CN117798006A - 钙钛矿前驱体溶液滚涂装置及膜层滚涂制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及太阳能电池生产技术领域，尤其是涉及一种钙钛矿前驱体溶液滚涂装置及膜层滚涂制备方法。所述钙钛矿前驱体溶液滚涂装置，包括：滚涂组件，用于对基片镀膜；封闭柜，滚涂组件设置在封闭柜内；封闭柜包括相对设置的两个侧壁，两个侧壁中的一个设有进口，两个侧壁中的另一个设有出口；进口处设有进口封闭件，出口处设有出口封闭件；进液管道，进液管道与封闭柜的内腔连通，以给滚涂组件提供钙钛矿前驱体溶液；出液管道，出液管道的一端与封闭柜的内腔连通，另一端伸出封闭柜外；惰性气体供气管道，与封闭柜的内腔连通，以向封闭柜内供入惰性气体。基片涂料镀膜过程在惰性气体环境下进行，避免了钙钛矿前驱体溶液氧化。

Description

钙钛矿前驱体溶液滚涂装置及膜层滚涂制备方法

技术领域

本发明涉及太阳能电池生产技术领域，尤其是涉及一种钙钛矿前驱体溶液滚涂装置及膜层滚涂制备方法。

背景技术

钙钛矿太阳能电池是一种新型太阳能电池，由于钙钛矿太阳能电池对可见光吸收高、成膜工艺简单、光电转换效率提升快而受到关注。

目前制备钙钛矿太阳电池的方法有很多，如：旋涂法、真空法、刮涂法或者喷涂法等。这些方法可大致分为溶液法和真空法，真空法是通过热蒸发法、溅射法、近空间升华法(CSS)、气相输运法(VTD)、近空间气相输运法(CSVT)等在真空状态下把钙钛矿的前驱体材料直接制备到衬底上，全程没有溶剂参与，真空法设备与后期运维成本较溶液法较高。溶液法是把钙钛矿的前驱体材料全部溶解在N，N-二甲基甲酰胺(DMF)或二甲基亚砜(DMSO)等有机溶剂中，通过旋涂法、刮涂法、喷涂法或狭缝涂布法(Slot-die)等制备钙钛矿膜层，旋涂与刮涂法很难在大面积镀膜上使用，狭缝涂布法在大面积镀膜上对刀头的平整度准直度等各方面要求极高，设备成本居高不下，不利于大面积大产能的推广。主流的大面积量产钙钛矿电池发电层的制作工艺多为涂布法与蒸发法，此两种方法的设备与原材料成本都处于较高的水平，不利于大规模的产业化。

相关技术中，有人采用滚涂法在实现大面积量产钙钛矿电池发电层的同时，有效降低设备投入成本以及后期的原材料使用成本。相关技术中的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置包括机架，在机架上设置有辊体，向辊体上提供钙钛矿前驱体溶液，通过辊体与基片的相对运动，从而将辊体上的钙钛矿前驱体溶液涂覆到基片上。

存在的问题是，在镀膜过程中，前驱体溶液易被氧化，从而影响镀膜质量。

发明内容

本发明的目的在于提供一种钙钛矿前驱体溶液滚涂装置及膜层滚涂制备方法，以在一定程度上解决现有技术中存在的在镀膜过程中，前驱体溶液易被氧化，从而影响镀膜质量的技术问题。

本发明提供了一种钙钛矿前驱体溶液滚涂装置，包括：

滚涂组件，用于对基片镀膜；封闭柜，所述滚涂组件设置在所述封闭柜内；所述封闭柜包括相对设置的两个侧壁，两个所述侧壁中的一个设有进口，两个所述侧壁中的另一个设有出口；所述进口处设有进口封闭件，所述出口处设有出口封闭件；溶液管道，所述溶液管道包括进液管道和出液管道，所述进液管道与所述封闭柜的内腔连通，以给所述滚涂组件提供钙钛矿前驱体溶液；所述出液管道的一端与所述封闭柜的内腔连通，另一端伸出所述封闭柜外；惰性气体供气管道，与所述封闭柜的内腔连通，以向所述封闭柜内供入惰性的气体。

封闭柜能够对滚涂组件和基片进行密封，通过向封闭柜内供入惰性气体，则可以将封闭柜内的空气以及挥发的有机溶剂排出，镀膜过程在惰性气体环境下进行，避免了前驱体溶液与氧气接触，避免了前驱体溶液氧化，避免前驱体溶液品质发生变化，从而可以保障镀膜品质，提高良品率，间接地提高了生产效率；另一方面，避免前驱体溶液接触氧气，则前驱体溶液时长可以不受前驱体溶液氧化影响，时长可选择范围广。

进一步地，钙钛矿前驱体溶液滚涂装置还包括：回收盘，所述回收盘设置在所述封闭柜内，且位于所述滚涂组件的下方以收集所述滚涂组件滴落的溶液，所述回收盘上设有出液口；所述出液管道的一端与所述出液口连通；溶液回收循环系统，所述出液管道的另一端伸出所述封闭柜外且连通至所述溶液回收循环系统，所述溶液回收循环系统向所述滚涂组件供料。

进一步地，所述溶液回收循环系统包括储液罐、配料罐、流路分配模组和浓度检测模组；所述浓度检测模组设置在所述溶液管道上，且所述浓度检测模组检测所述溶液管道内溶液的浓度状态，所述储液罐、所述配料罐通过所述流路分配模组并联式连通于所述出液管道的出液端，所述配料罐向所述储液罐供料，所述储液罐连通于所述进液管道的进液端。

进一步地，所述浓度检测模组包括通液管、光源、感应元件和集液容器；所述通液管的两端连通于溶液管道上，所述通液管的管壁上沿径向线贯通开设有两个逸出口，所述通液管中的溶液从所述逸出口分流流出并形成供测试光线通过的测试溶液，所述光源、所述感应元件分别各对应于一所述逸出口设置，所述光源和所述感应元件均间距于所述逸出口，且位于所述测试溶液的逸出路径以外，所述集液容器包括封闭腔，所述通液管的管体密封穿设通过所述集液容器，所述逸出口位于封闭腔内。

进一步地，所述滚涂组件包括：涂布辊；动力件，所述动力件与所述涂布辊传动连接以带动所述涂布辊转动；计量辊，所述计量辊与所述涂布辊之间设有间隙，以形成液槽；传送机构，所述传送机构用于基片的滚涂传送以及进出料传送，所述涂布辊和所述计量辊均位于所述传送机构的上方；升降机构，所述升降机构与所述涂布辊传动连接，以调节所述涂布辊与所述基片的间距；间隙调节机构，所述间隙调节机构与所述计量辊传动连接，以调整所述计量辊与所述涂布辊之间的间隙；机架，所述升降机构和所述间隙调节机构固定在所述机架上。

本发明还提供一种利用钙钛矿前驱体溶液滚涂装置的膜层滚涂制备方法，包括：

在基片从进口进入到封闭柜的过程中，打开进口并启动惰性气体供气管道向封闭柜中通入惰性气体，且使得封闭柜的内腔保持正压状态，待基片完全进入到封闭柜内腔中后封闭进口且停止供气；

在滚涂的过程中，通过溶液回收循环系统向辊涂组件持续供给钙钛矿前驱体溶液，且对出液管道中的钙钛矿前驱体溶液进行回收处理；

在滚涂完成后且基片从出口移出到封闭柜外部的过程中，打开出口并启动惰性气体供气管道向封闭柜中通入惰性气体，且使得封闭柜的内腔保持正压状态；

所述出口包括供基片通过的基片出口和间距开设于基片出口上方的气流出口，所述气流出口引导封闭柜排出的气流平行基片上表面，且所述气流出口的气流与基片上表面之间构成负压区，所述基片上的湿膜通过负压区挥发溶剂，且挥发后的溶剂气体汇入所述气流出口的气流中；

待基片完全移出到封闭柜外侧后，封闭进口且停止供气。

进一步地，所述膜层滚涂制备方法还包括溶液回收循环系统对钙钛矿前驱体溶液进行供给或回收的处理，包括：将配制好的钙钛矿前驱体溶液通过所述进液管道供给所述滚涂组件；对由所述出液管道排出的出口溶液的浓度进行检测；若所述出口溶液的检测结果在设定范围内，则将所述出口溶液进行回收；若所述出口溶液的检测结果在所述设定范围外，则将所述出口溶液作为废料处理。

对出口溶液进行检测，如果检测结果在设定范围内，也即出口溶液可以用来回收再利用，则将该部分溶液送回至配制工序，作为配制原料重新配制钙钛矿前驱体溶液；如果检测结果在设定范围外，则出口溶液作为废液处理，能够对原料进行回收再利用，降低生产成本。

进一步地，所述设定范围包括第一设定范围和第二设定范围；

若所述出口溶液的检测结果在设定范围内，则将所述出口溶液进行回收，具体包括：

若所述出口溶液的检测结果在所述第一设定范围内，则将所述出口溶液作为所述滚涂组件的供给液；

若所述出口溶液的检测结果在所述第二设定范围内，则将所述出口溶液作为配制原料进行钙钛矿前驱体溶液配制；

和/或，设定标准钙钛矿前驱体溶液浓度为Mmol/mL，则第一设定范围为M₁＝M±0.05mol/mL；

第二设定范围M₂为M₁～(M₁-0.15)mol/mL以及M₁～(M₁+0.15)mol/mL。

进一步地，利用配料罐配制钙钛矿前驱体溶液；

对储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液进行检测；

若所述储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在所述第一设定范围内，则将所述储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液提供给滚涂组件；

若所述储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在所述第二设定范围内，则将所述储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液送入所述配料罐进行配制；

若所述配料罐的储液罐和/或所述进液管道的检测结果在所述设定范围外，则将所述储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液作为废料处理。

进一步地，利用配料罐配制钙钛矿前驱体溶液；

对所述配料罐的钙钛矿前驱体溶液进行检测；

若所述配料罐的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在所述第一设定范围内，则将所述配料罐的钙钛矿前驱体溶液提供给储液罐；

若所述配料罐的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在所述第二设定范围内，则将所述配料罐的钙钛矿前驱体溶液重新配制；

若所述配料罐的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在所述设定范围外，则将所述配料罐的钙钛矿前驱体溶液作为废料处理。

进一步地，对钙钛矿前驱体溶液进行回收或者向滚涂组件提供涂布溶液时，对所述溶液管道中的钙钛矿前驱体溶液进行溶液检测；

所述钙钛矿前驱体溶液通过通液管流动，在所述通液管的管壁上沿径向线贯通开设有两个逸出口；

部分钙钛矿前驱体溶液通过所述逸出口流出至所述通液管的外侧，流出的钙钛矿前驱体溶液以及所述通液管中对应于逸出口的钙钛矿前驱体溶液作为动态检测样本的测试溶液；

测试溶液在封闭腔中具有逸出路径，将光源、感应元件分别对应于逸出路径在垂直于通液管流路方向上的远端非接触式的间距设置，由光源发出的检测光束通过测试溶液以及逸出口对射至感应元件上，通过感应元件直接检测溶液的透光度。

应当理解，前述的一般描述和接下来的具体实施方式两者均是为了举例和说明的目的并且未必限制本公开。并入并构成说明书的一部分的附图示出本公开的主题。同时，说明书和附图用来解释本公开的原理。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一实施例的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置的结构示意图；

图2为图1所示的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置中滚涂组件的结构示意图；

图3为本发明实施例中的图1所示的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置中浓度检测模组的结构示意图；

图4为本发明另一实施例的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置中滚涂组件的结构示意图；

图5为本发明实施例中基片移出封闭柜状态下出口的结构放大示意图。

图标：1-滚涂组件；2-封闭柜；3-进液管道；4-出液管道；5-惰性气体供气管道；6-进口封闭件；7-出口封闭件；8-回收盘；9-泄压口；10-基片；11-配料罐；12-废液罐；13-第一储液罐；14-第二储液罐；15-回收管道；16-废液管道；17-供给管道；18-浓度检测模组；19-输送管道；20-第一管道；21-第二管道；22-第三管道；23-惰性气体进口；24-回流管道；25-基片出口；26-气流出口；27-湿膜；28-负压区；101-输送皮带；102-涂布辊；103-计量辊；104-液槽；105-支撑辊；106-升降机构；107-间隙调节机构；108-第一支板；109-第二支板；110-消纹辊；111-动力件；1801-通液管；1802-光源；1803-感应元件；1804-集液容器；1805-逸出口；1806-封闭腔；1807-气压阀。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

通常在此处附图中描述和显示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。

基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

此外，术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。

需要说明的是，本发明所述的惰性气体是指广义上的惰性的气体(性质不活泼的气体)，例如：氮气、氦气、氖气或者氩气等，并不是指狭义上的稀有气体。

如图1至图3所示，本发明提供一种钙钛矿前驱体溶液滚涂装置，包括：滚涂组件1，用于对基片10(也即待镀膜件)镀膜，即在基片10上辊涂钙钛矿前驱体溶液形成湿膜；封闭柜2，滚涂组件1设置在封闭柜2内；封闭柜2包括在基片10传送方向上相对设置的两个侧壁，两个侧壁中的一个设有进口，两个侧壁中的另一个设有出口；进口处设有进口封闭件6，出口处设有出口封闭件7；溶液管道，溶液管道包括进液管道3和出液管道4，进液管道3与封闭柜2的内腔连通，以给滚涂组件1提供钙钛矿前驱体溶液；出液管道4的一端与封闭柜2的内腔连通，另一端伸出封闭柜2外；惰性气体供气管道5，与封闭柜2的内腔连通，以向封闭柜2内供入惰性的气体。

本实施例提供的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置工作时，通过惰性气体供气管道5向封闭柜2内供入惰性气体(例如：氮气、氦气、氖气或者氩气等)，从而将封闭柜2内的空气排出封闭柜2(可以理解的是，可以通过打开进口封闭件6和/或出口封闭件7以使空气排出，或者封闭柜2上设置其他排气口实现空气排出)；进口封闭件6将进口打开，基片10由进口进入封闭柜2内，基片10进入后，进口封闭件6关闭；基片10达到滚涂组件1处，通过进液管道3向滚涂组件1供给钙钛矿前驱体溶液，滚涂组件1对基片10进行涂料镀膜；完成镀膜后，出口封闭件7将出口打开，完成镀膜的基片10由出口排出封闭柜2；封闭柜2内的多余液体可以由出液管道4排出封闭柜2。

因此，本实施例提供的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置中，封闭柜2能够对滚涂组件1和基片10进行密封，通过向封闭柜2内供入惰性气体，则可以将封闭柜2内的空气以及挥发的有机溶剂排出，镀膜过程在惰性气体环境下进行，避免了钙钛矿前驱体溶液与氧气接触，避免了钙钛矿前驱体溶液氧化，避免钙钛矿前驱体溶液品质发生变化，从而可以保障镀膜品质，提高良品率，间接地提高了生产效率；另一方面，避免钙钛矿前驱体溶液接触氧气，则涂料镀膜时长可以不受钙钛矿前驱体溶液氧化影响，时长可选择范围广。

其中，进口封闭件6可以活动设置在进口处的挡板，例如：挡板可滑动或者可转动的设置在进口处，从而实现进口封闭件6对进口的开关，可以通过电动控制机构(例如：电机、丝杠和螺母组合，电机、齿轮和齿条组合等实现挡板自动滑动，通过电机齿轮组合等实现挡板自动转动)；可选的，进口封闭件6为电控制阀门，密封性好，控制方便。

出口封闭件7可以活动设置在出口处的挡板，例如：挡板可滑动或者可转动的设置在出口处，从而实现出口封闭件7对出口的开关，可以通过电动控制机构(例如：电机、丝杠和螺母组合，电机、齿轮和齿条组合等实现挡板自动滑动，通过电机齿轮组合等实现挡板自动转动)；可选的，出口封闭件7为电控制阀门，密封性好，控制方便。

可以理解的是，可以通过在封闭柜2内设置支架，实现对滚涂组件1的安装。

如图1所示，在上述实施例基础之上，进一步地，钙钛矿前驱体溶液滚涂装置还包括回收盘8和溶液回收循环系统；回收盘8设置在封闭柜2内，且位于滚涂组件1的下方以收集滚涂组件1滴落的溶液，回收盘8上设有出液口，出液管道4的一端与出液口连通；出液管道4的另一端伸出封闭柜2外且连通至溶液回收循环系统，溶液回收循环系统向滚涂组件1供料。

本实施例中，回收盘8可以对多余溶液进行收集，通过出液口将多余钙钛矿前驱体溶液统一排出，方便对多余前驱体溶液的回收，方便使用。

可以理解的是，回收盘8可以设置成漏斗型，出液口设置在回收盘8的最低处，有利于更完全地排出钙钛矿前驱体溶液。

如图1所示，在上述实施例基础之上，进一步地，封闭柜2上设有泄压口9，泄压口9处设有泄压阀。

本实施例中，当封闭柜2内的压力大于设定压力时，气体可以由泄压口9排出，从而可以保障前驱体溶液镀膜工作在合适的压力下进行。封闭柜2始终保持正压状态，以减少或防止外界空气进入到封闭柜中。

如图1所示，在上述实施例基础之上，进一步地，钙钛矿前驱体溶液滚涂装置还包括清洗管道，清洗管道与封闭柜2的内腔连通。

本实施例中，在非涂覆使用期间，可以通过清洗管道向封闭柜2内供入清洗流体，从而对封闭柜2的内腔以及设置在封闭柜2内的部件进行清洗，方便钙钛矿前驱体溶液滚涂装置的清理，进一步方便使用。

