METODO Y APARATO PARA RECUBRIMIENTO SUAVE DE SUSTRATOS DESCRIPCION DE LA INVENCION La presente invención es concerniente con un método y aparato que permiten cubrir suavemente una superficie de un sustrato con un líquido o una sustancia disuelta en un líquido y en particular, un concepto que permite aplicar uniformemente un recubrimiento químico a un sustrato. En particular, el recubrimiento de un lado, ataque por ácido, limpieza, secado de objetos planos tales como por ejemplo, hojas de vidrio de forma de placa o materiales flexibles se hace posible. Aplicaciones en donde los sustratos de portador deben ser cubiertos por una capa delgada de un material adicional son múltiples. En este contexto, la capa aplicada adicionalmente puede ser activa, por ejemplo, esto es, exhibir por ejemplo una función óptica o eléctrica. Ejemplos de esto son la aplicación de una capa fotosensible en la producción de celdas solares o aplicación de una capa de fósforo delgada sobre un CCD para proporcionar a la misma con una capa de conversión, de tal manera que la CCD en combinación con la capa de conversión también será sensible a la reacción X. En el caso de recubrimiento liso con capas delgadas que no efectúan ninguna función activa, el recubrimiento sirve frecuentemente como protección mecánica, como es el caso por ejemplo, con CD de audio, aquí, después de la producción de CD, una capa protectora de una resina sintética transparente es aplicada al
lado que se puede leer ópticamente de CCD para proteger al mismo contra los daños. En este contexto, se requiere que el espesor de capa de la capa protectora sea aplicada tan uniformemente como sea posible en toda la preforma de CD para no influenciar, en dependencia de la posición, las propiedades ópticas con respecto a por ejemplo, absorción y comportamiento de reflejo de un CCD. Cuando se aplican capas óptica o eléctricamente activas también, la uniformidad de la aplicación o adherencia a un espesor de capa deseado específico es un objetivo principal, puesto que el extensor de capa o su homogeneidad tiene una influencia inmediata sobre por ejemplo, los parámetros ópticos o eléctricos de un componente producidos por medio de recubrimiento . En métodos litográficos que incluyen el procesamiento de una superficie semiconductora por medio de ataque por ácido, es esencial que la superficie semiconductora pueda ser cubierta de manera controlada con un agente de ataque por ácido a un espesor uniforme y de tal manera que el avance del ataque por ácido sea efectuado a la misma velocidad en toda el área superficial del semiconductor a ser procesado. El arte previo ha conocido varios métodos para obtener el recubrimiento liso de una superficie. Con los CD, por ejemplo, la superficie a ser recubierta se hace girar rápido, un material usado para el recubrimiento es luego
aplicado en la vecindad del eje de rotación, de tal manera que i el material es distribuido automáticamente mediante las fuerzas centrífugas sobre la superficie del disco al cual se adhiere en un espesor de campo uniforme a cuenta de las fuerzas adhesivas. Métodos adicionales conocidos son por ejemplo, electrodeposición, esto es, deposición electroquímica de iones que están disueltos en un líquido sobre una superficie también como atomización de una superficie o sumergir las superficies a ser recubiertas en un baño de material usado para el recubrimiento. Con métodos químicos basados en que por lo menos dos reactivos, que pueden formar, mediante reacción química, el material usado para recubrimiento, son aplicados a la superficie del sustrato de tal manera que, debido a la reacción química el material se depositará sobre la superficie, un número de condiciones básicas adicionales tienen que ser observadas. Por una parte, la reacción química que forma el material de recubrimiento no toma lugar sobre la superficie solamente si no que también dentro del volumen de líquido formado de los reactivos formados. Dependiendo de la velocidad de reacción, es por consiguiente por lo menos inconveniente o aún imposible mantener un gran inventario de reactivos premezclados para llevar a cabo, por ejemplo, un proceso de inmersión, puesto que, dentro del volumen grande de líquido mantenido en inventario, los reactivos se consumirán pos sí
mismos como si se les hiciera reaccionar. De esta manera, reactivos valiosos eran desperdiciados por una parte en tanto que por otra parte, procesos de recubrimiento futuros usando la mezcla consumida de reactivos ya no será posible. El límite de tiempo para el procesamiento requiere adicionalmente el uso económico de la mezcla de reactivos durante la aplicación en la superficie a ser recubierta, puesto que será difícil reutilizar la mezcla de reactivos para procesamiento adicional una vez que se detiene de fluir o es removida de la superficie. Métodos en donde una mezcla de reactivos es distribuida sobre la superficie por medio de rotación, por ejemplo, son por consiguiente desventa osos puesto que la mayoría de mezcla de reactivos es removida o centrifugada de la superficie. Un método para obtener reacción acelerada relativos no antes de que lleguen a la superficie del sustrato a ser recubierto es descrito por la Publicación de Patente Internacional WO03/021648 Al, que describe un proceso de recubrimiento de superficie química para formar una película semiconductora ultra delgada de componentes del grupo IIB-VIA sobre un sustrato. En este contexto, una composición líquida premezclada que contiene componentes del grupo IIB y el grupo VIA es dispuesta sobre una superficie calentada, de tal manera que, a cuenta del calor del sustrato, se permite una reacción heterogénea entre los diferentes elementos del grupo de recubrimiento líquido. La reacción sobre la superficie del
sustrato es acelerada al suministrar energía térmica. Es un objeto de la presente invención proporcionar un método y aparato que permitan cubrir una superficie de un sustrato más eficientemente con un líquido o una mezcla de reactivos con un espesor de capa uniforme. Este objeto es obtenido por un aparato como se reivindica en la reivindicación 1 y por un método como se reivindica en la reivindicación 18. En este contexto, la presente invención está basada en el hallazgo de que la superficie de un sustrato puede ser cubierta uniformemente con un líquido cuando el sustrato se fija en medios de retención que forman, junto con la superficie del sustrato, un volumen de proceso al cual el líquido puede ser aplicado a la superficie del sustrato por medio de elementos de humectación y cuando, además, los medios de retención que incluyen el sustrato es fraguado en un movimiento oscilante por medio de elementos de oscilación, de tal manera que el líquido se esparcirá uniformemente sobre la superficie del sustrato. Mediante el movimiento oscilante, la concentración del volumen de líquido en un sitio específico de la superficie del sustrato es impedida, puesto que la dirección de movimiento líquido cambia constantemente. Además, el consumo de reactivos o líquidos para recubrimiento puede ser reducido a una gran extensión puesto que, debido a la dirección de movimiento constantemente cambiante de líquido sobre la
superficie del sustrato, la superficie es cubierta uniformemente sin que una gran cantidad de líquido se pierda en los bordes u orillas del sustrato al hacer fluir el sustrato a lo lejos de la superficie. Así, el recubrimiento, ataque por ácido, limpieza y secado de objetos planos, tales como hojas de vidrio en forma de placa o materiales flexibles, en una manera de un lado, es habilitado de acuerdo con la invención. Objetos planos, esto es, objetos que tienen un espesor delgado en una dirección perpendicular a una superficie principal extensa serán denominados a continuación en resumen como sustratos. Estos pueden ser, por ejemplo, hojas de vidrio, superficies semiconductoras u objetos similares, que pueden también ser flexibles . De acuerdo con la invención, tal sustrato puede ser tratado, por ejemplo, con CdS fabricado de los reactivos amoníaco, agua, sulfato de cadmio o acetato y tiourea. El tratamiento con componentes adicionales tales como reactivos alternativos, por ejemplo con acetato de Zn también es posible. En una modalidad de la presente invención, un sustrato a ser cubierto se fija en medios de retención, el sustrato es prensado, desde el fondo del sustrato, contra una cámara de proceso de los medios de retención por medio de un bastidor de soporte, los medios de retención forman un volumen de proceso a lo largo de la superficie del sustrato. La cámara
de proceso está configurada de tal manera que proporciona selladores en los bordes adjuntos a la superficie del sustrato, de tal manera que un líquido aplicado a la superficie del sustrato por medio de elementos de humectación no puede fluir de la superficie. Los medios de aplicación se hacen mover, junto con el sustrato fijado al mismo, de manera oscilante mediante elementos de oscilación, esto es, el ángulo de inclinación de la superficie del sustrato en relación con una posición de partida paralela a la superficie es cambiado continuamente de manera controlada, el líquido localizado sobre la superficie del sustrato que fluye en direcciones cambiantes constantemente a cuenta de la influencia de la gravedad.- La oscilación de la superficie puede ser provocada de tal manera que la superficie es inclinada en relación con dos ejes localizados en un plano que se extiende en paralelo con la superficie del sustrato. Para permitirla oscilación en todas direcciones, los dos ejes deben tener un ángulo en relación entre sí que puede ser de 90°, por ejemplo. Los ejes en relación con los cuales el plano es inclinado pueden también ser variables en el tiempo. Un movimiento oscilante, esto es, inclinación del plano puede ser provocado por ejemplo, al soportar el sustrato en tres puntos (es decir, que definen un plano) siendo posible hacer mover independientemente los tres puntos de soporte en una dirección frontal a la superficie del sustrato.
