MD498G2 - Procedeu de obţinere a structurilor peliculare subţiri - Google Patents

Procedeu de obţinere a structurilor peliculare subţiri

Info

Publication number
MD498G2
MD498G2 MD95-0020A MD950020A MD498G2 MD 498 G2 MD498 G2 MD 498G2 MD 950020 A MD950020 A MD 950020A MD 498 G2 MD498 G2 MD 498G2
Authority
MD
Moldova
Prior art keywords
filmed
thin
evaporator
feeding
heating
Prior art date
Application number
MD95-0020A
Other languages
English (en)
Russian (ru)
Other versions
MD498F1 (ro
Inventor
Vadim Septichin
Original Assignee
Государственный Университет Молд0
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственный Университет Молд0 filed Critical Государственный Университет Молд0
Priority to MD95-0020A priority Critical patent/MD498G2/ro
Publication of MD498F1 publication Critical patent/MD498F1/ro
Publication of MD498G2 publication Critical patent/MD498G2/ro

Links

Landscapes

  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Invenţia se referă la tehnologia depunerii straturilor în vid, în special, la prepararea structurilor peliculare subţiri pe baza semiconductoarelor, cu distribuţie complicată a componentelor de-a lungul grosimii în corespundere cu o lege stabilită în prealabil, şi poate fi utilizată la prepararea straturilor fotosensibile folosite în cadrul sistemelor electrofotografice de înregistrare a informaţiei optice. Procedeul de obţinere a structurilor peliculare subţiri conţine în sine încărcarea materialului iniţial în dozatoare, vidarea incintei până la un vid înalt, încălzirea evaporatorului, evaporarea materialului prin utilizarea evaporării instantanee, presărându-l din dozatoare pe suprafaţa evaporatorului deja încălzit.Rezultatul tehnic al invenţiei constă în posibilitatea efectuării încălzirii evaporatorului până la temperatura, ce asigură evaporarea instantanee a tuturor componentelor materialului iniţial, şi în presărarea concomitentă a componentelor, conform unei legi stabilite în prealabil.
MD95-0020A 1994-12-22 1994-12-22 Procedeu de obţinere a structurilor peliculare subţiri MD498G2 (ro)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MD95-0020A MD498G2 (ro) 1994-12-22 1994-12-22 Procedeu de obţinere a structurilor peliculare subţiri

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MD95-0020A MD498G2 (ro) 1994-12-22 1994-12-22 Procedeu de obţinere a structurilor peliculare subţiri

Publications (2)

Publication Number Publication Date
MD498F1 MD498F1 (ro) 1996-10-31
MD498G2 true MD498G2 (ro) 1997-05-31

Family

ID=19738612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
MD95-0020A MD498G2 (ro) 1994-12-22 1994-12-22 Procedeu de obţinere a structurilor peliculare subţiri

Country Status (1)

Country Link
MD (1) MD498G2 (ro)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Журнал "ФТП", т.5, № 8, 1971 г., Б.Т. Коломиец, В.М.Любин, В.С.Майдзинский и др."Электрические и фотоэлектрические свойства некоторых пленочных аморфных гетероструктур", c. 1533-1540. *

Also Published As

Publication number Publication date
MD498F1 (ro) 1996-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2003060184A3 (en) Method and apparatus for forming silicon containing films
ES8500874A1 (es) Un procedimiento para depositar sobre un substrato de vidriocalentado una pelicula de control solar transparente, absorbente y reflectante.
JPS57134558A (en) Production of organic vapor deposited thin film
WO1992018438A1 (en) Method of coating a substrate in a fluidized bed
EP0099724A3 (en) Deposition of coatings upon substrates utilising a high pressure, non-local thermal equilibrium arc plasma
JPS57195772A (en) Method of coating base material and coating aqueous solution composition therefor
CA2238314A1 (en) Method for drying lacquers and other coatings on metal or non-metal individual components or assemblies using microwaves
TW351770B (en) Shield layer, method for forming shield layer and producing substrate
MD498G2 (ro) Procedeu de obţinere a structurilor peliculare subţiri
EP1281689A3 (en) Inorganic composition, film made therefrom, and method for producing such film
MY106134A (en) Coating process.
JPS5428030A (en) Method for manufacturing far infrared rays radiating element
WO2001049900A8 (fr) Procede d'application d'un revetement metallique et matiere couverte dudit revetement
JPS57148778A (en) Heat fixing roller for electronic copying machine
JPS57123969A (en) Formation of zinc oxide film by vapor phase method using plasma
JPS55124244A (en) Method of fabricating chip component
JPS55154566A (en) Manufacture of metal plating body
JPS57210972A (en) Formation of film
JPS57180124A (en) Heating method for resistfilm by microwave
ES8507628A1 (es) Procedimiento de deposito de una capa de oxido de estano sobre un substrato
JPS5579428A (en) Production of screen for projection
JPS57162430A (en) Process for positive type fine pattern formation
JPS53105377A (en) Surface processing method for substrate
MCGINNISS Radiation curable coatings[Final Report]
JPS6481314A (en) Formation of doping silicon thin film

Legal Events

Date Code Title Description
FG3A Granted patent for invention
IF99 Valid patent on 19990615

Free format text: EXPIRES: 20141222