CN205920986U - 一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,包括设有进料带和出料带的池体,进料带和出料带呈间隔均匀的水平设置在池体两端,进料带一端设有均匀布片机构,出料带一端设有硅片收集机构,池体上设置具有容纳腔的腐蚀池和清洗池,输送辊由同步带传动连接在一起并与驱动马达连接,输送辊上设有沿其轴身分布的螺旋,腐蚀池内设有位于输送辊上方的滴水管,滴水管上开设有出水孔,清洗池中设有位于其输送辊上下两方的若干对冲洗管,每对冲洗管上设置对称的冲洗口,与现有技术相比,本实用新型实现均匀布片以及收集,并且避免酸雾对其造成腐蚀,改进输送辊结构,避免发生振动和氢氟酸飞溅,提高了产品质量和生产效率。
Description
【技术领域】
本实用新型涉及晶体硅太阳能电池加工设备的技术领域,特别是一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线。
【背景技术】
随着太阳能电池生产技术的不断提升,对于太阳能电池产品的质量以及成本提出了新的要求。太阳能电池生产必须去除磷硅玻璃,原因如下:由于阳能电池片生产制造过程中的扩散过程中,即使采用背靠背扩散,硅片的所有表面包括边缘都将不可避免地扩散上磷。P-N结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到P-N结的背面,而造成短路。
太阳能电池片生产制造过程中通常在磷扩散处理后进行去除磷硅玻璃处理,通过化学腐蚀法即把硅片放在氢氟酸溶液中浸泡,使其产生化学反应生成可溶性的络和物六氟硅酸,以去除扩散制结后在硅片表面形成的一层磷硅玻璃。现有技术中去除磷硅玻璃装置通常包括池体和进料带和出料带,进料带和出料带呈间隔均匀的水平设置在池体两端,通过在池体内设置带有凸环的输送辊输送硅片向前移动,然而由于氢氟酸具有极其的挥发性,其在池体内容易产生酸雾,而传统装置中无法做到硅片N极与酸雾隔离,因此硅片在行进过程中,酸雾极容易破坏N极上的P-N结,现有输送辊的结构不够合理,其在转动时,硅片容易发生振动,而且容易将氢氟酸溅起而造成对N极的破坏,影响产品质量。而且传统装置利用进料带和出料带用于向池体输送和排出,其不具备上片装置和收集装置,无法进行布片和收集,使用极为不便。
【实用新型内容】
本实用新型的目的就是解决现有技术中的问题,提出一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,能够实现均匀布片以及收集,并在去磷硅玻璃加工过程中隔绝硅片N极,避免酸雾对其造成腐蚀,改进输送辊结构,避免发生振动和氢氟酸飞溅。
为实现上述目的,本实用新型提出了一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,包括设有进料带和出料带的池体,所述进料带和出料带呈间隔均匀的水平设置在池体两端,所述进料带一端设有均匀布片机构,所述出料带一端设有硅片收集机构,所述池体上自进料带至出料带方向设置具有容纳腔的腐蚀池和清洗池,所述腐蚀池和清洗池中设有横置在所述容纳腔内的若干输送辊,所述输送辊由同步带传动连接在一起并与驱动马达连接,所述输送辊上设有沿其轴身分布的螺旋,所述腐蚀池内设有位于输送辊上方的滴水管,所述滴水管上开设有出水孔,所述腐蚀池上方盖设有可开启的封闭盖,所述清洗池中设有位于其输送辊上下两方的若干对冲洗管,每对冲洗管上设置对称的冲洗口,所述清洗池内设有位于出料带一侧的烘干机构,所述腐蚀池一侧设有清水箱,所述清水箱经输送泵与滴水管连接,所述清洗池具有出水口,所述出水口经循环水泵与所述冲洗管连接。