Debido al movimiento oscilante constante, que puede ser efectuado tan prematuramente como al inicio de la humectación mediante los medios de humectación, el líquido introducido al volumen de proceso es distribuido uniformemente, de tal manera que, con el recubrimiento químico de la superficie, se tendrá como resultado un recubrimiento de superficie que tiene una distribución de espesor uniforme. Los efectos del borde, que resultarían sobre las paredes del volumen de proceso debido a las fuerzas adhesivas si la superficie es solo atomizada con el líquido de una manera uniformemente delgada, también son evitados, en particular mediante la oscilación. Tales efectos del borde darían como resultado que los bordes del sustrato, en donde la superficie del sustrato se apunta a los medios de retención, una capa más gruesa de líquido estaría presente sobre la superficie del sustrato que en las áreas centrales del sustrato, de tal manera que un recubrimiento resultante del mismo ya no sería homogéneo en términos de espesor. Esto puede ser evitado de una manera simple y eficiente mediante movimiento oscilante. ' En una modalidad adicional de la presente invención, los medios de humectación permiten la introducción simultánea de diferentes líquidos al volumen de proceso de tal manera que, con el recubrimiento químico, la mezcla de los reactivos que forman el recubrimiento no es efectuada hasta el mismo momento en que la superficie del sustrato es humectada, de tal manera
que no se tiene como resultado reducción en la eficiencia o desperdicio de los reactivos, como es el caso cuando ya están previamente mezclados y son mantenidos en inventario en estado mezclado . Para reducir adicionalmente el tiempo de mezcla y así para incrementar adicionalmente la eficiencia, los medios de humectación en una modalidad adicional de la presente invención comprenden medios mezcladores a los cuales líquidos diferentes (por ejemplo, reactivos de un recubrimiento químico) fluyen antes de la aplicación a la superficie del sustrato, de tal manera que se puede obtener una mezcla más rápida y más uniforme . En otras palabras, la dosificación de reactivos aplicados al sustrato puede ser efectuada de diferentes maneras. Con la dosificación individual sobre la superficie, los compuestos químicos son suministrados a la cámara de proceso o al volumen de proceso individualmente. Dependiendo de los requerimientos de proceso, el orden de la dosificación y la duración de la dosificación (el tiempo de dosificación) pueden ser especificados. Con la dosificación de tanque mezclador, varios compuestos químicos pueden ser premezclados en un tanque mezclador y suministrados al sustrato o el volumen de proceso. En una modalidad adicional de la presente invención, la dosificación combinada es posible, en donde algunos de los compuestos químicos son premezclados en un tanque mezclador o
un tubo mezclador para ser suministrados a la cámara de proceso en un estado premezclado. Reactivos adicionales pueden ser aplicados directamente al sustrato o suministrados a la cámara de proceso sin ser premezclados con otros reactivos. En este contexto, el orden de suministro y el tiempo de dosificación respectivo puede ser escogido libremente y/o hacerse variar. Además, es posible de acuerdo con la invención efectuar la dosificación con el movimiento oscilante extendido, para utilizar eficientemente, por completo, el tiempo requerido para dosificar o suministrar los compuestos químicos. Una multitud de detectores o agregados pueden ser usados para la dosificación, esto es, para determinar el volumen o cantidad suministrada (peso o similar) tal como, por ejemplo, una celda detectora, un interruptor de flotación, un medidor de flujo de aleta o una bomba de dosificación. En una modalidad adicional de la presente invención, es posible, además, traer los reactivos a ser suministrados a una temperatura diferente de la temperatura del sustrato. Esto significa, consecuentemente, que los reactivos pueden ser aplicados al sustrato en un estado frío, a temperatura ambiente o en un estado calentado. Por consiguiente, dependiendo de los requerimientos del proceso específico, todas o algunas técnicas de dosificación usadas pueden estar equipadas adicionalmente con agitadores, calentadores o enfriadores. En una modalidad adicional de la presente invención,
el volumen de proceso formado por los medios de retención puede ser sellado de manera hermética al gas, de tal manera que ya no hay peligro de ningún efecto negativo sobre el medio ambiente cuando se usan reactivos de gasificación que son peligrosos para la salud. En una modalidad adicional de la presente invención, los medios de retención son implementados de tal manera que el componente de los medios de retención que limita el volumen de proceso exhibe, cuando es colocado sobre el sustrato, una superposición espacial con el sustrato que no excede del 5% de la superficie del sustrato, de tal manera que, de acuerdo con la invención, solamente una pequeña fracción de la superficie de sustrato disponible se hace inaccesible para etapas de proceso adicionales mediante sellado. En una modalidad adicional de la presente invención, los medios de retención son implementados de tal manera que, en un estado abierto permiten el acceso sin impedimentos al sustrato desde por lo menos un lado de los medios de retención, de tal manera que el estado abierto de los medios de retención, el sustrato puede ser tanto movido hacia dentro y hacia fuera del área de los medios de retención. En una modalidad adicional de la presente invención, el aparato de la invención comprende adicionalmente medios de calentamiento implementados para calentar el sustrato a una temperatura de calentamiento predeterminada, de tal manera que,
debido a la energía térmica suministrada, un proceso químico que puede producir un material a ser recubierto es acelerado principalmente sobre la superficie del sustrato. En este contexto, la oscilación asegura que la concentración de los reactivos sea la misma, en promedio, en cada sitio de la superficie, de tal manera que la velocidad de reacción de los reactivos sobre la superficie del sustrato puede ser incrementada sin obtener un espesor de capa incrementado localmente, por ejemplo, en el sitio en donde los compuestos químicos son alimentados. De esta manera, se pueden reducir adicionalmente las pérdidas inevitables debidas a los reactivos que no reaccionan sobre la superficie del sustrato. En una modalidad adicional de la presente invención, el sustrato es calentado a una temperatura más alta junto con el compuesto químico suministrado. Esto significa que el sustrato es ajustado a presión sobre el calentador. Los reactivos son agregados. La temperatura de calentamiento es todavía menor que la temperatura de partida para la reacción química. En particular, esto significa que al comienzo, la temperatura del sustrato es menor o igual que la temperatura del compuesto químico. Durante el movimiento oscilante, la temperatura de calentamiento es incrementada lentamente al valor deseado. De esta manera, un inicio lento de la reacción y un recubrimiento uniforme toman lugar. Esto es posible, en particular, puesto que la temperatura del sustrato, al momento
