MD4720B1 - Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent - Google Patents

Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent Download PDF

Info

Publication number
MD4720B1
MD4720B1 MDA20190001A MD20190001A MD4720B1 MD 4720 B1 MD4720 B1 MD 4720B1 MD A20190001 A MDA20190001 A MD A20190001A MD 20190001 A MD20190001 A MD 20190001A MD 4720 B1 MD4720 B1 MD 4720B1
Authority
MD
Moldova
Prior art keywords
inductive
trivalent chromium
capacitive
electrolyte
limits
Prior art date
Application number
MDA20190001A
Other languages
English (en)
Russian (ru)
Other versions
MD4720C1 (ro
Inventor
Виорел ГОЛОГАН
Светлана СИДЕЛЬНИКОВА
Серджиу ИВАШКУ
Галина ВОЛОДИНА
Original Assignee
Институт Прикладной Физики
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Прикладной Физики filed Critical Институт Прикладной Физики
Priority to MDA20190001A priority Critical patent/MD4720C1/ro
Publication of MD4720B1 publication Critical patent/MD4720B1/ro
Publication of MD4720C1 publication Critical patent/MD4720C1/ro

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

Invenţia se referă la galvanotehnică, şi anume la un procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent.Procedeul, conform invenţiei, include depunerea acoperirii de crom dintr-un electrolit oxalat-sulfat, care conţine, g/l: Cr2(SO4)3·6H2O - 150...200, NiSO4·7H2O - 1...10, Na2С4H4О6·2H2O - 1...3, Na2C2O4 - 25...30, Na2SO4 - cel mult 80, la un pH de 0,8...1,0, o temperatură a electrolitului de 30...50°C şi o densitate a curentului catodic de 3,0...5,0 kA/m2, cu utilizarea unei surse de curent trifazat şi a unui dispozitiv inductiv-capacitiv, conectat consecutiv în circuitul de alimentare a băii galvanice, totodată dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele, blocul inductiv având inductanţa în limitele 0,1…10,0 H, iar blocul capacitiv având capacitatea sumară în limitele 0,001…0,11 F.
MDA20190001A 2019-01-02 2019-01-02 Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent MD4720C1 (ro)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDA20190001A MD4720C1 (ro) 2019-01-02 2019-01-02 Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDA20190001A MD4720C1 (ro) 2019-01-02 2019-01-02 Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent

Publications (2)

Publication Number Publication Date
MD4720B1 true MD4720B1 (ro) 2020-10-31
MD4720C1 MD4720C1 (ro) 2021-05-31

Family

ID=73196638

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
MDA20190001A MD4720C1 (ro) 2019-01-02 2019-01-02 Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent

Country Status (1)

Country Link
MD (1) MD4720C1 (ro)

Also Published As

Publication number Publication date
MD4720C1 (ro) 2021-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102197508B1 (ko) 크롬 도금 부품의 제조 방법 및 크롬 도금 장치
TR201902607T4 (tr) Bir üç değerlikli krom kaplama banyosuyla krom kaplama işlemi.
WO2016096946A1 (en) Substrate holder for vertical galvanic metal deposition
MX2016001230A (es) Metodo para formar una pelicula de recubrimiento de capas multiples.
US2384300A (en) Electrolytic deposition of zinc
MD4720B1 (ro) Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent
MD4603B1 (ro) Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent
BR112017003631A2 (pt) composição ácida de banho de galvanização de liga de zinco e zinco-níquel e método de eletrogalvanização
CN102839400A (zh) 一种无添加剂的电镀镍溶液及其电镀方法
US1519572A (en) Electroplating
CN205556812U (zh) 一种高耐腐蚀性三价铬电镀黑铬的复合镀层结构
MD4721B1 (ro) Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de nichel
MX2021005299A (es) Ba?o de cobre satinado y metodo de deposito de una capa de cobre satinado.
MX2022007618A (es) Ba?o de chapado compuesto de zinc-niquel-silice y metodo para chapar usando el ba?o de chapado.
Narasimhamurthy et al. Electrodeposition of zinc-iron from an alkaline sulfate bath containing triethanolamine
US2377229A (en) Electrolytic deposition of chromium
CN203683711U (zh) 一种镀铜整流装置
PH12021550107A1 (en) Electrode for the electroplating or electrodeposition of a metal
MD4032B1 (ro) Procedeu de regenerare a unui electrolit pentru depunerea acoperirilor feroase
MX2021008869A (es) Sistema para electrorrecubrimiento de sustratos conductores.
CN107858719B (zh) 一种NdFeB磁体表面复合金属保护层及其制备方法
US20200255965A1 (en) Coating Laminated Body and Method for Producing the Same
CN104073862A (zh) 一种用于碱性锌镍合金电镀的不溶性阳极装置
GB277295A (en) Improvements in chromium plating
US811759A (en) Electrodeposition.

Legal Events

Date Code Title Description
FG4A Patent for invention issued
TC4A Change of name of proprietor (patent for invention)

Owner name: INSTITUTIA PUBLICA UNIVERSITATEA DE STAT DIN MOLDOVA, MD STR. A. MATEEVICI NR. 60, MD-2009, CHISINAU, REPUBLICA MOLDOVA

Free format text: PREVIOUS NAME OF PROPRIETOR: INSTITUTUL DE FIZICA APLICATA, MD STR. ACADEMIEI NR. 5, MD-2028, CHISINAU, REPUBLICA MOLDOVA

KA4A Patent for invention lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration)