MD4720C1 - Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent - Google Patents
Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent Download PDFInfo
- Publication number
- MD4720C1 MD4720C1 MDA20190001A MD20190001A MD4720C1 MD 4720 C1 MD4720 C1 MD 4720C1 MD A20190001 A MDA20190001 A MD A20190001A MD 20190001 A MD20190001 A MD 20190001A MD 4720 C1 MD4720 C1 MD 4720C1
- Authority
- MD
- Moldova
- Prior art keywords
- electrolyte
- deposition
- inductive
- capacitive
- chromium
- Prior art date
Links
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 34
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 239000011651 chromium Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims abstract description 16
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 7
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000007832 Na2SO4 Substances 0.000 claims abstract description 5
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 5
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 claims abstract description 5
- MYHXWQZHYLEHIU-UHFFFAOYSA-N oxalic acid;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.OC(=O)C(O)=O MYHXWQZHYLEHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N heavy water Substances [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000329 aluminium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 235000011128 aluminium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N Formic acid Chemical compound OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005619 boric acid group Chemical class 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- BFGKITSFLPAWGI-UHFFFAOYSA-N chromium(3+) Chemical compound [Cr+3] BFGKITSFLPAWGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFSKIUZTIHBWFR-UHFFFAOYSA-N chromium;hydrate Chemical compound O.[Cr] QFSKIUZTIHBWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000013905 glycine and its sodium salt Nutrition 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- 238000003913 materials processing Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000001433 sodium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229960002167 sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011004 sodium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Invenţia se referă la galvanotehnică, şi anume la un procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent.Procedeul, conform invenţiei, include depunerea acoperirii de crom dintr-un electrolit oxalat-sulfat, care conţine, g/l: Cr2(SO4)3·6H2O - 150...200, NiSO4·7H2O - 1...10, Na2C4H4O6·2H2O - 1...3, Na2C2O4 - 25...30, Na2SO4 - cel mult 80, la un pH de 0,8...1,0, o temperatură a electrolitului de 30...50°C şi o densitate a curentului catodic de 3,0...5,0 kA/m2, cu utilizarea unei surse de curent trifazat şi a unui dispozitiv inductiv-capacitiv, conectat consecutiv în circuitul de alimentare a băii galvanice, totodată dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele, blocul inductiv având inductanţa în limitele 0,1…10,0 H, iar blocul capacitiv având capacitatea sumară în limitele 0,001…0,11 F.
Description
Invenţia se referă la galvanotehnică, şi anume la un procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent.
În industria modernă de resort o atenţie deosebită este acordată creării şi introducerii în producere a unor noi tehnologii galvanice progresive, care să contribuie la sporirea durităţii, uzurii şi rezistenţei la coroziune, reducând pericolul pentru mediul înconjurător. Principalul obstacol în calea accelerării introducerii tehnologiilor în producere este pericolul ecologic ridicat al electroliţilor bazaţi pe Cr (VI) [ГН 2.2.5.1313-03 Предельно допустимые концентрации (ПДК) вредных веществ в воздухе рабочей зоны]. Reducerea esenţială a pericolului ecologic, în special, a tot ce se referă la electroliţii pe bază de Cr (VI) contribuie la necesitatea elaborării şi introducerii în producţie a unor noi electroliţi pe bază de crom trivalent (Cr (III)), a căror calitate nu este mai prejoasă decât a depunerilor din electroliţii cromului hexavalent. O direcţie de perspectivă, în acest sens este dezvoltarea unor electroliţi eficienţi şi stabili pe bază de Cr (III). Ei sunt mai puţin toxici, în plus, echivalentul electrochimic al cromului trivalent este de două ori mai mare.
Din păcate, nu există date generalizate şi sistematizate privind proprietăţile cromării "trivalente", rezultatele cercetărilor sunt contradictorii şi dificil de reprodus. Acest lucru se datorează imperfecţiunii tehnologiei actuale de cromare trivalentă.
