuales, y durante el ciclo de sellado como un todo.

Estos valores de umbral de impedancia incluyen un valor de umbral de impedancia para un punto de referencia RF, y un valor de umbral de impedancia para el cronometraje de la duración del ciclo de sellado acumulado, y un valor de umbral de impedancia para la reducción de energía. Aunque los valores de impedancia para cada uno de estos tres valores de umbral incluyen regiones de traslape, los umbrales dentro de modalidades típicas del método se ordenan de tal forma que el valor de umbral de impedancia para un punto de referencia RF es el valor de umbral más bajo, el umbral de impedancia para la duración del ciclo de sellado acumulado es el valor de umbral intermedio, y el valor de umbral de impedancia para la reducción de energía es el valor de umbral más alto. Estos valores de umbral de impedancia y sus papeles en el control del suministro de energía se detallan y describen adicionalmente más adelante. Las Tablas 1 y 2, así como las Figuras 2, 3 y 4, proporcionan esquemas generales de los aspectos del método, con atención particular a las formas en las cuales los datos de impedancia se retroalimentan en un procesador y se utilizan para controlar el suministro de energía en un sitio de sellado objetivo.

En un aspecto, las modalidades del método para el control de energía con base en la impedancia se refieren a controlar el perfil de pulsos individuales dentro de una serie de pulsos. Los pulsos de radiofrecuencia, como se suministran por las modalidades del método, tienen un perfil que incluye un valor de inicio RF predeterminado y un valor final RF predeterminado, típicamente más alto que el valor de inicio RF. Durante el curso de un pulso, la energía RF típicamente aumenta desde el valor de inicio a un valor final en un grado predeterminado. En algunos pulsos, por respuesta a los valores de impedancia de umbral como se describe con detalle más adelante, un pulso puede aumentar directamente desde el valor de inicio al valor final. Cada uno estos parámetros de un perfil de pulso típicamente se predetermina para un ciclo de sellado tisular particular, pero cada parámetro puede ser ajustable dentro de un intervalo de valores. El valor de inicio RF puede estar en el intervalo de entre aproximadamente 25 y aproximadamente 150 vatios; un valor típico, a manera de ejemplo, es de aproximadamente 50 vatios. El valor final RF puede estar en el intervalo de aproximadamente 50 y aproximadamente 150 vatios; un valor típico, a manera de ejemplo, es de aproximadamente 150 vatios. El grado de aumento o declive a través del cual la .energía puede aumentar de un valor de inicio RF a un valor final RF puede estar en el intervalo de entre aproximadamente 1 vatio/segundo y aproximadamente 100 vatios/segundo; y un valor típico, a manera de ejemplo, de aproximadamente 50 vatios/segundo .

El valor de umbral de impedancia para un punto de referencia RF típicamente es el más bajo de los tres umbrales de impedancia. Este umbral que media el control de rendimiento que tiene un valor predeterminado que está en el intervalo de aproximadamente 5 y aproximadamente 250 ohms; un valor típico, a manera de ejemplo, es de aproximadamente 50 ohms. Algunas modalidades del sistema se configuran para comparar la impedancia del tejido en la conclusión de un pulso (o en su máximo) al valor de umbral y para dirigir el perfil del pulso posterior en una de dos trayectorias, dependiendo de si la impedancia final del pulso cae por debajo o excede el valor del umbral del punto de referencia RF . En el caso en donde la . impedancia del pulso final (de un pulso precedente) es menor que la de este umbral, el pulso posterior se opera con el mismo perfil que el pulso anterior.

En el caso en donde la impedancia del pulso final (o del pulso precedente) excede el valor de umbral de impedancia para el punto de referencia RF, el pulso posterior puede operarse con un perfil de nivel de energía superior. Un perfil de energía elevado puede ocurrir a través de cualquier método que aumenta el valor integrado de la duración del pulso multiplicada por la energía, por ejemplo, en una modalidad, el pulso puede iniciar con un valor de inicio RF y después aumentar directamente (sin una rampa atenuada) al valor final RF. En otras modalidades, la pendiente del suministro de energía durante el pulso puede aumentar. En aún otras modalidades, el valor de inicio RF o el valor final RF pueden aumentarse .

El valor de umbral de impedancia para la duración del tiempo de sellado acumulada típicamente es mayor que el valor de umbral de punto referencia RF. En algunas modalidades, este umbral que media el control de funcionamiento tiene un valor predeterminado que está en el intervalo de aproximadamente 100 ohms y aproximadamente 750 ohms ; un valor típico, a manera de ejemplo, es de aproximadamente 250 ohms. Durante el curso de un procedimiento electroquirúrgico, según se suministra a través de una serie de pulsos por aspectos del método, la impedancia del tejido objetivo aumenta. Este aumento se entiende como siendo generalmente reflectivo de un "procesamiento" tisular a través de energía RF a un nivel apropiado para servir un fin terapéutico particular. De esta forma, la impedancia mostrada por el tejido puede considerarse como un marcador del procesamiento del tejido, y un nivel óptimo del procesamiento puede considerarse que se obtiene a través de la absorbencia de un nivel óptimo de energía RF para una duración de tiempo óptima. Por consiguiente, el sistema y método pueden dirigirse para registrar tiempo acumulado a un valor de umbral de impedancia para una duración de tiempo acumulada, la cual, después de ser lograda, causa que el suministro de energía cese. El cese del suministro de energía puede ocurrir inmediatamente durante un pulso RF, después de la acumulación de una duración de tiempo sellado predeterminada. La duración del punto de referencia del sellado acumulada, por modalidades del método, puede estar en el intervalo de aproximadamente 0.1 segundos y aproximadamente 5 segundos .

Los valor de umbral de impedancia para reducción de energía típicamente es el más alto de los tres umbrales de impedancia. El umbral que media el control de rendimiento tiene un valor predeterminado que está en el intervalo de aproximadamente 100 ohms y 900 ohms . En algunas modalidades, un valor típico, a manera de ejemplo, es de aproximadamente 700 ohms. Una lectura de nivel de impedancia alto (ver Figura 8) durante un pulso RF puede considerarse como siendo una consecuencia de una baja presencia tisular en el espacio electroquirúrgico entre los fórceps de un dispositivo. Esto es, después de todo, el tejido que permite la conductancia de la energía RF entre los fórceps, en la completa ausencia del tejido. La impedancia dentro del circuito es absoluta o infinita en términos prácticos. En la presencia de bajo tejido, la impedancia no es infinita, pero puede rápidamente hacerse muy alta. La baja presencia tisular puede ocurrir si, por ejemplo, el tejido, o una de sus porciones es particularmente delgada, comparado con una cantidad típica de tejido objetivo entre los fórceps. 0, puede haber espacios entre las puntas de los fórceps en donde el tejido está simplemente ausente. El sistema electroquirúrgico puede responder a un evento de alta impedancia reduciendo el nivel de suministro de energía. En las modalidades del sistema de esta informa incluyen un cronómetro que se configura para registrar la cantidad de tiempo que el tejido se manifiesta en este alto nivel de impedancia, y después de la acumulación de una cantidad predeterminada de tiempo acumulado, el sistema responde reduciendo la cantidad de energía que se está suministrando.

La reducción de energía, por modalidades del método, ocurre disminuyendo el perfil de los pulsos de energía que se están suministrando. Tal reducción de energía puede ocurrir inmediatamente, en cualquier momento durante un pulso, cuando el umbral de impedancia de la reducción de energía se excede. En modalidades alternativas del método, las reducciones de energía pueden ocurrir después del paso de un retraso predeterminado. En aún otras modalidades, la reducción de energía puede iniciarse en el pulso posterior. La cantidad de reducción de energía puede ocurrir reduciendo el nivel de suministro de energía, o disminuyendo el grado que la energía aumenta durante un pulso cualquiera. Cualquiera o más de los varios métodos pueden ajustar el nivel de suministro de energía hacia abajo. Por ejemplo, el suministro de energía puede caer a través de una cantidad absoluta de potencia en vatios o voltaje. Alternativamente, el nivel de suministro de energía puede caer a través de un porcentaje fraccional del nivel de energía que se está suministrando en el momento cuando el umbral de impedancia de la reducción de energía se excede. En otra variación, el nivel de suministro de energía puede caer a través de una porción fraccional que corresponde a la diferencia entre la impedancia detectada y el umbral de impedancia para la reducción de energía RF. Se puede observar, que meramente para el propósito de entender la racionalización de los aspectos del método, que un rápido aumento excepcionalmente en la impedancia que incluye exceder el umbral de impedancia para la reducción de energía es indicativo de una pequeña cantidad de tejido, en lugar de una cantidad normal de tejido, absorbiendo toda la energía suministrada, y de esta forma siendo procesado más rápidamente de lo deseado.

La Figura 2 proporciona un perfil esquemático de tres umbrales de impedancia utilizados en aspectos del método para controlar el suministro de energía durante un procedimiento electroquirúrgico, y las consecuencias que siguen a partir de los datos de impedancia detectados que se entregan de regreso a los componentes del sistema que controlan el suministro de energía. Los umbrales de impedancia se configuran en el lado izquierdo de la figura, alineados contra un eje de valores phms ascendentes. El umbral de impedancia 1 pertenece al punto de referencia RF, el umbral de impedancia 2 se refiere al tiempo acumulado, y el umbral de impedancia 3 se refiere a la reducción de energía. El lado derecho de la figura muestra las consecuencias del suministro de energía a valores de impedancia detectados durante el curso, según caen en intervalos entre corchetes a través de estos umbrales. Las consecuencia del suministro de energía pertenecen ya sea a un pulso que sigue al pulso precedente (tiempo durante el cual ocurre la impedancia detectada) o a consecuencias inmediatas en tiempo real para el suministro de energía durante el pulso .

Continuando con la Figura 2, partiendo del umbral más bajo, el umbral de impedancia para el punto de referencia RF, el segmento entre corchetes 201 en el lado derecho de la figura muestra que un valor de impedancia detectado (típicamente la impedancia en la conclusión del pulso del tiempo) que cae por debajo de este umbral causa que el perfil de suministro de energía en el pulso posterior permanezca igual o disminuya. Tal disminución puede ser un evento de una sola vez, después del cual el perfil' permanece constante, o tal disminución puede continuar con cada pulso sucesivo. Como se observó anteriormente, un perfil puede disminuir ya sea a través de un ajuste hacia abajo de los puntos de referencia RF, o disminuyendo el grado en el cual la energía RF aumenta durante el pulso.

Continuando con la Figura 2, ascendiendo desde el segmento entre corchetes 201, el siguiente segmento entre corchetes 202 se extiende hacia arriba desde la impedancia para el punto de referencia RF al umbral de impedancia para la disminución de energía. El lado derecho de la figura nota que el perfil del pulso de energía que sigue a un pulso precedente en donde la impedancia detectada (típicamente la impedancia en la complexión del pulso de tiempo) ha caído en este segmento se suministra con un perfil elevado. Tal aumento puede ser un evento de una sola vez, después de lo cual el perfil permanece constante, o tal aumento puede continuar con pulso sucesivo. Como observó anteriormente, un perfil puede aumentar ya sea por medio de un ajuste hacia arriba de los puntos de referencia RF, o mediante la disminución del grado al cual la energía RF aumenta durante el pulso.

Continuando aún con la Figura 2, un segmento entre corchetes 203 se extiende por arriba del umbral de la reducción de energía hacia una impedancia máxima. La consecuencia de un valor de impedancia detectado que ocurre en cualquier punto durante el cual un pulso cae en este intervalo entre corchetes es que el suministro de energía se reduce,- mientras el pulso continúa. En algunas modalidades, la energía se reduce inmediatamente; en otras modalidades, la energía se reduce después de un retraso de hasta segundos. Este retraso, si se implementa, es con el propósito de validar que el evento de alta impedancia sea real y sostenido, no debido a una señal temporal o errónea desde un sensor de impedancia.

Finalmente, con respecto a la Figura 2, un gran segmento entre corchetes 204 abarca los valores de impedancia detectados en el intervalo hacia arriba desde el umbral de impedancia durante un tiempo acumulativo. Como los valores de impedancia detectados se elevan por arriba de este umbral, se inicia un cronometraje que corre mientras la impedancia esté por arriba de este valor de umbral. Si la impedancia cae por debajo de este valor de umbral, como puede ser cuando la energía se reduce, el cronómetro cesa la acumulación del tiempo. Como la impedancia después se eleva de nuevo para sobrepasar el umbral, el cronómetro de nuevo acumula el tiempo. Después de la acumulación de una duración de tiempo acumulada predeterminada para el ciclo de sellado, la energía suministrada durante el ciclo cesa.

La Figura 3 es un diagrama de flujo que muestra los elementos de un método para utilizar la impedancia detectada como datos de retroalimentación para controlar el suministro de energía RF durante un proceso de sellado electroquirúrgico . En un paso inicial 198, la energía se suministra a un sitio de tejido objetivo en una serie de pulsos, cada pulso teniendo un perfil que puede o no puede ajustarse en respuesta a los datos de impedancia detectados en el pulso posterior. En el segundo paso 199, los datos de impedancia detectados se envían a un comparador de umbral de impedancia dentro del sistema. En un tercer paso 200, los datos de impedancia detectados se comparan con un umbral impedancia (1) para el punto de referencia RF, un umbral de impedancia (2) para el cronometraje acumulativo de la duración del ciclo de sellado predeterminado, y (3) un umbral de impedancia (3) para la reducción de energía en cualquier momento durante un pulso.

Como resultado de estas comparaciones sobre la marcha dentro del comparador (Figura 3) cualquiera de las varias consecuencias puede seguir. En el caso 201 en donde la impedancia detectada es menor que el umbral de impedancia 1, el perfil del pulso posterior ya sea se mantiene o disminuye. En el caso 202 en donde la impedancia detectada es mayor que el umbral de impedancia 1, el perfil del pulso posterior ya sea se mantiene o disminuye. En el evento 203 la impedancia detectada es mayor que el umbral de impedancia 2, y se inicia una función de cronometraje acumulativa, que acumula el tiempo hacia una duración de ciclo de sellado predeterminado. Cuando se alcanza tal tiempo de la duración del ciclo de sellado predeterminado, el suministro de energía cesa inmediatamente. En el evento 204 en donde la impedancia detectada es mayor que el umbral de impedancia 3, el suministró de energía se reduce ya sea inmediatamente durante el pulso instantáneo, o se reduce después de un corto retraso para servir el propósito de validar el incidente de la alta impedancia.

La Figura 4 es un diagrama de flujo que muestra los aspectos de un método y sistema para utilizar la impedancia detectada como datos de retroalimentación para controlar el suministro de energía FR durante un procedimiento de sellado electroquirúrgico . Los aspectos del método se basan en una colección y ajustador 100 de perfiles de pulso RF que incluyen un perfil inicial 101, un perfil elevado 102, y un perfil disminuido 103. El perfil inicial está predeterminado; los valores de los parámetros del valor de inicio RF, el valor final RF y la transición entre éstos (declive o aumento) todos pueden variar dentro de sus intervalos respectivos, como se muestra en la Tabla 1. Los parámetros de los perfiles disminuido y elevado también pueden variar por los intervalos de la Tabla 1, con la calificación de que los perfiles como un todo, son ya sea menores o mayores, respectivamente, que los parámetros del perfil del pulso inicial 101.

Antes del suministro de un pulso RF, un selector de pulso RF 110 selecciona qué perfil de pulso en la colección de perfiles (101, 102, o 103) suministrar al tejido 15? . El selector de pulso 110 hace la selección con base en la entrada del comparador de umbral 170 (ver adicionalmente , más adelante) . El sector del pulso RF 110 tiene una salida que conduce el punto de referencia para el generador de energía RF 120, que suministra un pulso de energía RF 140 que finalmente se dirige a un sitio de tejido objetivo 150. Como la energía que se está suministrando pasa a través de un mecanismo de intervención en la forma de atenuador de energía RF o bloque de reducción 130 que puede atenuar en el suministro de energía, en tiempo real, con base en los datos del comparador de umbral 170.

El sitio de tejido objetivo 150 es tanto el receptor de la energía RF 140 que se está suministrando por el sistema a través de los fórceps electroquirúrgicos 145, como la fuente para los datos de impedancia 160 que se transportan de regreso al sistema, se almacena en una memoria y se procesan por un procesador, como se representa por un comparador de umbral 170. El comparador de umbral lleva a cabo la vigilancia constante de los datos de impedancia detectados desde el tejido objetivo y compara estos datos contra tres umbrales de impedancia particulares, como se detalla en la Figura 2, y como se describe además más adelante con un resumen detallado de una modalidad del método .

Brevemente, estos umbrales de impedancia incluyen un umbral de impedancia para el punto de referencia RF 171, un umbral de impedancia para el cronometraje acumulativo de la duración del pulso 172, y un umbral de impedancia para la reducción de energía 173. Se puede ver que el resultado de una comparación 171 de los datos de impedancia con respecto al valor de umbral del punto de referencia RF se dirigen al selector y ajustador del perfil 110, que después típicamente asigna ya sea un perfil elevado 102 o un perfil disminuido 103 para el pulso posterior en respuesta a los datos entrantes. El resultado de la comparación 172 de los datos de impedancia con respecto a un umbral de impedancia para el tiempo acumulado está dirigido al generador de energía RF/bloque de suministro 120; si el tiempo acumulado es menor que la duración predeterminada, el bloque 120 es capaz de generar energía RF. Cuando el tiempo acumulado logra la duración del ciclo de sellado predeterminado, un suministro adicional de energía del bloque 120 se detiene. El resultado de la comparación de los datos de impedancia con respecto a un umbral de impedancia de reducción de energía 173 se dirige al bloque de reducción atenuador de energía RF 130. Si los datos de la comparación de impedancia 173 indican que la impedancia es menor que el umbral de impedancia de la reducción de energía, el suministro de energía procede sin atenuación. Si los datos de la comparación de impedancia 173 indican que la impedancia excede el umbral de impedancia para la reducción de energía, el suministro de energía procede con atenuación en tiempo real.

En algunas modalidades, en respuesta a la impedancia tisular que excede el umbral de impedancia para la reducción de energía, la energía se reduce en una cantidad proporcional a la cantidad total de. energía que se está suministrando durante un evento de alta impedancia. La cantidad fraccional a través de la cual se reduce la energía, en algunas modalidades, puede relacionarse con la cantidad proporcional a través de la cual la impedancia detectada está excediendo el umbral de impedancia para la reducción de energía, por ejemplo, si el umbral de impedancia para la reducción de energía es de 300 ohms y la impedancia detectada es de 450 ohms (50% mayor que el umbral de impedancia de 300 ohms), el suministro de energía puede reducirse en 50%. En algunas modalidades de este procedimiento de reducción de energía proporcional, la reducción se lleva a cabo en una forma en tiempo real continua, con la respuesta a la reducción de energía inmediatamente rastreando el grado en el cual la impedancia detectada excede el umbral para la reducción de energía.

La Tabla 1 resume los valores de varios parámetros asociados con el suministro de energía de radiofrecuencia y la impedancia tisular objetivo detectada durante un procedimiento de sellado tisular electroquirúrgico de acuerdo con los aspectos de los métodos descritos. El valor específico obtenido del intervalo (para valores RF y umbrales de impedancia) típicamente se predetermina y se fija de cualquier procedimiento electroquirúrgico dado, sin embargo estos valores predeterminados son ajustables dentro del intervalo.

Tabla 1. Parámetros del Método de Sellado por Radiofrecuencia La Tabla 2 resume los perfiles del pulso RF que siguen a un pulso precedente, según controlado por la impedancia tisular detectada durante el pulso precedente, así como otras respuestas del sistema a valores de impedancia detectados durante un ciclo sellado ilustrativo.

Tabla 2. Suministro de Energía Posterior y Consecuencias del Punto Final del Ciclo de Sellado a la respuesta de la Impedancia Tisular Detectada Durante el Suministro de Energía Una modalidad del método a través del cual la impedancia detectada controla el suministro de energía RF durante un ciclo de sellado tisular electroquirúrgico se resume a continuación. 1. Iniciar un ciclo de sellado con un pulso a un Valor de Inicio RF inicial predeterminado; elevar la energía a un grado de elevación RF inicial predeterminado durante el pulso hasta que la energía alcance un valor final RF; continuar a ese nivel de energía por la duración de la duración del curso predeterminado, y después cesar el suministro de energía para concluir el pulso. 2. Obtener los datos de impedancia tisular detectados continuamente a través del pulso inicial RF y cada pulso posterior. Todos los datos' de impedancia detectados se almacenan en una memoria a la cual el procesador tiene acceso. En varios aspectos del método, los datos de impedancia detectados de cualquier punto durante el pulso pueden utilizarse como un valor para compararlo con cualquiera o más de los tres valores de umbral de impedancia. En algunos aspectos del método, la impedancia detectada al final de un pulso es un valor particular utilizado de la comparación con valores de umbral de impedancia. 3. Continuamente comparar los valores' de impedancia detectados de todos los puntos durante un pulso con respecto a (a) un valor de umbral de punto de referencia RF de impedancia, (b) un umbral de impedancia para el umbral de cronometraje acumulado, y (c) un valor de umbral de reducción de energía de impedancia. Tomar el ciclo de sellado hacia delante de acuerdo con las siguientes opciones (4A, 4B, 4C, o 4D) , dependiendo del resultado de estas comparaciones. 4A. Si, al final de un pulso precedente, el valor de impedancia final del pulso detectado es menor que el umbral de impedancia para el valor del punto de referencia RF, suministrar energía durante el pulso posterior con un perfil de pulso sustancialmente idéntico al del pulso precedente. El ciclo de sellado procede en esta forma hasta que se obtiene una duración de tiempo de sellado predeterminada, como en 4C. 4B. Si, al final del pulso, el valor de impedancia final del pulso detectado es mayor que el umbral de impedancia del valor del punto de referencia RF, suministrar energía durante el pulso posterior con un perfil de pulso mayor que el del pulso precedente. En algunas modalidades del método, este aumento en el perfil del pulso ocurre una sola vez, durante el pulso que sigue el pulso inicial. En algunas modalidades del método, el perfil del pulso aumenta experimentando un aumento inmediato del valor de inicio RF al valor final RF (más bien que a través de un aumento en rampa, como es típico del pulso inicial) . El ciclo de sellado procede en esta forma hasta que se obtiene la duración del tiempo de sellado predeterminada, como en 4C. 4C. Si, en cualquier momento durante cualquier pulso, la impedancia detectada excede un umbral de impedancia para el tiempo de sellado acumulado, se inicia un cronometraje que corre desde una duración de tiempo de sellado predeterminada. Si la impedancia detectada cae por debajo de este umbral, el cronometraje acumulativo detiene el registro del tiempo. Después de completar la duración de tiempo de sellado predeterminada, el suministro de energía cesa, de esta forma concluyendo el ciclo de sellado. 4D. Si, en cualquier momento durante cualquier pulso, el valor de impedancia tisular excede el umbral de impedancia para el valor de umbral de la reducción de energía, el nivel de energía que se está suministrando se reduce. En algunas modalidades, la energía se reduce inmediatamente; en otras modalidades la energía se reduce de nuevo después del paso del tiempo de reducción de energía predeterminado. Después de la reducción de energía, el ciclo de sellado procede hasta que el umbral de impedancia para la reducción de energía se excede de nuevo (en cuyo caso, la energía se reduce de nuevo) , o hasta que el tiempo de duración de sellado predeterminado se obtiene, como en 4C, después de lo cual el suministro de energía cesa.

Las Figuras 5-8 proporcionan ejemplos y demuestran los aspectos del método de sellado tisular electroquirúrgico provisto en la presente. La Figura 5 es un diagrama de cronometraje que muestra un ejemplo de una rampa de suministro de energía mediada por la impedancia según ocurre en una serie de cuatro pulsos (40, 42, 44, y 46), cada uno de los cuales se predetermina como siendo de 3 segundos en duración. Como se ve en la Tabla 1, la longitud de los intervalos de pulsos puede predeterminarse para variar de esta duración de 3 segundos dentro de un intervalo de aproximadamente 0.5 segundos a aproximadamente 10 segundos.

En este ejemplo de la presente del método, los pulsos (o intervalos de pulso) todos son equivalentes en duración. En modalidades alternativas del método, la duración del pulso o los intervalos también pueden variar en longitud entre sí, ya sea a través del programa predeterminado o en respuesta a una comparación de los valores de impedancia detectados contra los valores de umbral de impedancia durante un ciclo de sellado. Cuando los pulsos son de una duración variable durante un ciclo de sellado, pueden predeterminarse ya sea para aumentar o disminuir en longitud a través de ciclo, o pueden aumentar o disminuir el cualquier patrón predeterminado. Cuando la longitud del pulso varía en respuesta a los valores de impedancia detectados, la longitud puede aumentar o disminuir en cualquier patrón.

En el ejemplo provisto en la Figura 5, la cantidad total de energía que se está suministrando disminuye con cada pulso sucesivo. El declive del primer intervalo de rampa 40 incluye una primera porción escalonada, una porción media hueca, y una tercera porción sustancialmente plana. Después de la conclusión del pulso, la energía se reduce y la siguiente rampa se inicia. En esta modalidad del método, el declive de cada rampa se ajusta en tiempo real, en respuesta al grado de cambio de la impedancia tisular durante el pulso precedente. El declive de la segunda rampa 42 incluye una porción inicial que es más superficial que la de la primera rampa 40; y el declive de la tercera rampa 44 es más superficial que la porción inicial de la rampa 42 precedente; y el declive inicial de la cuarta rampa 46 es aún más superficial. El área bajo la cual cada rampa indica la energía total suministrada al tejido durante la rampa. De esta forma, en este ejemplo, una disminución en la cantidad de energía se aplica durante cada pulso sucesivo. En otras modalidades del sistema y método, los valores RF en rampa y el declive entre ellos pueden variar independientemente en respuesta a los valores de impedancia detectados. Este patrón de una disminución gradual en energía que se está suministrando en cada pulso, después de la nivelación del suministro de energía típica de un ciclo de sellado electroquirúrgico en el cual la impedancia detectada cae por debajo del umbral de impedancia para el punto de referencia RF.

La Figura 6 es un diagrama de cronometraje que muestra un ejemplo de una rampa de suministro de energía mediada por la impedancia según ocurre en una serie de tres pulsos (50, 52, y 54) que se están operando de acuerdo con un aspecto del método. En la Figura 5, se suministra una rampa de energía inicial 50 al tejido. En este caso, en respuesta a las lecturas de impedancia tisular y la comparación con los valores de umbral de impedancia, un aumento en el perfil de pulso posterior al pulso inicial es provisto. Una vez que se obtiene la impedancia deseada, la energía suministrada al tejido en los pulsos 52 y 54 se mantiene a un nivel deseado durante un intervalo de tiempo predeterminado. Este patrón de un aumento gradual en la energía que se está suministrando en cada pulso, seguido por la nivelación del suministro de energía es típico de un ciclo de sellado electroquirúrgico en donde la impedancia detectada está excediendo el umbral de impedancia para el punto de referencia RF .

Las Figuras 7A y 7B son figuras anexas que muestran aspectos de eventos subyacentes en un procedimiento de sellado electroquirúrgico que ocurre en una serie de cuatro pulsos de 3 segundos, según provisto por un aspecto del método. La Figura 7A muestra el perfil de pulsos de energía RF suministrados durante el procedimiento, mientras que la Figura 7B se enfoca en el perfil de impedancia tisular coincidente. La longitud de cada pulso se marca como la duración de pulso RF y en número máximo de pulsos permitidos para cada sello se marca como el conteo de pulsos RF máximo. Los siguientes eventos ocurren durante este procedimiento de sellado tisular electroquirúrgico de ejemplo: 1. El primer pulso RF para un procedimiento de sellado tisular empieza a un nivel de energía marcado como el Valor de Inicio del Punto de Referencia RF (Figura 7A) . 2. El nivel de energía RF aumenta del Valor de Inicio del Punto de Referencia RF en un Grado de Aumento RF predeterminado hasta que el nivel de energía alcanza el nivel superior marcado como el Valor Final de Punto de Referencia RF . El nivel de energía RF permanece en este valor hasta que se obtiene el final del tiempo de pulso de 3 segundos (Figura 7A) . 3. Al final de cada pulso, el valor de impedancia tisular detectado se determina y registra como la impedancia final de pulso RF (Figura 7B) , y el nivel de energía después se fija en cero (Figura 7A) . 4. Para todos los pulsos posteriores para el primero, se hacen las siguientes evaluaciones (Figura 7A y 7B) ; a. Si la impedancia final del pulso RF es menor que él umbral para el punto de referencia RF, la energía RF suministrada ¦ se eleva a un grado idéntico al del primer pulso . b. Si la impedancia final del pulso RF es mayor que el umbral para el punto de referencia RF, la energía RF suministrada se aumenta directamente al valor final del punto de referencia RF .

La Figura 7B muestra el curso de los eventos de impedancia tisular que se relacionan con el control de el suministro de energía y la terminación del procedimiento electroquirúrgico . El ciclo de sellado termina cuando la impedancia tisular llega a un umbral de impedancia predeterminado para el tiempo acumulado (una falla o condición de error detectada también puede terminar un ciclo de sellado) . La detención del procedimiento de sellado de acuerdo con el valor de la duración del punto final de sellado acumulado corre como sigue: 1. La impedancia tisular se determina utilizando las señales de los circuito de hardware de monitoreo RF . 2. Cuando la impedancia tisular calculada excede el umbral de impedancia para el tiempo acumulado (en este ejemplo, 250 ohms) , se inicia un cronometraje del punto final acumulado. Cuando la impedancia tisular calculada cae por debajo del umbral de impedancia para el tiempo acumulado (por ejemplo, cuando se completa un pulso) , se detiene el cronometraje del punto final. De esta forma, el cronometraje registra solamente el tiempo total en donde la impedancia tisular es mayor que el umbral de impedancia para el tiempo acumulado. 3. Cuando el cronometrador acumula una cantidad predeterminada de tiempo, marcada como tiempo de punto final de sello, se detiene el suministro RF, el usuario del sistema es notificado de que el sello sea completado y el sistema se coloca en estado de listo.

La Figura 8 proporciona un ejemplo de un procedimiento de sellado tisular electroquirúrgico que se modifica con el fin de acomodar una baja cantidad del tejido dentro del sitio objetivo, entre las mordazas de los fórceps electroquirúrgicos . Una relativamente baja cantidad de tejido puede ocurrir cuando el tejido es particularmente delgado (por ejemplo, 0.5 mm de espesor o menor) , o cuando las porciones del electrodo no están en contacto con cualquier tejido. Como se describe anteriormente, una circunstancia de bajo tejido típicamente crea un alto nivel de impedancia. Los eventos mostrados en la Figura 8 ocurren durante un solo pulso de 3 segundos. Los siguientes pasos ilustran como los aspectos del método intervienen para corregir una presencia de bajo tejido. 1. La impedancia tisular se calcula utilizando las señales de los circuitos de hardware de monitoreo RF. 2. Cuando la impedancia tisular detectada excede el umbral de impedancia para reducción de energía. Durante una duración de tiempo marcada como el tiempo de reducción de impedancia (en este ejemplo, 0.1 segundo), el suministro RF se reduce disminuyendo el voltaje RF que se está suministrado (ver Tabla 1) . La reducción al suministro de energía se refleja en la caída inmediata en la impedancia tisular detectada. Si la impedancia tisular es para exceder el umbral de impedancia para reducción de energía, una segunda vez, el voltaje RF se reducirá de nuevo. 3. Cuando la impedancia tisular detectada excede un umbral de impedancia para el tiempo acumulado (en este ejemplo, 250 ohms) , se activa un cronometrador de punto final. Al finalizar la cantidad de tiempo predeterminada, el tiempo de punto final de sello (en este ejemplo, 1.5 segundos), como se registra por el cronometrador de punto final, el procedimiento electroquirúrgico o ciclo de sellado termina.

A menos que se defina lo contrario, todos los términos técnicos utilizados en la presente tienen el mismo significado comúnmente entendido por un experto en la técnica de la electrocirugía . Los métodos específicos, dispositivos y materiales se describen en esta solicitud, pero cualquier método y material similar o equivalente a los descritos en la presente puede utilizarse en la práctica de la presente invención. Aunque las modalidades de la invención han sido descritas con detalle y a través de ilustraciones, tales ilustraciones son para . el propósito de claridad en el entendimiento solamente, y no pretenden ser limitantes. Se han utilizado varios términos en la descripción para llegar al entendimiento de la invención; se entenderá que el significado de estos varios términos se extiende a variaciones lingüísticas o gramaticales comunes o sus formas. También se entiende que cuando la terminología se refiere a dispositivos o equipo, que estos términos o nombres son provisto como ejemplos contemporáneos, y que la invención no está limitada a este alcance literal. La terminología que se introduce en fecha posterior que puede razonablemente entenderse como un derivado de un término contemporáneo o el diseño de un subgrupo jerárquico abarcado por un término contemporáneo se entenderá como habiendo sido descrito por la terminología ahora contemporánea. Además, aunque algunas configuraciones teóricas han sido hechas por avanzado para proporcionar un entendimiento de los dinámicos de la respuesta tisular para absorber energía de radiofrecuencia, las consecuencias con respecto a la impedancia tisular, y la explotación de estos dinámicos hacia optimización del control de un sistema y método electroquirúrgico, las reivindicaciones de la invención no se unen a través de esta teoría. Además, cualquiera o más características de cualquier modalidad de la invención puede combinarse con cualquiera o más de otras características de cualquier otra modalidad de la invención, sin apartarse del alcance de la invención. Aún además, se deberá entender que la invención no está limitada a las modalidades que han sido establecidas para propósitos de ejemplificación, sino se definirán solamente por una lectura fiel de las reivindicaciones anexas a la solicitud de patente, incluyendo el intervalo completo de equivalencia a los cuales cada elemento de la misma se intitula.

Se hace constar que con relación a esta fecha, el mejor método conocido por la solicitante para llevar a la práctica la citada invención, es el que resulta claro de la presente descripción de la invención.

Claims (39)

REIVINDICACIONES Habiéndose descrito la invención como antecede, se reclama como propiedad lo contenido en las siguientes reivindicaciones:

1.- Un sistema electroquirúrgico caracterizado porque comprende : un generador RF configurado para suministrar energía a través de un dispositivo electroquirúrgico a un tejido objetivo en un ciclo de sellado que comprende una serie de pulsos, la serie iniciando con un pulso inicial que tiene un perfil que comprende un valor de inicio de nivel RF predeterminado que aumenta en un grado de aumento predeterminado a un valor final RF predeterminado; y un comparador configurado para comparar los valores de impedancia detectados de un tejido objetivo para cada uno de los tres valores de umbral de impedancia predeterminados, estos valores de umbral comprenden un valor de umbral de impedancia para un punto de referencia RF, un valor de umbral de impedancia para el tiempo acumulado, y un valor de umbral de impedancia para reducción de energía; en donde el generador RF además se configura para controlar el suministro de energía durante el ciclo de sellado respondiendo la comparación de los valores de impedancia detectados a los valores de umbral de impedancia.

2. - El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el sistema se configura para cesar el ciclo de sellado cuando el tiempo acumulado del tejido que muestra un valor de impedancia sobre el valor de umbral del tiempo acumulado de impedancia llega a un límite de duración de ciclo de sellado predeterminado.

3. - El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el valor de impedancia detectado al final del pulso precedente es menor que el valor de umbral de impedancia para el punto de referencia RF, el sistema se configura para controlar el suministro de energía al pulso posterior de tal forma que tiene el mismo perfil de pulso que el pulso inicial.

4. - El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el valor de impedancia detectado al final de un pulso precedente excede el umbral de impedancia del punto de referencia RF, el sistema además está configurado para controlar el suministro de energía al pulso posterior de tal forma que tiene un perfil elevado.

5.- El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 4, caracterizado porque el perfil elevado del pulso posterior comprende el aumento del principio del pulso desde valor de inicio RF directamente al valor final RF.

6.- El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 4, caracterizado porque el perfil elevado del pulso posterior comprende cualquiera o más de un valor de inicio RF aumentado, un valor final RF aumentado, y un grado de elevación aumentado desde el valor de inicio RF al valor final RF, según comparado con el valor de inicio RF, el valor final RF, y el grado de aumento, respectivamente del pulso precedente.

7. - El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque la impedancia detectada en cualquier momento durante un pulso excede el umbral de impedancia de la reducción de energía, el sistema se configura para reducir el suministro de energía.

8. - El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 7, caracterizado porque la reducción de energía comprende cualquiera de una reducción en el valor de inicio RF, una reducción en el valor final RF, o una reducción en el grado de elevación desde el valor de inicio RF al valor final RF, según comparado, respectivamente, con el valor de inicio RF, el valor final RF, o el grado de nivelación del pulso precedente.

9. - El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 7, caracterizado porque una reducción de energía comprende una reducción en la cantidad de energía que se está suministrando a través de una cantidad fraccional de la cual se está suministrando en el momento cuando la impedancia detectada excede el umbral de impedancia para la reducción de energía.

10. - Un método electroquirúrgico, caracterizado porque comprende : suministrar energía desde un dispositivo electroquirúrgico a un tejido objetivo en un ciclo de sellado que comprende una serie de pulsos, la serie iniciando con un pulso inicial que tiene un perfil que comprende un valor de inicio de nivel RF predeterminado que aumenta en un grado de nivelación predeterminado a un valor final RF predeterminado; comparar los valores de impedancia detectados de un tejido objetivo para cada uno de los tres valores de umbral de impedancia predeterminados, estos valores de umbral comprenden un valor de umbral de impedancia para el punto de referencia RF, un valor de umbral de impedancia para el tiempo acumulado y un valor de umbral de impedancia para la reducción de energía; controlar el suministro de energía durante el ciclo de sellado respondiendo la comparación de los valores de impedancia detectados a los valores de umbral de impedancia.

11. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque el control de suministro de energía durante el ciclo de sellado respondiendo a la comparación de los valores de impedancia detectados a los valores de umbral de impedancia comprende cesar el ciclo de sellado cuando un tiempo acumulativo del tejido muestra un valor de impedancia sobre el valor de umbral del tiempo acumulado de impedancia que llega a un límite de duración del ciclo de sellado predeterminado.

12. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque además comprende registrar el tiempo acumulado dentro de un ciclo de sellado sobre la marcha en donde el valor de impedancia del tejido detectado excede el valor de umbral de impedancia para el tiempo acumulado.

13. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque además comprende enviar los valores de impedancia tisular detectados a un procesador en todos los pulsos, cada pulso siendo ya sea un pulso precedente o pulso posterior o siendo un pulso final .

14. - El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque el valor de impedancia detectado al final del pulso precedente es menor que el valor de umbral de impedancia para el punto de referencia RF, el método además comprende controlar el suministro de energía al pulso posterior de tal forma que tiene el mismo perfil de pulso que el pulso inicial. ·

15. - El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque el valor de impedancia detectado en el final de un pulso precedente excede el umbral de impedancia del punto de referencia RF, el método además comprende controlar el suministro de energía al pulso posterior de tal forma que tiene un perfil elevado.

16. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 15, caracterizado porque el perfil elevado del pulso posterior comprende elevar el principio del pulso desde valor de inicio RF directamente al valor final RF.

17. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 15, caracterizado porque el perfil elevado del pulso posterior comprende cualquiera o más de un valor de inicio RF aumentado, un valor final RF aumentado, y un grado de nivelación aumentado desde el valor de inicio RF al valor final RF, según comparado, respectivamente, con el valor de inicio RF, el valor final RF, y el grado de nivelación del pulso precedente.

18. - El sistema electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque la impedancia detectada en cualquier momento durante un pulso excede el umbral de impedancia de la reducción de energía, el método además comprende reducir el suministro de energía.

19. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 18, caracterizado porque la reducción del suministro de energía comprende la reducción del suministro de energía inmediatamente.

20. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 18, caracterizado porque la reducción del suministro de energía comprende esperar durante una cantidad de tiempo transcurrido predeterminada acumulado durante la cual la impedancia detectada excede el umbral de impedancia para la reducción de energía antes de la reducción del suministro de energía.

21. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 18, caracterizado porque la reducción del suministro de energía comprende cualquiera o más de la reducción del valor de inicio RF, la reducción del valor final RF, o reducir el grado de nivelación del valor de inicio RF al valor final RF, según comparado con el valor de inicio RF, el valor final RF, y el grado de nivelación, respectivamente al pulso precedente.

22. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 18, caracterizado porque la reducción del suministro de energía comprende disminuir el suministro de energía a través de una cantidad fraccional de la cual se está suministrando.

23. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 22, caracterizado porque la disminución de la cantidad de energía que se está suministrando comprende disminuir el suministro de energía a través de una cantidad fraccional que corresponde a la cantidad fraccional a través de la cual la impedancia detectada excede el umbral de impedancia para la reducción de energía.

24. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 22, caracterizado porque la disminución de la cantidad de energía que se está suministrado a través de una cantidad fraecional comprende disminuir la cantidad de energía en una forma en tiempo real continua.

25. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque los pulsos son cada uno de una duración constante que está en el intervalo de aproximadamente 0.5 seg a aproximadamente 10 seg.

26. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque la duración del punto final de sellado acumulado está entre aproximadamente 0.1 seg a aproximadamente 5 seg.

27. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque el valor de inicio RF está en el intervalo de aproximadamente 25 vatios a aproximadamente 150 vatios.

28.- El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque el valor final RF está en el intervalo de aproximadamente 50 vatios a aproximadamente 150 vatios.

29.- El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque el umbral de impedancia para el punto de referencia RF está en el intervalo de aproximadamente 5 ohms a aproximadamente 250 ohms .

30. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque el umbral de impedancia para el valor de reducción de energía está en el intervalo de aproximadamente 100 ohms a aproximadamente 900 ohms .

31. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque el umbral de impedancia para el valor del tiempo acumulado está en el intervalo de aproximadamente 100 ohms a aproximadamente 750 ohms .

32. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado porque el suministro de energía comprende aumentar el nivel de energía que se está suministrando desde un valor de inicio RF predeterminado a un valor final RF predeterminado durante un pulso.

33. - Un método electroquirúrgico, caracterizado porque comprende: suministrar energía desde un dispositivo electroquirúrgico a un ciclo de tejido objetivo en un ciclo de sellado que comprende una serie de pulsos, cada pulso de una duración de pulso predeterminada, la serie de pulsos iniciando con un pulso inicial que tiene un perfil de pulso inicial que comprende un valor de inicio de nivel RF predeterminado que aumenta a un valor final RF predeterminado durante pulso; detectar los valores de impedancia del tejido durante cada pulso, cada pulso siendo ya sea un pulso precedente a un pulso posterior o siendo un pulso final; controlar el suministro de energía durante el ciclo de sellado de tal forma que: a. un perfil de un pulso sucesor con relación al perfil de su pulso precedente tiene cualquiera de un perfil idéntico o un perfil de energía superior, dependiendo de la comparación del valor de impedancia mostrado por el tejido durante el primer pulso contra un valor de umbral de impedancia predeterminado para el punto de referencia RF . b. la energía se reduce durante un pulso cuando el valor de impedancia detectado excede un valor de umbral predeterminado para la reducción de energía; y c. el suministro de energía cesa cuando una cantidad de tiempo acumulada que la impedancia detectada ha excedido a un valor de umbral de impedancia predeterminado para el tiempo acumulativo se ha acumulado en un límite de duración de ciclo de sellado predeterminado.

34. - El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 33, caracterizado porque: cuando la impedancia detectada excede el valor de umbral predeterminado para el punto de referencia RF, el perfil de energía de un pulso posterior excede el perfil de energía de un pulso precedente; y cuando la impedancia detectada es menor que el valor de umbral predeterminado para el punto de referencia RF, el perfil de energía del pulso posterior es idéntico al perfil de energía del pulso precedente.

35.- El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 33, caracterizado porque el perfil de energía del pulso comprende un valor de inicio RF, un valor final RF, una fase de transición entre el valor de inicio RF y el valor final RF.

36.- El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 33, caracterizado porque un perfil de energía de pulso disminuida de un pulso sucesor, con respecto al pulso precedente, comprende cualquiera de un valor de inicio RF disminuido, un valor final RF disminuido, o un grado disminuido de transición desde el valor de inicio RF al valor final RF.

37.- El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 33, caracterizado porque un perfil de pulso de energía aumentado de un pulso sucesor, con respecto al pulso precedente, comprende cualquiera de un valor de inicio RF mayor, un valor final RF mayor, o un grado mayor de transición del valor de inicio RF al valor final RF.

38.- El método electroquirúrgico de conformidad con la reivindicación 33, caracterizado porque la transición del valor de inicio RF al valor final RF comprende cualquiera de una transición en declive o una transición escalonada.

39.- Un método electroquirúrgico caracterizado porque comprende : suministrar energía desde un dispositivo electroquirúrgico a un tejido objetivo en un ciclo de sellado que comprende una serie de pulsos, cada pulso de una duración predeterminada, la serie de pulsos inicia con un pulso inicial que tiene un perfil que comprende µ? valor de inicio de nivel RF predeterminado que aumenta en un grado de nivelación predeterminado a un valor final RF predeterminado ; detectar los valores de impedancia tisular en cada pulso, cada pulso siendo ya sea un pulso preferente a un pulso posterior, o siendo un pulso final; comparar los valores de impedancia detectados en cada uno de los tres valores de umbral de impedancia predeterminados, estos valor de umbral comprende un valor de umbral de impedancia para el punto de referencia RF, un valor de umbral de impedancia para el tiempo acumulado, y un valor de umbral de impedancia para la reducción de energía ; controlar el suministro de la energía durante el ciclo de sellado respondiendo a la comparación de los valores de impedancia detectados a los valores de umbral de impedancia, de tal forma que el ciclo de sellado cesa cuando el tiempo acumulado del tejido que muestra un valor de impedancia sobre el valor de umbral del tiempo acumulado de impedancia alcance un límite de duración del ciclo de sellado predeterminado.