其中，可以在位于封闭柜2内的清洗管道的一端设置喷头，喷头向封闭柜2内喷洒清洗流体。清洗管道还可以包括总管道和支管道；总管道的一端用于与外部清洗流体供给装置连接，另一端与支管道连接，支管道位于封闭柜2内，沿支管道的长度方向，支管道上设有多个冲洗口，冲洗口处也可以设置喷头。

如图1所示，在上述实施例基础之上，进一步地，溶液回收循环系统包括储液罐、配料罐11、流路分配模组和浓度检测模组18；浓度检测模组18设置在溶液管道上，且浓度检测模组18检测溶液管道内溶液的浓度状态，储液罐、配料罐11通过流路分配模组并联式连通于出液管道的出液端，配料罐11向储液罐供料，储液罐连通于进液管道3的进液端。

如图1所示，在上述实施例基础之上，进一步地，溶液回收循环系统还包括废料罐，废料罐、储液罐、配料罐11通过流路分配模组并联式连通于出液管道的出液端。

本实施例中，浓度检测模组18分别设置在溶液管道上，具体地，至少在出液管道4上设置浓度检测模组18，以对出液管道4排出的出口溶液进行检测；较佳的，进液管道3和出液管道4上均设置浓度检测模组18，对供给给滚涂组件1的溶液以及出口溶液均进行检测。

若浓度检测模组18检测到由出液管道4排出的出口溶液的浓度在第一设定范围内，说明出口溶液满足标准钙钛矿前驱体溶液要求，可以直接通过流路分配模组回到储液罐，若出液管道4排出的出口溶液的浓度在第二设定范围内，说明出口溶液不完全满足配制标准钙钛矿前驱体溶液要求但仍在可用范围内，可以通过流路分配模组回到配料罐11重新配制；若出液管道4排出的出口溶液的浓度既不在第一设定范围内，又不在第二设定范围内，表明溶液出现变质，则出口溶液通过流路分配模组进入废液罐12。进液管道3上设置浓度检测组件，可以对进入滚涂组件1前的钙钛矿前驱体溶液进行检测，若钙钛矿前驱体溶液符合标准钙钛矿前驱体溶液要求，则将进液管道3内的钙钛矿前驱体溶液提供给滚涂组件1。

具体地，如图3所示，浓度检测模组18包括通液管1801、光源1802、感应元件1803和集液容器1804；通液管1801的两端连通于溶液管道上，通液管1801的管壁上沿径向线贯通开设有两个逸出口1805，通液管1801中的溶液从逸出口1805分流流出并形成供测试光线通过的测试溶液，光源1802、感应元件1803分别各对应于一逸出口1805设置，光源1802和感应元件1803均间距于逸出口1805，且位于测试溶液的逸出路径远端以外，光度计中的光源朝向感应元件出射的检测光线通过测试溶液。集液容器1804包括封闭腔1806，通液管1801的管体密封穿设通过集液容器1804，逸出口1805位于封闭腔1806内。

本实施例中，钙钛矿前驱体溶液通过通液管1801流动，部分钙钛矿前驱体溶液通过逸出口1805流出至通液管1801的外侧，流出的钙钛矿前驱体溶液以及通液管1801中对应于逸出口1805的钙钛矿前驱体溶液作为动态检测样本的测试溶液；测试溶液在封闭腔1806中具有逸出路径，将光源1802、感应元件1803分别对应于逸出路径在垂直于通液管1801流路方向上的远端非接触式的间距设置，由光源1802发出的检测光束通过测试溶液以及逸出口1805对射至感应元件1803上，通过感应元件1803直接检测溶液的透光度，从而对溶液的浓度进行检测。本实施例提供的浓度检测模组18可以实现感应元件1803直接对溶液本身进行检测，避免通液管1801的管体以及管体上残留物质对钙钛矿前驱体溶液检测的干扰，提升检测精度。

其中，可以在封闭腔1806上设置气压阀1807，以检测封闭腔1806内的气体压力。

集液容器1804对通液管1801的外侧空间进行密封，一方面用于收集流出的测试溶液，另一方面用于防止外界空气渗入到通液管1801中，从而消除外界干扰因素，且同时能够对测试溶液进行回收利用，减少损耗。

如图1所示，在上述实施例基础之上，进一步地，储液罐包括第一储液罐13和第二储液罐14，配料罐11分别向第一储液罐13和第二储液罐14供料，第一储液罐13和第二储液罐14均连通于进液管道3的进液端。

本实施例中，第一储液罐13和第二储液罐14均可以储存钙钛矿前驱体溶液，配料罐11可以向第一储液罐13输送钙钛矿前驱体溶液，也可以向第二储液罐14输送钙钛矿前驱体溶液。第一储液罐13可以向滚涂组件1输送钙钛矿前驱体溶液，当第一储液罐13内的钙钛矿前驱体溶液量达到下限时，可以选择第二储液罐14向滚涂组件1输送钙钛矿前驱体溶液，配料罐11可以向第一储液罐13补充钙钛矿前驱体溶液；当第二储液罐14的钙钛矿前驱体溶液量到达下限时，选择第一储液罐13向滚涂组件1输送钙钛矿前驱体溶液，配料罐11可以向第二储液罐14补充钙钛矿前驱体溶液；如此循环，从而可以实现钙钛矿前驱体溶液供给不间断，提高生产效率。

第一储液罐13和第二储液罐14可以择一通过流路分配模组与配料罐11和废料罐并联式连通于出液管道的出液端，出口溶液满足第一设定范围时，可以回到第一储液罐13或者回到第二储液罐14。或者，第一储液罐13和第二储液罐14均通过流路分配模组与配料罐11和废料罐并联式连通于出液管道的出液端，出口溶液满足第一设定范围时，可以回到第一储液罐13或者回到第二储液罐14，或者分流至第一储液罐13和第二储液罐14。

