MD498G2 - Способ получения тонкопленочных структур - Google Patents
Способ получения тонкопленочных структурInfo
- Publication number
- MD498G2 MD498G2 MD95-0020A MD950020A MD498G2 MD 498 G2 MD498 G2 MD 498G2 MD 950020 A MD950020 A MD 950020A MD 498 G2 MD498 G2 MD 498G2
- Authority
- MD
- Moldova
- Prior art keywords
- filmed
- thin
- evaporator
- feeding
- heating
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к технологии нанесения покрытий в вакууме, в частности к получению полупроводниковых тонкопленочных покрытий с заранее заданным сложным распределением химического состава вдоль толщины слоя и может быть использовано при изготовлении фоточувствительных структур, используемых в электрофотографической системе регистрации оптической информации.Способ получения тонкопленочных структур включает загрузку исходного материала, откачку рабочего объема до высокого вакуума, разогрев испарителя, дискретное испарение материала путем подачи его из дозаторов на заранее разогретый испаритель.Технический результат изобретения заключается в возможности осуществления разогрева испарителя до температуры, обеспечивающей дискретное испарение всех компонентов исходного материала, и подачу его компонентов производят одновременно по заранее заданному закону.Фигуры: 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MD95-0020A MD498G2 (ru) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | Способ получения тонкопленочных структур |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MD95-0020A MD498G2 (ru) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | Способ получения тонкопленочных структур |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MD498F1 MD498F1 (en) | 1996-10-31 |
| MD498G2 true MD498G2 (ru) | 1997-05-31 |
Family
ID=19738612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MD95-0020A MD498G2 (ru) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | Способ получения тонкопленочных структур |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| MD (1) | MD498G2 (ru) |
-
1994
- 1994-12-22 MD MD95-0020A patent/MD498G2/ru active IP Right Grant
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Журнал "ФТП", т.5, № 8, 1971 г., Б.Т. Коломиец, В.М.Любин, В.С.Майдзинский и др."Электрические и фотоэлектрические свойства некоторых пленочных аморфных гетероструктур", c. 1533-1540. * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MD498F1 (en) | 1996-10-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2003060184A3 (en) | Method and apparatus for forming silicon containing films | |
| ES8500874A1 (es) | Un procedimiento para depositar sobre un substrato de vidriocalentado una pelicula de control solar transparente, absorbente y reflectante. | |
| JPS57134558A (en) | Production of organic vapor deposited thin film | |
| WO1992018438A1 (en) | Method of coating a substrate in a fluidized bed | |
| EP0099724A3 (en) | Deposition of coatings upon substrates utilising a high pressure, non-local thermal equilibrium arc plasma | |
| JPS57195772A (en) | Method of coating base material and coating aqueous solution composition therefor | |
| CA2238314A1 (en) | Method for drying lacquers and other coatings on metal or non-metal individual components or assemblies using microwaves | |
| TW351770B (en) | Shield layer, method for forming shield layer and producing substrate | |
| MD498G2 (ru) | Способ получения тонкопленочных структур | |
| EP1281689A3 (en) | Inorganic composition, film made therefrom, and method for producing such film | |
| MY106134A (en) | Coating process. | |
| JPS5428030A (en) | Method for manufacturing far infrared rays radiating element | |
| WO2001049900A8 (fr) | Procede d'application d'un revetement metallique et matiere couverte dudit revetement | |
| JPS57148778A (en) | Heat fixing roller for electronic copying machine | |
| JPS57123969A (en) | Formation of zinc oxide film by vapor phase method using plasma | |
| JPS55124244A (en) | Method of fabricating chip component | |
| JPS55154566A (en) | Manufacture of metal plating body | |
| JPS57210972A (en) | Formation of film | |
| JPS57180124A (en) | Heating method for resistfilm by microwave | |
| ES8507628A1 (es) | Procedimiento de deposito de una capa de oxido de estano sobre un substrato | |
| JPS5579428A (en) | Production of screen for projection | |
| JPS57162430A (en) | Process for positive type fine pattern formation | |
| JPS53105377A (en) | Surface processing method for substrate | |
| MCGINNISS | Radiation curable coatings[Final Report] | |
| JPS6481314A (en) | Formation of doping silicon thin film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG3A | Granted patent for invention | ||
| IF99 | Valid patent on 19990615 |
Free format text: EXPIRES: 20141222 |