作为优选,所述均匀布片机构包括机架以及设置在机架上的送片带和一对上片架,所述上片架内设有顶片气缸,该对上片架位于送片带的一侧,所述该对上片架之间设有与所述送片带垂直设置的支撑架,所述支撑架上设有可沿支撑架长度方向滑动的提片架,所述提片架两端均设有吸片盘,所述送片带顶端间隔均匀的设有若干平行排列的布片输送带,所述布片输送带与进料带对接,所述布片输送带与送片带垂直设置,相邻两个布片输送带之间设有运片输送带,所述运片输送带与送片带位于同一直线上,所述布片输送带固定在机架上,所述运片输送带固定在位于布片输送带下方的支架上,所述支架可升降的固定在机架上。
作为优选,所述支撑架上设有驱动电机以及与驱动电机连接的传动链,所述传动链张紧在支撑架上,所述提片架固定在传动链上,所述驱动电机可驱动所述提片架在送片带和上片架之间往复移动。
作为优选,所述输送辊的顶部与进料带及出料带的作用面位于同一直线上,所述腐蚀池和清洗池上分别设有用于与进料带和出料带连接的对接口,所述进料带和出料带安装在所述对接口上。
作为优选,所述硅片收集机构包括若干平行排列且间隔均匀的硅片收集输送带,所述硅片收集输送带与出料带对接,所述硅片收集输送带经转运输送带连接在一起,所述硅片收集输送带与转运输送带垂直设置,所述转运输送带顶部设有与驱动机构连接呈可升降设置的升降架,所述升降架上设有收集盒,所述收集盒侧壁上开设有若干层成对分布的容置槽,所述升降架一侧设有与升降架最低行程处平行的收集盒送料带,所述升降架另一侧设有与升降架最高行程处平行的收集盒输送带,所述硅片收集输送带中心设有与转运输送带位于同一中心线的换向输送轮,所述硅片收集输送带固定在第二机架上,所述硅片收集输送带和换向输送轮固定在位于硅片收集输送带下方的第二支架上,所述第二支架可升降的固定在第二机架上。
作为优选,所述转运输送带包括若干段可由电机驱动转动的转运带,所述转运带位于相邻两个硅片收集输送带之间且呈一直线排列,所述转运输送带一侧设有从硅片收集输送带的顶面伸出的限位板,所述限位板固定在第二支架上。
作为优选,所述机架上设有液压气缸,所述液压气缸的活塞杆与支架连接,所述液压气缸可驱动所述支架上升,以致转运输送带的作用面高于硅片收集输送带的作用面。
作为优选,所述驱动机构包括设置在升降架上的齿条以及安装在机架上的齿轮,所述升降架滑动安装在第二机架上,所述齿条与由步进电机驱动的齿轮啮合连接。
作为优选,所述升降架顶部设有推盒座,所述推盒座滑动安装在升降架上并与推盒气缸连接,所述推盒气缸可驱动所述推盒座向收集盒输送带移动。
作为优选,所述烘干机构包括罩设在输送辊上方的罩体以及设置在所述罩体内的加热丝,所述罩体与固定在清洗池一侧的送风机连接。
本实用新型的有益效果:本实用新型利用均匀布片机构将经磷扩散处理后的硅片均匀分布至进料带,采用硅片收集机构收集从出料带中送出的硅片,硅片由进料带首先送入池体的腐蚀池内并位于输送辊上,通过输送辊的转动使其向清洗池移动,利用滴水管向硅片的N极滴入一层清水,使得N极封闭,避免其与酸雾直接接触,当酸雾溶解与该层清水后也极大的降低了其浓度,使其无法对N极造成腐蚀,通过在输送辊上设置螺旋,使得硅片输送更加平稳,而且在输送辊转动时,避免向心力而带起氢氟酸,造成飞溅,与现有技术相比,本实用新型实现均匀布片以及收集,并且避免酸雾对其造成腐蚀,改进输送辊结构,避免发生振动和氢氟酸飞溅,提高了产品质量和生产效率。
本实用新型的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。
【附图说明】
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是图1中E部分的F向视角的结构示意图;
图3是图1中B部分的D向视角的结构示意图;
图4是图1中A部分的C向视角的结构示意图;
图5是本实用新型中池体的结构示意图;
图6是本实用新型中滴水管的结构示意图;
图7是本实用新型中冲洗管的结构示意图;
图8是本实用新型中输送辊的结构示意图;
图中:1-池体、2-进料带、3-出料带、4-腐蚀池、5-清洗池、6-输送辊、7-螺旋、8-驱动马达、9-滴水管、10-出水孔、11-封闭盖、12-冲洗管、13-冲洗口、14-对接口、15-清水箱、16-出水口、17-循环水泵、18-罩体、19-加热丝、20-送风机、21-同步带、31-机架、32-送片带、33-上片架、34-支撑架、35-提片架、36-吸片盘、37-布片输送带、38-运片输送带、39-支架、314-驱动电机、315-传动链、316-顶片气缸、41-硅片收集输送带、42-转运输送带、43-升降架、44-收集盒、45-容置槽、46-收集盒送料带、47-收集盒输送带、48-换向输送轮、49-第二机架、410-第二支架、411-电机、412-转运带、413-限位板、414-液压气缸、415-齿条、416-齿轮、417-步进电机、418-推盒座、419-推盒气缸。
【具体实施方式】
参阅图1至图8,本实用新型包括设有进料带2和出料带3的池体1,进料带2和出料带3均为双排式,所述进料带2和出料带3呈间隔均匀的水平设置在池体1两端,所述进料带一端设有均匀布片机构,所述出料带一端设有硅片收集机构,所述池体1上自进料带2至出料带3方向设置具有容纳腔的腐蚀池4和清洗池5,所述腐蚀池4和清洗池5中设有横置在所述容纳腔内的若干输送辊6,所述输送辊6由同步带21传动连接在一起并与驱动马达8连接,所述输送辊6上设有沿其轴身分布的螺旋7,所述腐蚀池4内设有位于输送辊6上方的滴水管9,所述滴水管9上开设有出水孔10,所述腐蚀池4上方盖设有可开启的封闭盖11,所述清洗池5中设有位于其输送辊6上下两方的若干对冲洗管12,每对冲洗管12上设置对称的冲洗口13,所述清洗池5内设有位于出料带3一侧的烘干机构,所述腐蚀池4一侧设有清水箱15,所述清水箱15经输送泵15与滴水管9连接,所述清洗池5具有出水口16,所述出水口16经循环水泵17与所述冲洗管12连接。采用上述方案后,利用均匀布片机构将经磷扩散处理后的硅片均匀分布至进料带2,由进料2将硅片送至池体1内加工处理,采用硅片收集机构收集从出料带3中送出的硅片,该硅片由进料带2首先送入池体1的腐蚀池4内并位于输送辊6上,腐蚀池4的容纳腔中盛放氢氟酸溶液,P-N结的背面(即P-type)浸泡在氢氟酸溶液中,利用输送泵15将清水箱15内的清水由滴水管9的出水孔10向硅片的N极(即N-type)滴入一层清水,使得N极封闭,避免其与酸雾直接接触,当酸雾溶解与该层清水后也极大的降低了其浓度,使其无法对N极造成腐蚀,通过输送辊6的转动使硅片向清洗池5逐渐移动,通过在输送辊6上设置螺旋7,使得硅片输送更加平稳,而且在输送辊6转动时,避免向心力而带起氢氟酸,造成飞溅,当硅片进入清洗池5后,利用循环水泵17循环输送清洗池5内的清洗水由冲洗管12对硅片的正反两面进行冲洗,最后经烘干机构干燥后,由出料带3将其从池体1中送出后硅片收集机构处理。
具体的,所述均匀布片机构包括机架31以及设置在机架31上的送片带32和一对上片架33,所述上片架33内设有顶片气缸316,该对上片架33位于送片带32的一侧,所述该对上片架33之间设有与所述送片带32垂直设置的支撑架34,所述支撑架34上设有可沿支撑架34长度方向滑动的提片架35,所述提片架35两端均设有吸片盘36,所述送片带32顶端间隔均匀的设有若干平行排列的布片输送带37,所述布片输送带37与进料带2对接,所述布片输送带37与送片带32垂直设置,相邻两个布片输送带37之间设有运片输送带38,所述运片输送带38与送片带32位于同一直线上,所述布片输送带37固定在机架31上,所述运片输送带38固定在位于布片输送带37下方的支架39上,所述支架39经升降组件呈可升降的固定在机架31上。通过位于提片架35两端的吸料盘6向两个上料架3中吸起两片硅片,利用提片架35沿支撑架4移动至送片带32上方后,将硅片投放至送片带32上,改变传统单硅片提起,通过送片带32的传动将硅片输送至布片输送带37上,由于布片输送带37间隔均匀的排列使得硅片达到整齐排列,在硅片由送片带32至布片输送带37的输送过程中利用运片输送带38过渡,通过将运片输送带38可升降的设置,当硅片输送至最远离送片带32的布片输送带37后,位于该布片输送带37一侧的运片输送带38下降,使得后继的硅片无法输送至该布片输送带37,从而保证每个布片输送带37只布置一片硅片,当运片输送带38下降后,其顶部低于布片输送带37的输送面,使得布片输送带37输送更加顺利,避免运片输送带38对其造成干扰。
具体的,所述支撑架34上设有驱动电机314以及与驱动电机314连接的传动链315,所述传动链315张紧在支撑架34上,所述提片架35固定在传动链315上,所述驱动电机314可驱动所述提片架35在送片带32和上片架33之间往复移动。具有驱动结构合理的优点,通过由驱动电机314位于传动链315提供动力,使得提片架35沿支撑架34长度方向滑动,从而将硅片从上片架33提取至送片带32上。
具体的,所述输送辊6的顶部与进料带2及出料带3的作用面位于同一直线上,所述腐蚀池4和清洗池5上分别设有用于与进料带2和出料带3连接的对接口14,所述进料带2和出料带3安装在所述对接口14上。使得硅片在输送辊6、进料带2及出料带3之间输送时更加平稳,同时也能够保证硅片的P-type浸泡在氢氟酸溶液中。
具体的,所述硅片收集机构包括若干平行排列且间隔均匀的硅片收集输送带41,所述硅片收集输送带41与出料带3对接,所述硅片收集输送带41经转运输送带42连接在一起,所述硅片收集输送带41与转运输送带42垂直设置,所述转运输送带2顶部设有与驱动机构连接呈可升降设置的升降架43,所述升降架43上设有收集盒44,所述收集盒44侧壁上开设有若干层成对分布的容置槽45,所述升降架43一侧设有与升降架43最低行程处平行的收集盒送料带46,所述升降架43另一侧设有与升降架43最高行程处平行的收集盒输送带47,所述硅片收集输送带41中心设有与转运输送带42位于同一中心线的换向输送轮48,所述硅片收集输送带41固定在第二机架49上,所述硅片收集输送带41和换向输送轮48固定在位于硅片收集输送带41下方的第二支架410上,所述第二支架410可升降的固定在第二机架49上。通过将硅片收集输送带41与出料带3连接后,可利用硅片收集输送带41将硅片运出池体1外,然后利用换向输送轮48调整输送方向,将沿硅片收集输送带41长度方向改变为与其垂直的转运输送带42的长度方向,并将硅片输送至转运输送带42上,然后利用转运输送带42和换向输送轮48的共同作用将呈列排列的硅片输送至收集盒44内,利用升降架43上升从而将收集盒44逐渐抬起,通过在收集盒44内开设容置槽45,使得硅片依次从上而下插满容置槽45,完成硅片的间隔收集,当收集盒44被插满(即升降架43位于最高行程处时)后由收集盒输送带47送出,收集盒送料带46则可为升降架添加空的收集盒44用于收集。
具体的,所述转运输送带42包括若干段可由电机411驱动转动的转运带412,所述转运带412位于相邻两个硅片收集输送带41之间且呈一直线排列,所述转运输送带42一侧设有从硅片收集输送带41的顶面伸出的限位板413,所述限位板413固定在第二支架410上。利用该结构后,能够将硅片在硅片收集输送带41输送至换向输送轮48后由限位板413限位,避免硅片继续前行,从而造成难以换向的问题。
具体的,所述机架49上设有液压气缸414,所述液压气缸414的活塞杆与支架410连接,所述液压气缸414可驱动所述支架410上升,以致转运输送带42的作用面高于硅片收集输送带41的作用面。由液压气缸414驱动支架410上升,从而带动转运输送带42上升,使其作用面高于硅片收集输送带41的作用面,在转运输送带42对硅片进行输送时,使硅片收集输送带41脱离,避免硅片收集输送带1对其造成干扰。
具体的,所述驱动机构包括设置在升降架43上的齿条415以及安装在机架49上的齿轮416,所述升降架43滑动安装在第二机架49上,所述齿条415与由步进电机417驱动的齿轮416啮合连接。该步进电机417经齿条415和齿轮416的结构控制升降架43升降。
具体的,所述升降架43顶部设有推盒座418,所述推盒座418滑动安装在升降架43上并与推盒气缸419连接,所述推盒气缸419可驱动所述推盒座418向收集盒输送带37移动。利用推盒气缸419的驱动作用,使得已收集满的收集盒44能够顺利进入收集盒输送带47并送出。
具体的,所述烘干机构包括罩设在输送辊6上方的罩体18以及设置在所述罩体18内的加热丝19,所述罩体18与固定在清洗池5一侧的送风机20连接。由送风机20向罩体18通入空气并由加热丝19加热后,排往由输送辊6输送的硅片。
上述实施例是对本实用新型的说明,不是对本实用新型的限定,任何对本实用新型简单变换后的方案均属于本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,包括设有进料带(2)和出料带(3)的池体(1),所述进料带(2)和出料带(3)呈间隔均匀的水平设置在池体(1)两端,其特征在于:所述进料带一端设有均匀布片机构,所述出料带一端设有硅片收集机构,所述池体(1)上自进料带(2)至出料带(3)方向设置具有容纳腔的腐蚀池(4)和清洗池(5),所述腐蚀池(4)和清洗池(5)中设有横置在所述容纳腔内的若干输送辊(6),所述输送辊(6)由同步带(21)传动连接在一起并与驱动马达(8)连接,所述输送辊(6)上设有沿其轴身分布的螺旋(7),所述腐蚀池(4)内设有位于输送辊(6)上方的滴水管(9),所述滴水管(9)上开设有出水孔(10),所述腐蚀池(4)上方盖设有可开启的封闭盖(11),所述清洗池(5)中设有位于其输送辊(6)上下两方的若干对冲洗管(12),每对冲洗管(12)上设置对称的冲洗口(13),所述清洗池(5)内设有位于出料带(3)一侧的烘干机构,所述腐蚀池(4)一侧设有清水箱(15),所述清水箱(15)经输送泵(15)与滴水管(9)连接,所述清洗池(5)具有出水口(16),所述出水口(16)经循环水泵(17)与所述冲洗管(12)连接。
2.根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,其特征在于:所述均匀布片机构包括机架(31)以及设置在机架(31)上的送片带(32)和一对上片架(33),所述上片架(33)内设有顶片气缸(316),该对上片架(33)位于送片带(32)的一侧,所述该对上片架(33)之间设有与所述送片带(32)垂直设置的支撑架(34),所述支撑架(34)上设有可沿支撑架(34)长度方向滑动的提片架(35),所述提片架(35)两端均设有吸片盘(36),所述送片带(32)顶端间隔均匀的设有若干平行排列的布片输送带(37),所述布片输送带(37)与进料带(2)对接,所述布片输送带(37)与送片带(32)垂直设置,相邻两个布片输送带(37)之间设有运片输送带(38),所述运片输送带(38)与送片带(32)位于同一直线上,所述布片输送带(37)固定在机架(31)上,所述运片输送带(38)固定在位于布片输送带(37)下方的支架(39)上,所述支架(39)可升降的固定在机架(31)上。
3.根据权利要求2所述的一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,其特征在于:所述支撑架(34)上设有驱动电机(314)以及与驱动电机(314)连接的传动链(315),所述传动链(315)张紧在支撑架(34)上,所述提片架(35)固定在传动链(315)上,所述驱动电机(314)可驱动所述提片架(35)在送片带(32)和上片架(33)之间往复移动。
4.根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,其特征在于:所述输送辊(6)的顶部与进料带(2)及出料带(3)的作用面位于同一直线上,所述腐蚀池(4)和清洗池(5)上分别设有用于与进料带(2)和出料带(3)连接的对接口(14),所述进料带(2)和出料带(3)安装在所述对接口(14)上。
5.根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,其特征在于:所述硅片收集机构包括若干平行排列且间隔均匀的硅片收集输送带(41),所述硅片收集输送带(41)与出料带(3)对接,所述硅片收集输送带(41)经转运输送带(42)连接在一起,所述硅片收集输送带(41)与转运输送带(42)垂直设置,所述转运输送带(2)顶部设有与驱动机构连接呈可升降设置的升降架(43),所述升降架(43)上设有收集盒(44),所述收集盒(44)侧壁上开设有若干层成对分布的容置槽(45),所述升降架(43)一侧设有与升降架(43)最低行程处平行的收集盒送料带(46),所述升降架(43)另一侧设有与升降架(43)最高行程处平行的收集盒输送带(47),所述硅片收集输送带(41)中心设有与转运输送带(42)位于同一中心线的换向输送轮(48),所述硅片收集输送带(41)固定在第二机架(49)上,所述硅片收集输送带(41)和换向输送轮(48)固定在位于硅片收集输送带(41)下方的第二支架(410)上,所述第二支架(410)可升降的固定在第二机架(49)上。
6.根据权利要求5所述的一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,其特征在于:所述转运输送带(42)包括若干段可由电机(411)驱动转动的转运带(412),所述转运带(412)位于相邻两个硅片收集输送带(41)之间且呈一直线排列,所述转运输送带(42)一侧设有从硅片收集输送带(41)的顶面伸出的限位板(413),所述限位板(413)固定在第二支架(410)上。
7.根据权利要求6所述的一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,其特征在于:所述机架(49)上设有液压气缸(414),所述液压气缸(414)的活塞杆与支架(410)连接,所述液压气缸(414)可驱动所述支架(410)上升,以致转运输送带(42)的作用面高于硅片收集输送带(41)的作用面。
8.根据权利要求7所述的一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,其特征在于:所述驱动机构包括设置在升降架(43)上的齿条(415)以及安装在机架(49)上的齿轮(416),所述升降架(43)滑动安装在第二机架(49)上,所述齿条(415)与由步进电机(417)驱动的齿轮(416)啮合连接。
9.根据权利要求8所述的一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,其特征在于:所述升降架(43)顶部设有推盒座(418),所述推盒座(418)滑动安装在升降架(43)上并与推盒气缸(419)连接,所述推盒气缸(419)可驱动所述推盒座(418)向收集盒输送带(47)移动。
10.根据权利要求1至9中任意一项所述的一种晶体硅太阳能电池加工的去磷硅玻璃加工生产线,其特征在于:所述烘干机构包括罩设在输送辊(6)上方的罩体(18)以及设置在所述罩体(18)内的加热丝(19),所述罩体(18)与固定在清洗池(5)一侧的送风机(20)连接。
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