MD498G2 - Способ получения тонкопленочных структур - Google Patents

Способ получения тонкопленочных структур

Info

Publication number
MD498G2
MD498G2 MD95-0020A MD950020A MD498G2 MD 498 G2 MD498 G2 MD 498G2 MD 950020 A MD950020 A MD 950020A MD 498 G2 MD498 G2 MD 498G2
Authority
MD
Moldova
Prior art keywords
evaporator
evaporation
components
dispensers
thin film
Prior art date
Application number
MD95-0020A
Other languages
English (en)
Romanian (ro)
Other versions
MD498F1 (en
Inventor
Vadim Septichin
Original Assignee
Государственный Университет Молд0
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственный Университет Молд0 filed Critical Государственный Университет Молд0
Priority to MD95-0020A priority Critical patent/MD498G2/ru
Publication of MD498F1 publication Critical patent/MD498F1/xx
Publication of MD498G2 publication Critical patent/MD498G2/ru

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

Изобретение относится к технологии нанесения покрытий в вакууме, в частности к получению полупроводниковых тонкопленочных покрытий с заранее заданным сложным распределением химического состава вдоль толщины слоя и может быть использовано при изготовлении фоточувствительных структур, используемых в электрофотографической системе регистрации оптической информации.Способ получения тонкопленочных структур включает загрузку исходного материала, откачку рабочего объема до высокого вакуума, разогрев испарителя, дискретное испарение материала путем подачи его из дозаторов на заранее разогретый испаритель.Технический результат изобретения заключается в возможности осуществления разогрева испарителя до температуры, обеспечивающей дискретное испарение всех компонентов исходного материала, и подачу его компонентов производят одновременно по заранее заданному закону.Фигуры: 1
MD95-0020A 1994-12-22 1994-12-22 Способ получения тонкопленочных структур MD498G2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MD95-0020A MD498G2 (ru) 1994-12-22 1994-12-22 Способ получения тонкопленочных структур

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MD95-0020A MD498G2 (ru) 1994-12-22 1994-12-22 Способ получения тонкопленочных структур

Publications (2)

Publication Number Publication Date
MD498F1 MD498F1 (en) 1996-10-31
MD498G2 true MD498G2 (ru) 1997-05-31

Family

ID=19738612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
MD95-0020A MD498G2 (ru) 1994-12-22 1994-12-22 Способ получения тонкопленочных структур

Country Status (1)

Country Link
MD (1) MD498G2 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Журнал "ФТП", т.5, № 8, 1971 г., Б.Т. Коломиец, В.М.Любин, В.С.Майдзинский и др."Электрические и фотоэлектрические свойства некоторых пленочных аморфных гетероструктур", c. 1533-1540. *

Also Published As

Publication number Publication date
MD498F1 (en) 1996-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GB2141444A (en) Chemical vapor deposition of titanium nitride and like films
WO2003060184A8 (en) Method and apparatus for forming silicon containing films
JPS57134558A (en) Production of organic vapor deposited thin film
EP0099724A3 (en) Deposition of coatings upon substrates utilising a high pressure, non-local thermal equilibrium arc plasma
JPS57195772A (en) Method of coating base material and coating aqueous solution composition therefor
EP0202869A3 (en) Apparatus and method for drying and curing coated substrates
CA2238314A1 (en) Method for drying lacquers and other coatings on metal or non-metal individual components or assemblies using microwaves
TW351770B (en) Shield layer, method for forming shield layer and producing substrate
EP1281689A3 (en) Inorganic composition, film made therefrom, and method for producing such film
MY106134A (en) Coating process.
EP0399837A3 (en) Method of optimizing photoresist contrast
YU49244B (sh) Postupak za dobijanje c4-c8 alkoksida natrijuma
JPS553863A (en) Treating method of prime coat by gas softening nitriding
JPS57123969A (en) Formation of zinc oxide film by vapor phase method using plasma
GB9123544D0 (en) Improved heat transfer surface
JPS57210972A (en) Formation of film
JPS57180124A (en) Heating method for resistfilm by microwave
ES8507628A1 (es) Procedimiento de deposito de una capa de oxido de estano sobre un substrato
JPS5245592A (en) Method of coating corrosion resistant substance on heating material
JPS5579428A (en) Production of screen for projection
JPS57162430A (en) Process for positive type fine pattern formation
JPS5565357A (en) Surface covering method for substrate by carbide or carbonitride
JPS5533090A (en) Etching method
MCGINNISS Radiation curable coatings[Final Report]
JPS6481314A (en) Formation of doping silicon thin film

Legal Events

Date Code Title Description
FG3A Granted patent for invention
IF99 Valid patent on 19990615

Free format text: EXPIRES: 20141222