de alimentación del compuesto químico es todavía menor que la temperatura de reacción del compuesto químico, esto es, también por debajo de la temperatura del compuesto químico, de tal manera que el proceso de recubrimiento no es iniciado tan prematuramente como al primer contacto del compuesto químico que es alimentado. En una modalidad adicional de la presente invención, el dispositivo de retención es implementado de tal manera que, en el estado abierto, un sustrato por ejemplo, o una placa de vidrio, puede ser transportada al dispositivo de retención o fuera del mismo desde un lado del dispositivo de retención por medio de equipos de manejo convencional, esto es, utilizando medios de transporte comunes, de tal manera que el aparato de la invención puede ser integrado fácilmente a plantas de producción existentes. Modalidades preferidas de la presente invención serán explicadas en detalle posteriormente en la presente para referencia a las figuras adjuntas, en donde: Las Figuras la-c muestran una modalidad de un dispositivo de retención de la invención con la dirección del movimiento del movimiento oscilante; La Figura 2 muestra una vista lateral de una modalidad de un aparato de la invención para recubrir uniformemente una superficie y La Figura 3 muestra una vista seccional de una
modalidad de un aparato de la invención para recubrir uniformemente una superficie de un sustrato. La figura 4 muestra una vista seccional adicional de una modalidad de la presente invención; La Figura 5 muestra una vista en perspectiva de una modalidad de la presente invención; La Figura 6 muestra una vista superior de una modalidad de la presente invención; La figura 7 muestra una modalidad de medios de oscilación de la invención y La Figura 8 muestra una vista en perspectiva de una modalidad de la presente invención. La Figuras la a le muestran una representación esquemática del modo de operación del aparato de la invención para humectar uniformemente una superficie de un sustrato. En una vista lateral y una vista en perspectiva, las figuras la a le muestran el sustrato 10 y los medios de retención que consisten de una parte superior 12a y una parte inferior 12b. La Figura la muestra el estado abierto de los medios de retención y las Figuras Ib y le muestran su estado cerrado. Como se muestra en la Figura la, la parte superior 12a y la parte inferior 12b en los medios de retención están inicialmente separados espacialmente , el sustrato 10 está ubicado entre la parte superior 12a y la parte inferior 12b,
siendo posible en la aplicación industrial que el sustrato 10 sea transportado ahí por medio de equipo de manejo de sustratos convencionales . En el estado cerrado de los medios de retención, el sustrato 10 es procesado contra la parte superior 12a por la parte inferior 12b, de tal manera que la superficie del sustrato 10 que va a ser recubierta (parte superior) forma, junto con la parte superior 12a de los medios de retención, un volumen de proceso al cual se pueden introducir compuestos químicos al volumen de proceso sobre la superficie del sustrato a través de un orificio 14. De acuerdo con la invención, los medios de- retención que incluyen el sustrato 10 se fijan sobre medios de oscilación los cuales se pueden asimilar los medios de retención que incluyen el sustrato en relación con por lo menos dos ejes no paralelos, de tal manera que toda la disposición es ajustada en un movimiento oscilante. El movimiento oscilante está caracterizado porque la disposición no sufre, tal como se promedia como el paso del tiempo, ya sea alguna rotación o alguna traslación, si no que el plano formado por la superficie del sustrato es inclinada en orientaciones cambiantes conjuntamente en relación con su posición de partida. Como ejemplo de ejes potenciales mediante los cuales se puede efectuar la inclinación para producir el movimiento oscilante, direcciones de inclinación mutuamente ortogonales 16a y 16b son
solamente dadas como ejemplo en la Figura Ib. El mecanismo oscilante puede ser realizado, por ejemplo, por medio de tres soportes hidráulicos que son controlables separadamente entre sí, como se ilustra en las figuras le. La Figura le muestra, como los medios de oscilación, tres cilindros hidráulicos controlables individualmente 18a a 18c sobre los cuales se transporta el lado inferior 12b de los medios de retención. El plano de fluido por los puntos de soporte de los cilindros hidráulicos 18a a 18c que es paralelo a la superficie del sustrato 10, puede ahora ser inclinado a cualquier orientación deseada al hacer mover independientemente los cilindros hidráulicos individuales, que pueden provocar, de acuerdo con la invención, un movimiento oscilante de los medios de retención. Lo que es ventajoso en este contexto, es que los compuestos químicos usados para recubrir el sustrato pueden también ser colocados al orificio 14 tan tardíamente como el movimiento oscilante, para no iniciar una reacción química hasta directamente al inicio del proceso de recubrimiento. Esto es ventajoso, por ejemplo, para incrementar la eficiencia de recubrimiento de placas de vidrio con CdS fabricados de los reactivos amoníaco, agua, sulfato de cadmio o acetato de cadmio, tiourea, agua desionizada. Una ventaja principal de los medios de contención consisten además en que los sustratos de varios espesores
pueden ser fijados por medio del mecanismo de fijación puesto que la fijación es definida vía la presión aplicada. El ajuste de la separación correspondiente al espesor del sustrato es por consiguiente no necesario, lo que permite la utilización flexible aún con diferentes sustratos sucesivos. La Figura 2 muestra una vista lateral de una modalidad de un aparato de la invención para recubrir uniformemente una superficie de un sustrato. Lo que se muestra es una parte inferior 20a y una parte inferior 20b de medios de retención, la parte superior 20a que forma, junto con el sustrato, la cámara de proceso. Lo que también se ilustra es una placa de vidrio 22 que representa el sustrato a ser recubierto, cilindros hidráulicos 24a, 24b y 24 c (cilindros para levantar/hacer descender y ajuste a presión de la cámara de proceso) también como cilindros hidráulicos auxiliares 26a y 26b (cilindros para el dispositivo de sustrato de hoja de vidrio) . Además, se muestran barras de guía 28a y 28b que aseguran que un movimiento de la parte superior 20a del dispositivo de retención, en relación con la parte inferior 20b puede tomar lugar solamente en dirección vertical a lo largo de un eje definido precisamente. Los cilindros hidráulicos 24a, b y c son unidos a la tierra vía los pistones, un elemento de condensación 27a está ubicado en el extremo del viaje dinámico, esto es, en el extremo de los pistones hidráulicos. Los cilindros hidráulicos
auxiliares 26a y 26 b son estabilizados por medio de dos barras de guía 27 b y 27 c que se extienden dentro de un rodamiento de guía 27 d que permite que viajen en una dirección perpendicular a la superficie del sustrato (dirección de movimiento 32) . Los cilindros hidráulicos auxiliares 26a y 26b son unidos a las dos barras de guía vía una cabeza de horquillas 27e. La Figura 2 muestra el aparato de la invención para cubrir uniformemente una superficie de un sustrato en una posición abierta, a la cual el sustrato 22 o la hoja de vidrio puede ser transportada, en una dirección de alimentación 30, hacia dentro o hacia fuera del aparato por medio de equipo de manejo de sustratos comercial. La dirección de movimiento 32, a lo largo de la cual la parte superior 20a se puede mover en relación con la parte inferior 20b del dispositivo de retención es especificada esencialmente por las barras de guía 28a y 28b. En un lado, las barras de guía 28a y 28b son afianzadas fijamente con la tierra por medio de un elemento de bloqueo de guía 23f. en el otro lado, la barra de guía son retenidas por medio de un rodamiento de guía 27g fijo en relación con la parte superior 28. El rodamiento de guía permite que la parte superior 27a sea movida en dirección del movimiento 32, siendo posible definir de manera precisa la dirección de movimiento por los rodamientos de guía y las barras de guía 28a y 28b, de tal manera que los cimientos hidráulicos 24a, 24b y 24c ahora solamente tienen que producir la fuerza necesaria para el
movimiento, sin embargo, sin tener que definir de manera precisa la dirección de movimiento del mismo. La placa de vidrio 22 se puede fijar en los medios de retención en que es sujetada entre la parte superior 20a y la parte inferior 20b de los medios de retención. Por consiguiente, tableros de plástico son montados sobre la parte inferior 20a en el lado de frente a la placa de vidrio 22, para impedir que la placa de vidrio sea dañada. Además, se proporciona un sello sobre el lado inferior de la parte 22a de tal manera que, cuando la placa de vidrio 22 es prensada contra la superficie superior 20a de los medios de retención, definirá, junto con la parte superior 20a de los medios de retención un volumen de proceso de cual' un líquido introducido al volumen de proceso no puede fluir hacia fuera. Para cerrar el dispositivo de retención, la placa de vidrio 22 es levantada inicialmente por medio de los cilindros auxiliares 26a y 26b y mordazas 34a y 34b dispuestas sobre los cilindros auxiliares 16a y 16b y es prensada contra la parte superior 20a de los medios de retención. La presión necesaria no necesita ser suficientemente fuerte para obtener el sellado completo, puesto que este proceso solamente sirve para impedir que la placa de vidrio 22 se resbale fuera de su lugar durante el abatimiento o descenso subsecuente de la parte superior 20a con la placa de vidrio 22 prensada contra la parte superior. El cierre completo se obtiene luego por medio de los cilindros hidráulicos 24a a 24c que hacen descender la parte superior 20a
hasta que hace contacto con la parte inferior 20b, de tal manera que la placa de vidrio es sujetada entre la parte superior 20a y 20b, la presión de ajuste tiene que ser dosificada por los cilindros hidráulicos 24a a 24c, de tal manera que el sellado es obtenido entre la parte superior 20a y la placa de vidrio 22. Después de hacer descender la parte superior 20a, se tiene asi una configuración en donde un sustrato 22 o placa de vidrio está fijo, por medio de los medios de retención, de tal manera que se forma un volumen de proceso mediante la superficie del sustrato del dispositivo de retención. Como ya se mencionó, la placa de vidrio 22 viene a apoyarse sobre los tableros de •rplástico 27h, que son dispuestos sobre un bastidor de soporte 27i que lleva la carga mecánica. Ranuras de ventilación 27j son dispuestas adicionalmente en los tableros de plástico son además arreglados en los tableros plásticos para permitir que el aire atrapado entre la placa de cristal y los tableros de plástico cuando la placa de cristal 22 es ligeramente presionado para liberarlo. Además, las hendiduras para centrar los dedos que se fijan en la parte superior 20a y la parte inferior 20b serán presionados en una posición fija predeterminada. Un líquido o una mezcla de productos químicos se puede ahora colocar en el compartimiento de proceso sobre la superficie del sustrato por medio de una soldadura de fijación o de una abertura de alimentación 36 para realizar un proceso de recubrimiento.
De acuerdo con la invención, los medios de retención representados en la Figura 2 se aseguran a los medios de oscilación que establece todo el arreglo en un movimiento de oscilación para permitir suavemente el recubrimiento de la superficie de la capa de vidrio 22. Preferiblemente, para suministrar o quitar un sustrato o una placa de cristal 20, el sustrato se puede remover de o transportar en el aparato de la invención en un punto conveniente de la transferencia o por medio de medidas convenientes (a lo largo de la dirección 30 de alimentación del disco) por medio del equipo en dirección convencional del sustrato. En este contexto, el punto de transferencia o equipo de manejo puede ser una pista de rodillos comercial, un impulsor de banda o los semejantes. Preferiblemente, el extremo de avance (aquel lado de la hoja de vidrio que va a ser recubierto) que es el extremo superior, no se pone en contacto mecánicamente ya sea con el equipo de manejo o en el aparato de la invención, puesto que esta placa de vidrio puede ser pre-tratada, por ejemplo, su estado puede ser mojado, húmedo o completamente seco. Como se puede ver en la figura 2, el equipo de manejo puede introducir el sustrato a la disposición de proceso abierto a través de una abertura frontal (lado derecho) . En este contexto, el sustrato se hace descender inicialmente sobre un dispositivo de retención y centrado a una posición entre la
parte superior abierta 20a y el bastidor de soporte o la parte inferior 20b. En una modalidad preferida de la presente invención, el dispositivo de centrado hace mover inicialmente la placa de vidrio hacia arriba y la prensa contra un sello circunferencial (exclusión de borde) . De esta manera, se puede impedir que el sustrato 20 sea desplazado en relación con la cámara cuando la cámara se hace descender y es ajustada a presión. Subsecuentemente, la cámara de proceso o la parte superior 20a se puede hacer descender y ajustarse a presión, en un lado, con el sustrato 20, de tal manera que el sustrato 20 es prensado entre la parte superior 20a y el bastidor de soporte o parte inferior 20b y es sellado contra la parte superior 20a por medio de un sello circunferencial. Además, la hoja de vidrio puede ser calentada de la parte inferior por medio del calentamiento del sustrato, un lado por medio de calentamiento del sustrato desde abajo que es realizado por medio de un tapete de calentamiento, un emisor infrarrojo, un calentador de aire de recirculación, un baño de agua o una placa de intercambiador de calor, mediante el cual se realizan canales que introducen calor al sistema usando agua o aceite caliente de un dispositivo de templado. Durante el proceso que tiene lugar en el volumen del proceso, la cámara de proceso se mueve por medio de un movimiento de oscilación para mezclar suavemente el producto químico en la superficie del sustrato hasta la exclusión del
borde. El producto químico que se introduce de forma medida en el extremo superior del compartimiento del proceso por medio de un mezclador estático, además se puede medir e introducir en el volumen de proceso durante el movimiento de oscilación para distribuir suavemente el producto químico en las superficie. En una modalidad preferida de la presente invención, la abertura y cierre del compartimiento de proceso, es decir, el movimiento de la parte superior 20a y/o la parte inferior 20b se realiza reumáticamente. En este contexto, el arreglo estructural de los cilindros de elevación proporciona una abertura delantera que se extiende a longitudinalmente lateral y con lo cual se puede introducir un sustrato en el compartimiento de proceso (a lo largo de la dirección 30 del disco de alimentación) . Esta alimentación se puede realizar por medio del equipo de manejo comercial de la placa de cristal. Para permitir el ajuste a presión preciso, el sustrato es colocado en pernos de centrado, por ejemplo, mediante el equipo de manejo, lo que hace posible que los pernos centrados sean colocados a una altura exacta de transferencia relativa al equipo de manejo por medio de los cilindros neumáticos. En este contexto, el equipo de manejo es de preferencia implementado de tal forma que se mueva hacia fuera del área de la cámara de proceso después de colocar el sustrato sobre los pernos centrados, de tal forma que el sustrato pueda
moverse hacia arriba en contra del sello corcunferencial y se presione a la vez por los pernos del cilindro por medio de un disco neumático. Como ya se ha mencionado, esto previene que el sustrato o la placa de vidrio 20 se resbale fuera de lugar cuando la parte superior 20a de la cámara de proceso es bajada. Cuando el proceso de tapar la cámara 20a es bajado, el sustrato o el cristal de vidrio20 es presionado contra la estructura de soporte 20b. La estructura de soporte tiene surcos colocados en este por ejemplo, para encajar la guia de los pernos del cilindro al sustrato. Ademas, la estructura de soporte esta provista con un tablero plástico por ejemplo, que equilibra la presión de levantamiento, el tablero plástico de preferencia tiene ranuras colocadas en esta que permiten amortiguar el paso del aire que circula debajo del sustrato para salir. Los cilindros permiten presionar la placa de vidrio contra un objeto o levantar la placa de vidrio que puede ser operada reumáticamente, hidráulicamente o siempre por medio del manejo de un perno. Además, otros manejos lineales son factibles. Al presionar por ejemplo el cilindro para ser operado hidráulicamente o neumáticamente, la presión de levantamiento puede ser monitoreada y señalada por medio de un sensor análogo de presión. Es así posible de acuerdo con la invención, presionar y aislar diferentes grosores del sustrato. Como se ha mencionado, el sustrato puede ser levantado en el "lado no tratado" antes y después de un proceso
y al realizar el recubrimiento lateral que no debe ponerse en contacto. Dependiendo del tipo de calentador usado, diferentes dispositivos de levantamiento y centrado son preferentemente usados en este contexto. Una posible implementación es un dedo estático, por ejemplo, que se coloca alrededor del marco o la parte inferior 20b. Cuando la cámara de proceso es levantada, el disco es automáticamente también levantado del fondo hasta que el disco se pueda colocar desde el fondo. El levantamiento equivalente también se puede llevar a cabo por medio de cilindros. El levantamiento puede ademas ser realizado por un cilindro integrado con una brida y orna el ram en la estructura de soporte o parte inferior 20b. Preferiblemente, el ram esta hecho de una parte giratoria, por ejemplo, aquella que enrosca el cilindro no tiene ninguna influencia sobre el levantamiento del disco. En el caso del calentamiento del sustrato por medios de calentamiento de placa, un cilindro puede ser montado, por ejemplo, debajo de la placa de calentamiento en por lo menos tres sitios, el cilindro es capaz de extenderse hacia arriba a través de la placa de calentamiento que en estos sitios es provista con una perforación, para levantar el disco. Lo que es ademas posible es la implementación por medio de un cilindro de doble levantamiento montado externamente a la cámara de proceso. Cuando la cámara de
proceso esta abierta, el cilindro de doble levantamiento es accionado, por ejemplo, de tal manera que puede hacer oscilar lateralmente pequeñas sillas de montar/elementos en voladizo al espacio libre debajo del sello de la parte inferior 20b vía cuatro palancas. El sustrato se puede hacer descender sobre sillas de montar que se hacen oscilar en su lugar de tal manera que el sustrato es transferido sobre asientos de muelle y mediante esto es centrado en tanto que se hace descender la cámara. El ajuste a presión del disco es permitida, por ejemplo, en que las sillas de montar oscilan hacia afuera antes del ajuste a presión. La Figura 3 muestra una imagen seccional de una vistas del aparato de la invención de la Figura 2, la sección que se extiende en un plano perpendicular a la vista de la Figura 2 y el plano seccional que se extiende entre el cilindro hidráulico 24a y el cilindro hidráulico 24b, la vista seccional es adicionalmente representada, de tal manera que la línea de dirección está en dirección del cilindro hidráulico 24b. La cámara de proceso limitada por la parte superior del dispositivo de retención 20a es mostrada en un estado cerrado, esto es, la placa de vidrio 22 es sujetada en la parte superior 20a y la parte inferior 20b de los medios de retención. Además, un cilindro hidráulico 24a es mostrado que puede guiarse visto en la vista lateral de la Figura 2 y además, un cilindro hidráulico 24b que es opuesto al cilindro
hidráulico 24a en el lado opuesto de la parte superior 20a y que no puede ser visto debido a la perspectiva de la vista de la Figura 2. La disposición de los cilindros hidráulicos es simétrica, en particular, de tal manera que todos los seis cilindros hidráulicos son usados para hacer descender y levantar la parte superior 20a, como se puede ver de las Figuras 2 y 3. Además, un ejemplo es representado de medios de humectación de la invención 50 que comprenden válvulas de entrada 50a y un mezclador 50b (mezclador estático) . Una pluralidad de diferentes reactivos o compuestos químicos pueden ser introducidos al volumen de proceso por medio de las válvulas de entrada 50a o tecnología de válvulas, los medios de humectación comprenden adicionalmente, en la modalidad ilustrada de la presente invención, medios mezcladores 50b (mezclador estático) para facilitar y asegurar el mezclado completo de los líquidos introducidos a los medios mezcladores 50b por medio de las válvulas 50a. La efectividad de un proceso de recubrimiento es implementada en que una mezcla que ya es homogénea es aplicada a la superficie de la placa de vidrio 22 y al hacer esto, el tiempo desde el comienzo de la mezcla de los varios compuestos químicos al comienzo de la reacción química sobre la superficie del sustrato, esto es, el proceso de recubrimiento deseado, es mantenido tan corto como sea posible, además, de manera ventajosa de acuerdo con la
invención . Además, la Figura 3 muestra primeros y segundos elementos en voladizos mecánicos 52a y 52b, los elementos en voladizo 52a y 52b sirven como puntos de acoplamiento mecánicos de los medios de oscilación con el fin de permitir la oscilación de toda la disposición mostrada en la Figura 3 y están dispuestos desplazados entre sí en relación con una dirección perpendicular a la dirección seccional, de tal manera que se puede obtener la oscilación por medio de tres elementos en voladizos mecánicos dispuestos desplazados entre sí, como se explicará en más detalle posteriormente en la presente con referencia a las Figuras 6 a 8. Varias técnicas de dosificación son posibles para los medios mezcladores o los medios de humectación 50, dependiendo del requerimiento del proceso. En principio, cualesquier técnicas de dosificación potenciales pueden opcionalmente ser equipadas con agitadores o calentadores, para cuyo propósito detectores comerciales y agregados son usados, para dosificación, tal como celdas de pesada, interruptores de flotador, medidores de flujo de válvulas y bombas de dosificación . Un concepto para la dosificación individual puede ser seguido en donde los compuestos químicos de la cámara de proceso son suministrados a la cámara de procesos individuales en donde pueden ser mezclados por medio del mezclador estático
50b dentro de la cámara de proceso antes de ponerse en contacto con el sustrato. También, la dosificación de tanque mezclador es posible, en cuyo caso, el compuesto químico es premezclado por lo menos parcialmente en un tanque mezclador y suministrado a la cámara de proceso. En este contexto, compuestos químicos individuales adicionales pueden ser agregados a la mezcla por medio del mezclador estático 50b debajo del cuello de afluencia de compuestos químicos. Todos los métodos de mezclador pueden adicionalmente también tomar lugar con el movimiento de oscilación ya encendido. En resumen, la presente invención es un aparato y método para recubrimiento, ataque por ácido, limpieza, secado de objetos planos tales como hojas de vidrio en forma de placa, por ejemplo. El concepto de la invención es apropiado, por ejemplo, para permitir que placas de vidrio que comprenden CdS fabricadas de los reactivos de amoníaco, agua, sulfato de cadmio o acetato de cadmio, tiourea, agua desionizada y componentes adicionales potenciales. Objetos planos tales como placas de vidrio serán en general denominados como sustratos posteriormente en la presente. La presente invención permite efectuar recubrimientos de un lado con una pequeña cantidad de exclusión del borde de manera de bajo costo y ambientalmente firme, siendo posible, además, procesar una gran variedad de espesores de sustratos
sin tener que efectuar adaptación mecánica costosa a los varios espesores de sustrato. La Figura 4 muestra una vista seccional adicional de la modalidad de la presente invención que es ilustrada en la Figura 3, la sección en la vista ilustrada en la Figura 4 que corre en un plano seccional perpendicular al plano de la vista de la Figura 3 y la sección se hace centralmente a través del aparato de la Figura 3, la línea de división es ilustrada de tal manera que apunta del cilindro hidráulico 24b a la dirección del cilindro hidráulico 24c. Los elementos ya mostrados en la Figura 3 que son iguales en estructura son provistos con los mismos números de referencia. Así, las descripciones de los componentes individuales de las Figuras 3 y 4 son también mutuamente aplicables. Además de los componentes mostrados en la Figura 3, la Figura 4 muestra un cilindro hidráulico 24b y un cilindro hidráulico auxiliar 26c, que por razones de perspectiva, no están visibles en las Figuras 2 y 3, pero que tienen la misma funcionalidad como los cilindros hidráulicos 24a a c y 26a y b, respectivamente, que fueron ya descritos con referencia a las Figuras 2 y 3. Además, la Figura 4 muestra una válvula de drenaje 54 que puede ser usada para remover los compuestos químicos introducidos al volumen de proceso cuando un módulo de proceso 60, como se ilustra con referencia a las Figuras 4, es inclinado en relación con un eje que se extiende perpendicular
a la superficie de la vista seccional. Tan pronto como el ángulo de inclinación excede de 90° en una operación de inclinación a la izquierda, la mezcla de compuestos químicos presente dentro del volumen de proceso puede fluir a través de la válvula de drenaje 54. En una modalidad de la presente invención, que será descrita posteriormente en la presente con referencia a las Figuras 7 y 8, un mecanismo de inclinación es por consiguiente provisto que permite la inclinación de la disposición del proceso 60. Una vez que se llega al final del proceso, esto es, que el recubrimiento o ataque por ácido está terminado, la disposición del proceso 60 puede también ser drenada al hacerla oscilar por > 90° . Tal oscilación puede también permitir, por ejemplo, dar servicio al lado posterior de la disposición del proceso, esto es, desde el lado inferior 20b. Además, el enjuague y pre-secado de la cámara pueden ser provistos después del drenado, para cuyo propósito boquillas que apuntan al volumen de proceso pueden ser montadas que introducirán un agente de enjuague a la cámara, por ejemplo, en el estado en donde la cámara está inclinada para ser vaciada. Después del proceso de enjuague, la cámara es luego vuelta a bascular. El dispositivo de centrado puede subsecuentemente moverse hacia abajo con la parte inferior 20b y al liberar la placa de vidrio 22 para un sistema de manejo. Cuando es extraído del arreglo de proceso 60, el sustrato puede adicionalmente ser jalado a
través de una cuchilla de aire, por ejemplo, y ser pre-secado en el proceso, teniendo cuidado de que el extremo de base del sustrato (parte superior) no se deba poner en contacto con los componentes del equipo de manejo. El enjuague de la cámara de proceso puede ser efectuado, por ejemplo, por medio de una válvula de enjuague montada fijamente sobre la tapa. Además, boquillas de atomización integradas en la tapa de la cámara de proceso también son posibles, tales boquillas de atomización son montadas en diferentes sitios en el lado superior de la parte superior 20a, de tal manera que se asegura el enjuague uniforme. La Figura 5 muestra una vista tridimensional de una modalidad de la presente invención que ya fue descrita con referencia a las Figuras 2 a 4. Los componentes idénticos son designados por los mismos números de referencia, de tal manera que las descripciones de los componentes ilustrativos de las Figuras 2 a 5 son mutuamente aplicables. Solo una breve descripción se dará a continuación en particular, de aquellos componentes que todavía no han sido descritos por las Figuras 2 a 4. La vista tridimensional ilustra tanto un cilindro hidráulico 24f y un cilindro hidráulico auxiliar 26d que fueron cubiertos en las Figuras 2 a 4 por otros componentes debido a la perspectiva usada en dichas Figuras.
i Además, la Figura 5 muestra tres elementos en voladizos mecánicos 52a, 52b y 52c que sirven como la toma mecánica o el despegue mecánico del arreglo o disposición del proceso 60 al permitir la oscilación. El plano recibido por los tres elementos mecánicos 52 es paralelo al plano del sustrato o placa de vidrio 22, de tal manera que el movimiento oscilante de disposición del proceso 60 puede ser provocado en que la disposición de proceso 60 puede ser mantenida y/o soportada en los elementos en voladizos mecánicos, siendo posible hacer mover independientemente la disposición del proceso a y en los tres puntos, de tal manera que el movimiento oscilante de la disposición del proceso 60 'da como resultado la superproducción de los movimientos. Una disposición de proceso 60 como se ilustra con referencia a la Figura 5 consiste así esencialmente de un mezclador estático 50d, de sistemas neumáticos y eléctricos para controlar y/o movimiento, una válvula de drenaje 50, válvulas de dosificación 50a, un sello circunferencial, válvulas de ventilación también como la posibilidad de suministrar compuestos químicos. Además, el bastidor de soporte ya descrito en la Figura 2 es ilustrado que tiene el sustrato colocado sobre el mismo o con el cual el sustrato es ajustado a presión. Los sistemas neumático y eléctrico, también como el mezclador estático no están visibles en la vista tridimensional de la Figura 5, puesto que están ubicados dentro de un volumen
auto-contenido cerrado por las tapas. Los compuestos químicos pueden ser dosificados desde el tanque de dosificación por medio de las válvulas de dosificación 50a. En las modalidades descritas, las válvulas de dosificación 50a son dispuestas por encima del ventilador estático 50b, de tal manera que el compuesto químico puede ser dosificado sobre el sustrato o placa de vidrio 22 en presencia de la gravedad, siguiendo la inclinación hacia abajo libre con la cámara de proceso cerrada. En este contexto, es ventajoso en particular que el sistema sea un sistema cerrado, en donde ningún otro químico puede salir. Además, en la modalidad de la invención, el movimiento de oscilación puede ser " iniciado durante la dosificación. Las válvulas de dosificación 50a pueden también ser inventadas con válvulas tetra-idireccionales, por ejemplo. Por ejemplo, después de cada proceso de dosificación de compuesto químico, se puede enjuagar con N2 para impedir una reacción cruzada en la entrada de compuestos químicos al mezclador. Una tercera conexión de la válvula tetra-direccional puede ser usada, por ejemplo, por enjuague con agua desionizada, en tanto que la cámara de proceso o la disposición del proceso 60 está inclinada. Así, todo el suministro o suministros de compuestos químicos puede ser enjuagado de residuos de compuestos químicos . Una ventaja de la disposición de proceso de la
invención 60 es que el mezclador estático 50b mezcla los compuestos químicos entre sí antes de que golpeen la superficie del sustrato, lo que evita manchas sobre la superficie del sustrato. Los compuestos químicos pueden conducir de los tanques de dosificación a la disposición del proceso por medio de tubos flexibles, por ejemplo, siendo posibles que los tanques de dosificación sean dispuestas externamente. Además, se puede asegurar la ventilación controlada del sistema por medio de una válvula de ventilación y las válvulas de dosificación pueden ser instaladas a un alojamiento por razones de seguridad, como se ilustra en las Figuras 3 a 5. Aunque la humectación uniforme puede ser requerida sobre la superficie del sustrato con un consumo muy bajo de compuestos químicos debido al movimiento oscilante, compuestos químicos en exceso permanecerán dentro del volumen de proceso una vez que el proceso está consumado. Estos pueden ser removidos de la cámara por medio de la válvula de drenaje 54, por ejemplo, cuando la disposición del proceso 60 es inclinada por un ángulo de > 90°. Además, boquillas de atomización para enjuagar la cámara de los compuestos químicos pueden ser dispuestas en la parte superior 20a o en la tapa de la cámara de proceso. En una modalidad preferida de la presente invención, un sello circunferencial es incorporado a la parte superior 20a de la cámara en la interfase entre el sustrato y la parte superior. Tal sello sella los compuestos químicos que salpican
alrededor, contra el exterior, que también es cierto, al mismo tiempo, para el líquido de enjuague a ser usado. Para el control neumático y control eléctrico, se puede montar un gabinete de sistema neumático/eléctrico en la vecindad inmediata próximo a las válvulas y los cilindros del sistema hidráulico. Trayectorias de señales cortas garantizan entonces el control uniforme de los cilindros y válvulas. El alojamiento de la cámara de proceso por sí misma, esto es, parte del alojamiento que forma el volumen de proceso puede consistir entonces de, por ejemplo, un bastidor de base que consiste de acero inoxidable y que comprende un mecanismo de ajuste a presión mecanizado. El alojamiento de la cámara de proceso puede ser recubierto con plástico o Halar, por ejemplo, dependiendo de los compuestos químicos y las temperaturas a ser usadas. En este contexto, un sello que es montado preferiblemente sobre el lado inferior de la parte superior 22b que puede ser fabricado al alojamiento de la cámara de proceso, el sello es preferiblemente fabricado en el bastidor de acero inoxidable y preferiblemente es recubierto cuando se usan altas temperaturas de procesamiento. A temperaturas relativamente bajas, puede también ser fabricado a o anexado a un bastidor de plástico, el bastidor de plástico es soldado o atornillado junto con el revestimiento interior. Las mezclas reforzantes que pueden ser requeridas para estabilidad mecánica del alojamiento de la cámara de proceso pueden ya sea consistir ya
sea de acero inoxidable o por ejemplo, de acero inoxidable recubierto con plástico o Halar. Una ventana o una tapa de observación que es atornillada sobre el bastidor por medio de un sello desde arriba puede adicionalmente ser montada para monitorear el proceso. El bastidor de soporte o la parte inferior 20a pueden también ser publicados de un perfil de acero inoxidable, por ejemplo, en una modalidad preferida en el perfil de acero inoxidable comprende ranuras de ventilación para impedir cualesquier diferencias de presión que se puedan presentar en el cierre de la disposición del proceso 60. Además, el bastidor de soporte puede ser provisto con un sello dispuesto, por ejemplo, dentro de prensados. Tales sellos que consisten de PP o caucho (hule) , por ejemplo, sirven por una parte para proteger el lado posterior del sustrato y pueden adicionalmente estar configurados de tal manera que permiten que el aire escape. Para ilustrar en más detalle el modo de operación de los elementos de voladizos mecánicos 52a a 52c que son necesarios para obtener un movimiento oscilante de la invención, la Figura 6 ilustra una vista superior de un ejemplo de un bastidor de soporte de la invención o parte inferior 20b. La vista superior muestra la parte inferior o bastidor de soporte 20b en el cual el sustrato o la hoja de vidrio 20 llega al reposo. Los tres elementos en el voladizo mecánico 52a a 52c son montados en el bastidor de soporte 20b sobre lados
diferentes del bastidor de soporte 20. En la modalidad mostrada en la Figura 6 de un bastidor de soporte de la invención 20b, tableros de plástico so montados adicionalmente sobre el lado superior del bastidor de soporte 20b para impedir que el sustrato que es colocado sobre el bastidor de soporte 20b sea dañado. Además, se proporcionan ranuras de ventilación 62 que impiden que ser forme una sobrepresión entre el sustrato y el bastidor de soporte 20b, en tanto que el sustrato se hace descender, entre los tableros de plástico. Debido a la disposición geométrica de los elementos en voladizo mecánicos 52a a 52c (elementos en voladizo para mecanismo de oscilación y ondulación) definen en tres puntos un plano paralelo al plano del sustrato. De acuerdo con la invención, el punto de soporte de cada uno de los elementos en voladizo mecánicos 52a a 52c puede tener un dispositivo controlable individualmente montado en el mismo, que tiene una dirección de movimiento perpendicular al plano de la vista de la figura 6, de tal manera que en los tres puntos definidos por los elementos en voladizo mecánicos 52a a 52c el plano y junto con el mismo, el sustrato, pueden ser movidos o inclinados, como resultado de lo cual se obtiene un movimiento oscilante de cualquier orientación. Además, la figura 6 muestra algunos detalles de implementación, tales como las ranuras de ventilación 62 ya descritas, en vista superior y agujeros para
tornillo o tornillos para asegurar el tablero o tableros de plástico 60. La figura 7 muestra una modalidad de la presente invención en donde el movimiento de oscilación puede ser obtenido por medio de un soporte 100 de base que puede tener una disposición 60 de proceso de la invención, por ejemplo, anexada al mismo por medio de los elementos en voladizo mecánicos 52a a 52c. El soporte de base 100 comprende un eje de inclinación 102, también como tres medios de fijación 104a a 104c que corresponden con los elementos en voladizo mecánicos 51a a 52c y son apropiados para conectar el soporte 100 de base a un arreglo de proceso de la invención 60. El soporte 100 de base puede ser conectado al arreglo de proceso 60 de una manera mecánicamente rígida cuando los elementos en voladizo mecánicos 52a a 52c son dispuestos sobre los medios de fijación 104a a 104c (inclinación-bloqueo de la cámara de proceso) . Con una conexión mecánicamente rígida un motor de inclinación 106 (motor para inclinar la cámara >90°) sirve para provocar que el eje de inclinación 102 (brazo de inclinación) gire y así sirve para inclinar todo el arreglo de proceso 60, que es asegurado en los medios de fijación 104a a 104c, de la horizontal a la vertical y más allá. De esta manera, el enlace del volumen de proceso vía la válvula de drenaje 54 puede ser obtenido, de acuerdo con la invención, por una parte, y por otra parte, todo
el arreglo de proceso 68 puede ser girado 180° a la horizontal, de tal manera que se hace accesible desde el lado inferior para trabajo de servicio potencial. Además, el soporte 100 de base sirve para provocar el movimiento oscilante del arreglo de proceso 60 localizado dentro de soporte de base. Para provocar la oscilación, la conexión mecánicamente rígida entre los elementos en voladizo mecánicos 52a a 52c y los medios de fijación 104a y 104c es liberado, de tal manera que el arreglo de proceso es soportado holgadamente sobre el soporte 100 de base como si estuviera. Como ya se describió anteriormente, la oscilación se obtiene de tal manera que los elementos en voladizo mecánicos 52a a 52c un movimiento independiente perpendicular a la superficie de sustrato o de plano formado por los elementos en voladizo mecánicos 52a a 52c es efectuado en cada caso. En la modalidad de la presente invención, esto se obtiene entre el soporte de base 100 tiene un motor 110a a 110c (impulsor ondulante) montado al mismo debajo de cada fijación, un disco excéntrico (ondulación de disco excéntrico) es anexado al eje del motor. Similar a la biela en el motor de combustión interna de un carro, un ariete de avance es anexado en el radio del disco excéntrico, de tal manera, que cuenta del movimiento excéntrico, el ariete de avance efectúa un movimiento periódico perpendicular a la superficie del sustrato o perpendicular al plano formado por los elementos en voladizo mecánicos 52a a
52c. Así, por ejemplo, un movimiento de alabeo u oscilación uniforme puede ser provocado si el disco excéntrico es montado sobre los motores 110a a 110c de tal manera que cada vástago de empuje obtiene la carrera máxima en un punto en el tiempo diferente. Así, el soporte 100 de base sirve para tomar el mecanismo de inclinación y provocar el movimiento oscilante. En este contexto, el soporte de base puede adicionalmente ser montado a un alojamiento de plástico para impedir la descarga de compuestos químicos. Como se puede ver en la Figura 7, el soporte de base está equipado adicionalmente con patas de ajuste que permiten la alineación horizontal completa de la unidad. En movimiento de oscilación es realizado con tres motores 110a a 110c que hacen a la cámara de proceso o el arreglo de proceso 60 oscilar por medio de un disco excéntrico en cada caso. Debido a su configuración geométrica, los discos excéntricos efectúan un movimiento sinusoidal, en donde la carrera de movimiento puede ser ajustable continuamente al hacer variar los discos excéntricos o al ajustar apropiadamente los mismos, de tal manera que la cantidad absoluta de oscilación de todo el arreglo de proceso de la invención 60 puede ser ajustada. El motor de inclinación 106 para inclinar, la cámara de proceso puede inclinar el arreglo de proceso por hasta 180°, por ejemplo. A un ángulo de inclinación de >90°, la cámara de proceso es drenada, a 180°, se puede dar servicio a
la cámara de proceso desde el lado posterior o desde abajo, esto es, los sellos pueden ser reemplazados y la cámara de proceso puede ser limpiada. El impulso de dispositivo de inclinación puede adicionalmente estar configurado de una manera neumática o hidráulica, por ejemplo. Los medios de fijación 104a a 104c sirven para bloquear y desbloquear mecánicamente el arreglo de proceso 60. Durante el movimiento de oscilación, una compuerta es abierta y la cámara de proceso o arreglo de proceso 60 es soportado holgadamente sobre tres arietes del movimiento de proceso excéntrico. Esto asegura un movimiento de oscilación uniforme, siendo también posible monitorear la posición de los discos excéntricos y/o de la guía o vástagos de empuje por medio de detectores . Una vez que el movimiento de oscilación ha finalizado, la cámara de proceso puede ser movida a una posición cero, esto es, a una posición horizontal y bloqueada con los tres medios de fijación 104a a 104c, siendo también posible monitorear el bloqueo y/o desbloqueo exitoso por medio de detectores. La Figura 8 muestra un arreglo de proceso de la invención 60 en un estado en el cual está montado sobre soportes 100 de base, para ilustrar como el arreglo de proceso puede ser inclinado como un todo por medio de motor de inclinación 106 y cómo además el movimiento de oscilación puede
ser provocado por medio de los motores 110a a 110c que actúan sobre los discos excéntricos. Además, es posible, por medio de concepto de la invención, realizar en base al arreglo mostrado en la Figura 8, un concepto de instalación modular- que consiste de los llamados módulos de proceso que comprenden el arreglo mostrado en la Figura 8. Cada módulo puede ser usado como un módulo de proceso independiente y puede ser dispuesto, por ejemplo en cualquier sitio dentro de un almacén. Luego cada uno de tales módulos de proceso tiene que ser suministrado con las placas de sustrato o placas de vidrio por medio de equipo de manejo de sustratos comercial, que están adaptados 'adicionalmente a los requerimientos de proceso. El equipo de manejo transfiere las placas de vidrio dentro del arreglo ilustrado en la Figura 8 y después que un proceso ha terminado, remueve una placa de vidrio de dicho arreglo. La elección del material tanto del equipo de manejo y de los componentes del arreglo de proceso 60 que se ponen en contacto con el sustrato pueden ser adaptados a los requerimientos del proceso. Los materiales que pueden ser usados son, por ejemplo acero inoxidable, plástico, también como partes de acero inoxidables recubiertas de plástico que pueden formar conductos o cajas de goteo, por ejemplo. Un principio modular tiene la ventaja de que módulos de proceso individuales pueden ser puestos fuera de servicio en tanto que otros están todavía en modo de producción. En
particular, debido al dispositivo de inclinación, el servicio a los módulos individuales es posible sin impedir que módulos adicionales que están todavía posiblemente sean producidos. La flexibilidad incrementada en este contexto resulta de que módulos individuales pueden ser integrados en cualquier orden y número, el tiempo de ciclo es determinado por, entre otras cosas, el número de los módulos usados. Estaciones de dosificación, esto es, estaciones que suministran los compuestos químicos, pueden ser ya sea unidades independientes que dan servicio a varios módulos al mismo tiempo o están integradas a los módulos individuales. Aún con una estructura modular, la carga y descarga de las cámaras de proceso con sustratos pueden ser efectuadas por medio de sistemas de manejo comerciales. Ejes lineales de multi-ejes, robots, correderas de rodillo, bandas transportadoras, máquinas de transferencia de revolución y varillas de vacío, por ejemplo pueden ser empleadas en este contexto . Aunque el modo de operación del concepto de la invención fue descrito anteriormente principalmente con referencia al ejemplo de una hoja de vidrio, cualesquier sustratos, por ejemplo PCB, pueden ser recubiertos ventajosamente por medio de concepto de la invención. En particular, el tipo de equipo de manejo de sustratos, esto es, la manera en la cual los sustratos a ser
recubiertos pueden ser colocados dentro del aparato de la invención, es irrelevante para la aplicación exitosa del concepto de la invención. Los compuestos químicos mencionados en la descripción de las modalidades de la presente invención serán tomados como ejemplos. El concepto de la invención es también apropiado, en particular para el ataque por ácido de superficies, aplicación uniforme de un líquido de ataque por ácido también siendo relevante para efectuar exitosamente un proceso de ataque por ácido uniforme sobre un sustrato que tiene un área superficial grande. La generación de un movimiento oscilante fue realizado con referencia a las modalidades descritas por tres cilindros hidráulicos que son controlables individualmente o por medio de discos excéntricos impulsados por motores. Por supuesto, cualesquier otras posibilidades para generar un movimiento oscilante son también apropiadas para poner exitosamente el concepto de la invención en práctica. Los cilindros hidráulicos que en las modalidades de la presente invención descritas sirven para elevar los sustratos o para cerrar el dispositivo de retención, pueden ser reemplazados por cualesquier otros mecanismos mecánicos que permiten el prensado o levantamiento de un sustrato. Aunque en las modalidades discutidas anteriormente todos los medios de retención que incluyen el sustrato fijo con los medios de retención fue ajustado en un movimiento oscilante
en relación con la superficie de la tierra (horizontal) , también es alternativamente posible ajustar solamente el sustrato en un movimiento oscilante, siendo entonces posible asegurar adicionalmente, mediante medidas apropiadas, que el líquido presente sobre la superficie del sustrato no pueda fluir de la superficie. Por ejemplo, el sellado por medio de un fuelle flexible fabricado de caucho o hule sería factible, de tal manera que la parte superior de los medios de retención puede permanecer esencialmente rígida y que solamente la parte inferior, sobre la cual el fuelle y el sustrato están anexados, lleva a cabo el movimiento de oscilación. Además, el sellado completo del volumen de proceso no es absolutamente necesario.