需要说明的是，配料罐11向第一储液罐13和第二储液罐14输送钙钛矿前驱体溶液可以择一进行，也可以同时进行。

以第一储液罐13和第二储液罐14均通过流路分配模组与配料罐11和废料罐并联式连通于出液管道的出液端为例进行具体说明：

如图1所示，溶液回收循环系统还包括：废液管道16，流路分配模组包括回收管道15、回流管道24和两个支路管道；废液管道16连通在出液管道4和废液罐12之间；回收管道15连通在配料罐11和出液管道4之间，两个支路管道通过第一多通阀与回流管道24连接。出液管道4通过第二多通阀分别与回收管道15、回流管道24和废液管道16连接。在第二多通阀的上游，出液管道4上设有浓度检测模组18以对出液管道4内的出口溶液的浓度进行检测。若浓度检测模组18检测到出口溶液在第一设定范围内，则第二多通阀连通出液管道4和回流管道24，出口溶液可以通过回流管道24回到储液罐(可以通过两个支路管道回到第一储液罐13和/或第二储液罐14)；若浓度检测模组18检测到出口溶液在第二设定范围内，则第二多通阀连通出液管道4和回收管道15，出口溶液可以通过回收管道15回到配料罐11；若浓度检测模组18检测到出口溶液在设定范围外，则第二多通阀连通出液管道4和废液管道16，出口溶液可以通过废液管道16输送至废液罐12。

其中，第一储液罐13和第二储液罐14分别通过对应的供给管道17与进液管道3连通，可以通过第三多通阀实现多个供给管道17和进液管道3的连接。配料罐11通过输送管道19分别与第一储液罐13和第二储液罐14连通。

可以理解的是，可以在多个管道上分别设置控制阀，以控制对应管道的开关、流量调节。溶液的输送可以通过动力泵实现。

如图1所示，在上述实施例基础之上，进一步地，涂料前驱体溶液供给回收装置还包括：第一管道20、第二管道21和第三管道22；第一管道20连通在配料罐11和废液罐12之间、第二管道21连通在第一储液罐13和废液罐12之间，第三管道22连通在第二储液罐14和废液罐12之间，在输送管道19和供给管道17上均设有浓度检测模组18，还可以在第一管道20、第二管道21和第三管道22上均设置浓度检测模组18。第一管道20、第二管道21和第三管道22用于将对应储液罐、配料罐中的不合格前驱体溶液排放至废液罐中。

本实施例中，可以实现对配料罐11的钙钛矿前驱体溶液、第一储液罐13的钙钛矿前驱体溶液和第二储液罐14的钙钛矿前驱体溶液分别进行检测，从而实现相应的处理。

需要说明的是，为了简化管路结构，可以使用多个多通阀实现多通路的连接和转换。

如图3所示，在上述实施例基础之上，进一步地，为了避免钙钛矿前驱体溶液氧化，可以在配料罐11、第一储液罐13和第二储液罐14上均设置惰性气体进口23以供入惰性的气体，在惰性气体进口23处均设置控制阀。

如图1、图2和图4所示，在上述实施例基础之上，进一步地，滚涂组件1包括：涂布辊102；动力件111，动力件111与涂布辊102传动连接以带动涂布辊102转动；计量辊103，计量辊103与涂布辊102之间设有间隙，以形成液槽104；传送机构，传送机构用于基片的滚涂传送以及进出料传送，涂布辊102和计量辊103均位于传送机构的上方；升降机构106，升降机构106与涂布辊102传动连接，以调节涂布辊102与基片的间距；间隙调节机构107，间隙调节机构107与计量辊103传动连接，以调整计量辊103与涂布辊102之间的间隙；机架，升降机构106和间隙调节机构107固定在机架上。

本实施例中，传送机构对基片10进行输送，在镀膜过程中。涂布辊102和计量辊103之间设有间隙，从而形成液槽104，液槽104容纳由进液管道3供给而来的钙钛矿前驱体溶液；升降机构106可以带动涂布辊102向靠近基片10或者远离基片10的方向运动，从而调整涂布辊102与基片10之间的间隙，进而调整镀膜厚度；间隙调节机构107可以带动计量辊103在水平方向上向远离或者靠近涂布辊102的方向运动，从而调整液槽104的容量，进而调整涂布辊102的挂液量。本实施例提供的滚涂组件1可以实现涂布辊102的位置调整，也能够实现计量辊103的位置调整，从而可以满足不同钙钛矿前驱体溶液需求，灵活性高，实用性强。

具体地，传送机构包括输送皮带101和支撑辊105，涂布辊102和计量辊103位于输送皮带101的上方，支撑辊105位于涂布辊102的下方，且设置在输送皮带101的远离涂布辊102的内侧，以用于对基片10支撑，使得基片10更加稳定，更有利于保障镀膜质量；输送皮带101包括皮带轮和套设在皮带轮上的皮带，位于上侧的皮带部分对基片10进行支撑，皮带轮带动皮带运动，从而带动皮带上的基片10运动，支撑辊105位于上侧皮带部分的远离涂布辊102的一侧，也即支撑辊105和基片10分别位于上侧皮带部分的两侧，实现支撑辊105对基片10的支撑，保障基片10的顺畅输送。支撑辊105的数量可以为一个，也可以为多个(例如：两个、三个或者四个等)，当支撑辊105的数量为多个时，多个支撑辊105沿皮带的延伸方向间隔设置。

输送皮带101中的皮带可以采用无缝橡胶带，输送皮带101含自动纠偏装置，确保皮带跑偏幅度≤5mm。

动力件111可以采用电机。

升降机构106的结构形式可以给多种，例如：升降机构106包括升降电机、丝杠和螺母滑块，升降电机固定在机架上，丝杆与机架转动连接，螺母滑块套设在丝杠外，涂布辊102与螺母滑块连接，升降电机带动丝杠转动，通过丝杠和螺母滑块的螺纹配合，从而实现螺母滑块的直线运动，从而带动涂布辊102直线运动；当然还可以采用齿轮齿条结构、链条结构、皮带机构等可以实现直线运动的机构。

同理，间隙调节机构107可以采用丝杠机构、齿轮齿条结构、链条结构、皮带机构等可以实现直线运动的机构。

具体地，如图2所示，滚涂组件1还包括：第一支板108，第一支板108的数量为两个，两个第一支板108相对设置，涂布辊102的两端分别与两个第一支板108转动连接；至少一个第一支板108上固定有动力件111；升降机机构106的数量为两个，两个升降机构106分别与两个第一支板108一一对应传动连接，也即，一个升降机构106与一个第一支板108传动连接，对应的带动该第一支板108升降，从而带动涂布辊102的一端升降；第二支板109，两个第二支板109相对设置，计量辊103的两端分别与两个第二支板109转动连接；间隙调节机构107的数量为两个，两个间隙调节机构107分别与两个第二支板109一一对应传动连接，也即，一个间隙调节机构107与一个第二支板109传动连接，对应的带动该第二支板109水平移动，从而带动计量辊103的一端水平移动。

本实施例中，设置两个第一支板108，可以使得涂布辊102的转动更加平稳，通过两个升降机构106可以分别实现涂布辊102的两端的升降运动，可以实现涂布辊102的两端同步升降、涂布辊102的一端升降、涂布辊102的两端非同步升降。设置两个第二支板109，可以使得计量辊103的转动更加平稳，通过两个间隙调节机构107可以分别实现计量辊103的两端的升降运动，可以实现计量辊103的两端同步移动、计量辊103的一端移动、计量辊103辊的两端非同步移动。

其中，涂布辊102根据工艺需求可以进行包胶处理，包括但不限于聚氨酯或者橡胶材质，包胶硬度在35-45HA之间，包胶厚度需大于20mm。涂布辊102与基片10之间的间隙在0-10mm之间连续可调，调整精度＜0.01mm。计量辊103表面可以做镜面处理，涂布辊102和计量辊103之间的间隙在0-5mm可调，调整精度＜0.01mm。

如图2所示，在上述实施例基础之上，进一步地，滚涂组件1还包括：消纹辊110，消纹辊110的两端分别与两个第一支板108转动连接，消纹辊110位于涂布辊102的上方。

本实施例中，消纹辊110可用于消除涂布辊102表面溶液的纹路，防止镀膜后膜层水纹的产生。

本发明还提供一种利用上述任一技术方案钙钛矿前驱体溶液滚涂装置的膜层滚涂制备方法，包括：

在基片从进口进入到封闭柜的过程中，打开进口并启动惰性气体供气管道向封闭柜中通入惰性气体，且使得封闭柜的内腔保持正压状态，待基片完全进入到封闭柜内腔中后封闭进口且停止供气；

在滚涂的过程中，通过溶液回收循环系统向辊涂组件持续供给钙钛矿前驱体溶液，且对出液管道中的钙钛矿前驱体溶液进行回收处理；

在滚涂完成后且基片从出口移出到封闭柜外部的过程中，打开出口并启动惰性气体供气管道向封闭柜中通入惰性气体，且使得封闭柜的内腔保持正压状态；

所述出口包括供基片通过的基片出口和间距开设于基片出口上方的气流出口，所述气流出口引导封闭柜排出的气流平行基片上表面，且所述气流出口的气流与基片上表面之间构成负压区，所述基片上的湿膜通过负压区挥发溶剂，且挥发后的溶剂气体汇入所述气流出口的气流中；

待基片完全移出到封闭柜外侧后，封闭进口且停止供气。

如图5所示，所述出口包括供基片通过的基片出口25和间距开设于基片出口25上方的气流出口26，所述气流出口26引导封闭柜2排出的气流平行基片10上表面。由于采用辊涂的方式，在基片10上形成湿膜27后，在重力的作用下湿膜27的上层会存在一定的溶剂，该部分溶剂需要及时处理，否则在后续的基片10转移过程中会造成膜面的不平整等问题，但是如果采用朝向膜面直吹的方式也会损伤膜面，基于此问题，在本方案中，湿膜27在通过基片出口25的同时通过气流出口26的出气气流在湿膜27的上方形成负压区28，通过负压区28从而加速湿膜27上表面溶剂的自挥发，并且将挥发的溶剂携带远离膜面，同时还可以避免气流直吹而损伤膜面。

更进一步的，气流出口26的气流在出口处最大，且随着气流路径的增加而流速增加降低，相应的，在气流方向上，负压区28也是由大至小而逐渐变化的状态，则相应地，随着基片10的不断移出，负压区28对溶剂的挥发增速也逐级降低，气流方向上的最远端，气流速度降低且能够扩散到膜面上，此时膜面上多余溶剂也大幅减少了，膜面呈稳定状态，通过远端低速的气流还能够直接作用于膜面进行溶剂的挥发。

在上述实施例基础之上，进一步地，膜层滚涂制备方法还包括：溶液回收循环系统对钙钛矿前驱体溶液进行供给或回收的处理，包括：将配制好的钙钛矿前驱体溶液通过进液管道3供给滚涂组件1；对由出液管道4排出的出口溶液的浓度进行检测；若出口溶液的检测结果在设定范围内，则将出口溶液作为配制原料进行钙钛矿前驱体溶液进行回收；若出口溶液的检测结果在设定范围外，则将出口溶液作为废料处理。

其中，前驱体溶液需要满足一定品质要求才能够用于向基片10镀膜，可以根据需要设定满足品质要求的检测结果范围，还可以设定可以用于回收再次配制的检测结果范围，设定范围包括上述两种检测记过范围(可以根据具体需要来设置)。

本实施例中，对出口溶液进行检测，如果检测结果在设定范围内，也即出口溶液可以用来回收再利用；如果检测结果在设定范围外，则出口溶液作为废液处理，本实施例提供的膜层滚涂制备方法能够对原料进行回收再利用，从而可以降低生产成本。

作为一种可选方案，设定范围包括第一设定范围(满足涂料品质要求，也即处于第一设定范围内的出口溶液为标准钙钛矿前驱图溶液)和第二设定范围(满足回收再利用要求)；若出口溶液的检测结果在设定范围内，则将出口溶液进行回收，具体包括：若出口溶液的检测结果在第一设定范围内，则将出口溶液作为滚涂组件1的供给液；若出口溶液的检测结果在第二设定范围内，则将出口溶液作为配制原料进行钙钛矿前驱体溶液配制。

本实施例中，将设定范围划分为第一设定范围和第二设定范围，若检测结果在第一设定范围内，则说明出口溶液满足前驱体溶液品质要求，可以直接作为前驱体溶液供给滚涂组件1，若检测结果在第二设定范围内，则说明出口溶液可以回收再利用，将该出口溶液作为原料进行再配制。本实施例将出口溶液的品质细分等级，满足标准钙钛矿前驱体溶液品质要求的可以直接进行涂料镀膜，避免再进入配制工序，节省配制过程，从而可以节能，进一步降低生产成本。

其中，可以根据标准钙钛矿前驱体溶液浓度来设定第一设定范围和第二设定范围，例如：可以但不局限于设定标准钙钛矿前驱体溶液浓度为Mmol/mL，M的值为1.1-1.3；则第一设定范围为M₁＝M±0.05mol/mL；设定标准钙钛矿前驱体溶液浓度为Mmol/mL，则第二设定范围M2为M1～(M1-0.15)mol/mL以及M1～(M1+0.15)mol/mL。

在上述实施例基础之上，进一步地，利用配料罐11配制钙钛矿前驱体溶液；对储液罐和/或进液管道3的钙钛矿前驱体溶液进行检测；若储液罐和/或进液管道3的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在第一设定范围内，则将储液罐和/或进液管道3的钙钛矿前驱体溶液提供给滚涂组件1；若储液罐和/或进液管道3的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在第二设定范围内，则将储液罐和/或进液管道3的钙钛矿前驱体溶液送入配料罐11进行配制；若配料罐11的储液罐和/或进液管道3涂料的检测结果在设定范围外，则将储液罐和/或进液管道3的钙钛矿前驱体溶液作为废料处理。

本实施例中，对储液罐的钙钛矿前驱体溶液的浓度进行检测，或者对进液管道3内的钙钛矿前驱体溶液的浓度进行检测，或者既对储液罐的钙钛矿前驱体溶液的浓度进行检测，又对进液管道3内的钙钛矿前驱体溶液的浓度进行检测，都是在钙钛矿前驱体溶液达到滚涂组件1前进行浓度检测，从而避免变性或者不符合要求的溶液进入滚涂组件1，进而避免影响镀膜质量。

在上述实施例基础之上，进一步地，利用配料罐11配制钙钛矿前驱体溶液；对配料罐11的钙钛矿前驱体溶液进行检测；若配料罐11的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在第一设定范围内，则将配料罐11的钙钛矿前驱体溶液提供给储液罐；若配料罐11的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在第二设定范围内，则将配料罐11的钙钛矿前驱体溶液重新配制；若配料罐11的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在设定范围外，则将配料罐11的钙钛矿前驱体溶液作为废料处理。

本实施例中，对配料罐11内的前驱体溶液进行检测，满足要求才可以输送至储液罐，则避免配料罐11内的钙钛矿前驱体溶液因放置时间长或者氧化等其他原因导致变性，保障了钙钛矿前驱体溶液镀膜的有效进行，提高良品率。

在上述实施例基础之上，可以通过浓度检测组件实现对溶液的浓度检测，具体地：对钙钛矿前驱体溶液进行回收或者向滚涂组件1提供涂布溶液时，对溶液管道中的钙钛矿前驱体溶液进行溶液检测；钙钛矿前驱体溶液通过通液管1801流动，在通液管1801的管壁上沿径向线贯通开设有两个逸出口1805；部分钙钛矿前驱体溶液通过逸出口1805流出至通液管1801的外侧，流出的钙钛矿前驱体溶液以及通液管1801中对应于逸出口1805的钙钛矿前驱体溶液作为动态检测样本的测试溶液；测试溶液在封闭腔1806中具有逸出路径，将光源1802、感应元件1803分别对应于逸出路径在垂直于通液管1801流路方向上的远端非接触式的间距设置，由光源1802发出的检测光束通过测试溶液以及逸出口1805对射至感应元件1803上，通过感应元件1803直接检测溶液的透光度。

本实施例可以实现感应元件1803直接对溶液本身进行检测，避免通液管1801的管体以及管体上残留物质对钙钛矿前驱体溶液检测的干扰，提升检测精度。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。在此处所提供的说明书中，说明了大量具体细节。然而，能够理解，本发明的实施例可以在没有这些具体细节的情况下实践。在一些实例中，并未详细示出公知的方法、结构和技术，以便不模糊对本说明书的理解。此外，本领域的技术人员能够理解，尽管在此的一些实施例包括其它实施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同实施例的特征的组合意味着处于本发明的范围之内并且形成不同的实施例。

Claims (10)

1.一种钙钛矿前驱体溶液滚涂装置，其特征在于，包括：

滚涂组件，用于对基片镀膜；

封闭柜，所述滚涂组件设置在所述封闭柜内；所述封闭柜包括相对设置的两个侧壁，两个所述侧壁中的一个设有进口，两个所述侧壁中的另一个设有出口；所述进口处设有进口封闭件，所述出口处设有出口封闭件；

溶液管道，所述溶液管道包括进液管道和出液管道，所述进液管道与所述封闭柜的内腔连通，以给所述滚涂组件提供钙钛矿前驱体溶液；所述出液管道的一端与所述封闭柜的内腔连通，另一端伸出所述封闭柜外；

惰性气体供气管道，与所述封闭柜的内腔连通，以向所述封闭柜内供入惰性的气体。

2.根据权利要求1所述的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置，其特征在于，还包括：

回收盘，所述回收盘设置在所述封闭柜内，且位于所述滚涂组件的下方以收集所述滚涂组件滴落的溶液，所述回收盘上设有出液口；所述出液管道的一端与所述出液口连通；

溶液回收循环系统，所述出液管道的另一端伸出所述封闭柜外且连通至所述溶液回收循环系统，所述溶液回收循环系统向所述滚涂组件供料。

3.根据权利要求2所述的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置，其特征在于，

所述溶液回收循环系统包括储液罐、配料罐、流路分配模组和浓度检测模组；所述浓度检测模组设置在所述溶液管道上，且所述浓度检测模组检测所述溶液管道内溶液的浓度状态，所述储液罐、所述配料罐通过所述流路分配模组并联式连通于所述出液管道的出液端，所述配料罐向所述储液罐供料，所述储液罐连通于所述进液管道的进液端。

4.根据权利要求3所述的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置，其特征在于，

所述浓度检测模组包括通液管、光源、感应元件和集液容器；所述通液管的两端连通于所述溶液管道上，所述通液管的管壁上沿径向线贯通开设有两个逸出口，所述通液管中的溶液从所述逸出口分流流出并形成供测试光线通过的测试溶液，所述光源、所述感应元件分别各对应于一所述逸出口设置，所述光源和所述感应元件均间距于所述逸出口，且位于所述测试溶液的逸出路径以外，所述集液容器包括封闭腔，所述通液管的管体密封穿设通过所述集液容器，所述逸出口位于封闭腔内。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的钙钛矿前驱体溶液滚涂装置，其特征在于，

所述滚涂组件包括：

涂布辊；

动力件，所述动力件与所述涂布辊传动连接以带动所述涂布辊转动；

计量辊，所述计量辊与所述涂布辊之间设有间隙，以形成液槽；

传送机构，所述传送机构用于基片的滚涂传送以及进出料传送，所述涂布辊和所述计量辊均位于所述传送机构的上方；

升降机构，所述升降机构与所述涂布辊传动连接，以调节所述涂布辊与所述基片的间距；

间隙调节机构，所述间隙调节机构与所述计量辊传动连接，以调整所述计量辊与所述涂布辊之间的间隙；

机架，所述升降机构和所述间隙调节机构固定在所述机架上。

6.根据权利要求1-5任一项所述的一种钙钛矿前驱体溶液滚涂装置的膜层滚涂制备方法，其特征在于，包括：

在基片从进口进入到封闭柜的过程中，打开进口并启动惰性气体供气管道向封闭柜中通入惰性气体，且使得封闭柜的内腔保持正压状态，待基片完全进入到封闭柜内腔中后封闭进口且停止供气；

在滚涂的过程中，通过溶液回收循环系统向辊涂组件持续供给钙钛矿前驱体溶液，且对出液管道中的钙钛矿前驱体溶液进行回收处理；

在滚涂完成后且基片从出口移出到封闭柜外部的过程中，打开出口并启动惰性气体供气管道向封闭柜中通入惰性气体，且使得封闭柜的内腔保持正压状态；

所述出口包括供基片通过的基片出口和间距开设于基片出口上方的气流出口，所述气流出口引导封闭柜排出的气流平行基片上表面，且所述气流出口的气流与基片上表面之间构成负压区，所述基片上的湿膜通过负压区挥发溶剂，且挥发后的溶剂气体汇入所述气流出口的气流中；

待基片完全移出到封闭柜外侧后，封闭进口且停止供气。

7.根据权利要求6所述的膜层滚涂制备方法，其特征在于，还包括：

溶液回收循环系统对钙钛矿前驱体溶液进行供给或回收的处理，包括：

将配制好的钙钛矿前驱体溶液通过所述进液管道供给所述滚涂组件；

对由所述出液管道排出的出口溶液的浓度进行检测；若所述出口溶液的检测结果在设定范围内，则将所述出口溶液进行回收；若所述出口溶液的检测结果在所述设定范围外，则将所述出口溶液作为废料处理。

8.根据权利要求7所述的膜层滚涂制备方法，其特征在于，

所述设定范围包括第一设定范围和第二设定范围；

若所述出口溶液的检测结果在设定范围内，则将所述出口溶液进行回收，具体包括：

若所述出口溶液的检测结果在所述第一设定范围内，则将所述出口溶液作为所述滚涂组件的供给液；

若所述出口溶液的检测结果在所述第二设定范围内，则将所述出口溶液作为配制原料进行钙钛矿前驱体溶液配制；

和/或，设定标准钙钛矿前驱体溶液浓度为Mmol/mL，则所述第一设定范围为M₁＝M±0.05mol/mL；

所述第二设定范围M₂为M₁～(M₁-0.15)mol/mL以及M₁～(M₁+0.15)mol/mL。

9.根据权利要求8所述的膜层滚涂制备方法，其特征在于，

利用配料罐配制钙钛矿前驱体溶液；

对储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液进行检测；

若所述储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在所述第一设定范围内，则将所述储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液提供给滚涂组件；

若所述储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液的检测结果在所述第二设定范围内，则将所述储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液送入所述配料罐进行配制；

若所述配料罐的储液罐和/或所述进液管道的检测结果在所述设定范围外，则将所述储液罐和/或所述进液管道的钙钛矿前驱体溶液作为废料处理。

10.根据权利要求6-7中任一项所述的膜层滚涂制备方法，其特征在于，

对钙钛矿前驱体溶液进行回收或者向滚涂组件提供涂布溶液时，对所述溶液管道中的钙钛矿前驱体溶液进行溶液检测；

所述钙钛矿前驱体溶液通过通液管流动，在所述通液管的管壁上沿径向线贯通开设有两个逸出口；

部分钙钛矿前驱体溶液通过所述逸出口流出至所述通液管的外侧，流出的钙钛矿前驱体溶液以及所述通液管中对应于逸出口的钙钛矿前驱体溶液作为动态检测样本的测试溶液；

测试溶液在封闭腔中具有逸出路径，将光源、感应元件分别对应于逸出路径在垂直于通液管流路方向上的远端非接触式的间距设置，由光源发出的检测光束通过测试溶液以及逸出口对射至感应元件上，通过感应元件直接检测溶液的透光度。