Sunt cunoscute diferite categorii de electroliţi pe bază de crom trivalent, în care pentru depunerea cromului sunt utilizate, preponderent, soluţiile unui şir de lianţi (formiat, acetat, oxalat etc.), care, în dependenţă de caz, mai conţin agenţi de tamponare şi amestecurile lor din grupul de acizi borici sau sărurile de amoniu (sulfat de amoniu, clorură de amoniu), precum şi a diferitor agenţi de ajustare a pH-ului, agenţi tensioactivi etc.
Este cunoscut un procedeu de depunere electrochimică a cromului la o densitate de curent de 2,0...5,0 kA/m2 şi un indice pH de 1,1...2,1, dintr-un electrolit care conţine, g/l: Cr2(SO4)3·6H2O - 100...200, H2С2О4 - 25...35, Na2С2О4 - 15...35, Na2SO4 - 80, Al2(SO4)3 - 100 [1].
Dezavantajele acestui procedeu constau în necesitatea ajustării constante a indicelui pH, datorită dezalcalinizării rapide a spaţiului catodic. Practicarea pentru acest procedeu a densităţii curentului de 5,0 kA/m2 afectează negativ aspectul depunerii şi, în cazul indicelui pH ≥ 1,9, acoperirile îşi pierd aspectul şi calitatea.
Este cunoscut un procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent, care conţine, g/l: Cr2(SO4)3·6H2O - 100...200, HCOOH - 30...90, H3BO3 - 0,5...30, Na2SO4 - 30...50, Al2(SO4)3 - 30...120, C2H5NO2 - 1...5, agenţi tensioactivi 0,1...1,0; cu o densitate de curent de 1,0...9,0 kA/m2 şi un pH de 1,0...2,0 [2].
Dezavantajele acestui procedeu constau în aceea că acoperirile depuse din acest electrolit sunt calitative numai la grosimi de până la 15 µm şi la un randament de curent pentru crom de 15...20%, totodată este remarcată dependenţa excesivă a eficacităţii procesului de cromare şi a intervalului depunerilor calitative de cantitatea aminoacizilor din soluţia electrolitului.
Mai este cunoscut un procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent, care conţine, g/l: Cr2(SO4)3·6H2O - 260, Na2С2О4 - 126, (NH4)2SO4 - 66, H3BO3 - 30, agenţi tensioactivi 0,5; cu o densitate de curent de 0,3...30,0 kA/m2 şi un pH de 7,1...12,0 [3].
Dezavantajele acestui procedeu constau într-un randament redus, deci, o viteză relativ mică de depunere, totodată depunerile de crom obţinute din acest electrolit au caracteristici bune numai la grosimi mici ale stratului de crom până la 5 µm.
Cea mai apropiată soluţie este un procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de oxalat-sulfat de Cr (III) cu următoarea componenţă, g/l: Cr2(SO4)3·6H2O - 150...250, Na2С2О4 - 20...30; cu o densitate de curent de ik = 4,0...5,0kA/m2, o temperatură a electrolitului de tel = 30...45°C şi un pH de 1,5 [4].
Dezavantajele acestui procedeu constau în puterea de acoperire mult mai redusă, conductivitatea electrică scăzută sau dificultăţile legate de supraveghere şi control al procesului, totodată se observă tendinţa spre fisurare a depunerilor de crom şi exfolierea lor ulterioară din cauza aderenţei nesatisfăcătoare.
Problema pe care o rezolvă invenţia constă în creşterea grosimii straturilor de crom depuse din soluţii de sare trivalentă şi a productivităţii de depunere a lor.
Procedeul, conform invenţiei, include depunerea acoperirii de crom dintr-un electrolit oxalat-sulfat, care conţine, g/l: Cr2(SO4)3·6H2O - 150...200, NiSO4·7H2O - 1...10, Na2С4H4О6·2H2O - 1...3, Na2С2О4 - 25...30, Na2SO4 - cel mult 80, la un pH de 0,8...1,0, o temperatură a electrolitului de 30...50°C şi o densitate a curentului catodic de 3,0...5,0 kA/m2, cu utilizarea unei surse de curent trifazat şi a unui dispozitiv inductiv-capacitiv, conectat consecutiv în circuitul de alimentare a băii galvanice, totodată dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele, blocul inductiv având inductanţa în limitele 0,1…10,0 H, iar blocul capacitiv având capacitatea sumară în limitele 0,001…0,11 F.
Rezultatul tehnic al invenţiei constă în determinarea condiţiilor optime de electroliză pentru obţinerea acoperirilor de crom şi extinderea domeniului de aplicare a tehnologiei de cromare "trivalentă" în industriile constructoare solicitate.
Invenţia se explică prin desenele din fig. 1-5, care reprezintă:
- fig. 1, instalaţia pentru depunerea cromului;
- fig. 2-5, aspectul morfologic al acoperirilor de crom pentru diferite condiţii de depunere.
Instalaţia de depunere a acoperirilor de crom (fig. 1) constă din sursa trifazată de curent continuu 1, dotată cu dispozitivul inductiv-capacitiv (DIC) şi baia galvanică 2. Totodată, dispozitivul inductiv-capacitiv este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele [SU 1621559 A1 1989.03.10].
Încercările au fost efectuate în Laboratorul „Metode Electrofizice şi Electrochimice de Prelucrare a Materialelor” Boris Lazarenko al Institutului de Fizică Aplicată.
Mărimile optime ale inductanţei (Lop) şi ale capacităţii (Cop) au fost determinate în comun cu eficacitatea procesului de cromare: L=3 H, C=0,0176 F. Principalul aspect urmărit a fost studiul tehnologiei de depunere a cromului din electrolit modificat, cu sau fără participarea DIC din dotarea sursei de curent continuu. Pentru fiecare probă experimentul a durat câte trei ore. Mostrele au fost confecţionate din oţel 3 (Ø12x2 mm). Compoziţia electrolitului a fost identică pe întreaga perioadă a procesului de testare. Corectarea pH-ului s-a efectuat cu H2SO4 şi NaOH. S-au utilizat anozi din plasă de titan platinat.
În urma efectuării cercetărilor s-a constatat, că introducerea în electrolit a sulfatului de nichel de la 0,5 g/l la 10 g/l este remarcat prin posibilitatea obţinerii unor depuneri calitative cu morfologie satisfăcătoare (fig. 2-5).
Deşi utilizarea sulfatului de nichel, în vederea formării unor noi complecşi în electrolitul de cromare, a condus la o anumită stabilitate în funcţionarea lui dar, totuşi, nu a eliminat pe deplin problema stabilităţii procesului, cât şi a însuşirilor acoperirilor. De aceea, de rând cu modificarea compoziţiei electrolitului de cromare, s-a recurs şi la alimentarea băii galvanice de la o sursă de curent continuu, dotată cu dispozitivul inductiv-capacitiv. Fenomenul respectiv poate fi remarcat în cazul analizei vizuale a suprafeţelor depunerii (fig. 2, fig. 3).
Astfel, pentru aceeaşi densitate de curent ik = 4,0 kA/m2, aceeaşi compoziţie a electrolitului (concentraţia NiSO4 - 5,0 g/l) şi acelaşi indice pH 0,9, utilizarea sursei cu conectarea DIC, reglat la parametri optimali, conform procedeului propus, permite obţinerea unor depuneri de crom fine şi calitative (fig. 3).
Pentru acoperirile depuse în condiţii similare (în ambele cazuri grosimea a fost identică, h=7,2 µm), dar fără conectarea DIC, se poate observa caracterul de creştere, mai pronunţat, având o morfologie definită de mulţimea formaţiunilor sferoidale (fig. 2). În consecinţă, creşte şi rugozitatea în raport cu timpul.
Din alt punct de vedere, prezenţa redusă a defectelor superficiale la utilizarea sursei cu conectarea DIC, permite continuarea procesului şi, la necesitate, obţinerea straturilor groase (fig. 4). Aici, se poate vedea că suprafaţa mostrei nu a suportat modificări majore în timp, fiind de o calitate superioară (h = 20 µm).
Eficienţa procedeului propus, sau mai precis - lipsa lui, în cazul depunerilor fără conectarea DIC, este foarte expresiv redată în fig. 5, unde suprafaţa cromului depus, pentru aceeaşi grosime h = 19µm, este determinată de prezenţa pronunţată şi masivă a formaţiunilor sferoidale, cu o rugozitate sporită.
Aceleaşi tendinţe sunt observate şi în cazul microdurităţii, care, pentru crom depus cu conectarea DIC a atins valori până la Hµ=13,0 GPa. Pentru alte valori ale concentraţiei sulfatului de nichel, microduritatea este cuprinsă în intervalul de 9,0...13,0 GPa.
Procedeul revendicat permite obţinerea unor parametri avansaţi ai procesului galvanic de cromare, cât şi a depunerilor rezultate, modificând compoziţia electrolitului cu sărurile altui metal - în acest caz a nichelului. Totodată, invenţia propune introducerea în componenţa electrolitului a tartratului de natriu, ceea ce contribuie la stabilitatea electrolitului din punct de vedere al prezenţei hidratului de crom în timpul procesului de depunere.
Procedeul propus poate fi realizat în instalaţiile, în care au fost electroliţi clasici de cromare prin includerea dispozitivului inductiv-capacitiv.
1. Едигарян А., Полукаров Ю. Электроосаждение и свойства осадков хрома из концентрированных сернокислых растворов Cr(III). Защита металлов, 1998, т. 34, с. 117-122
2. RU 2093612 C1 1997.10.20
3. RU 2139369 C1 1999.10.10
4. Салахова Р., Семенычев В. Особенности хромирования в электролитах на основе соединений трехвалентного хрома с применением наноразборных частиц оксида циркония. Известия Самарского научного центра Российской академии наук, т. 14, 2012, с. 787-790
Claims (1)
- Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent, care include depunerea acoperirii de crom dintr-un electrolit oxalat-sulfat, care conţine, g/l: Cr2(SO4)3·6H2O - 150...200, NiSO4·7H2O - 1...10, Na2С4H4О6·2H2O - 1...3, Na2С2О4 - 25...30, Na2SO4 - cel mult 80, la un pH de 0,8...1,0, o temperatură a electrolitului de 30...50°C şi o densitate a curentului catodic de 3,0...5,0 kA/m2, cu utilizarea unei surse de curent trifazat şi a unui dispozitiv inductiv-capacitiv, conectat consecutiv în circuitul de alimentare a băii galvanice, totodată dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele, blocul inductiv având inductanţa în limitele 0,1…10,0 H, iar blocul capacitiv având capacitatea sumară în limitele 0,001…0,11 F.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20190001A MD4720C1 (ro) | 2019-01-02 | 2019-01-02 | Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20190001A MD4720C1 (ro) | 2019-01-02 | 2019-01-02 | Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MD4720B1 MD4720B1 (ro) | 2020-10-31 |
| MD4720C1 true MD4720C1 (ro) | 2021-05-31 |
Family
ID=73196638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MDA20190001A MD4720C1 (ro) | 2019-01-02 | 2019-01-02 | Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| MD (1) | MD4720C1 (ro) |
-
2019
- 2019-01-02 MD MDA20190001A patent/MD4720C1/ro not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MD4720B1 (ro) | 2020-10-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101367924B1 (ko) | 결정형 크롬 고착물 | |
| US3762882A (en) | Wear resistant diamond coating and method of application | |
| Ünal et al. | Production and characterization of electrodeposited Ni-B/hBN composite coatings | |
| US5389226A (en) | Electrodeposition of nickel-tungsten amorphous and microcrystalline coatings | |
| Thiemig et al. | Influence of pulse plating parameters on the electrocodeposition of matrix metal nanocomposites | |
| Thiemig et al. | Influence of hydrodynamics and pulse plating parameters on the electrocodeposition of nickel–alumina nanocomposite films | |
| Tsyntsaru et al. | Tribological and corrosive characteristics of electrochemical coatings based on cobalt and iron superalloys | |
| CN106414807B (zh) | 镀镍液、固体微粒附着金属线的制造方法和固体微粒附着金属线 | |
| Sheu et al. | Effects of alumina addition and heat treatment on the behavior of Cr coatings electroplated from a trivalent chromium bath | |
| Yılmaz et al. | Properties of Ni/Nano-TiO2 composite coatings prepared by direct and pulse current electroplating | |
| Raghavendra et al. | Electrodeposition of Ni-Al2O3 nano composite coating and evaluation of wear characteristics | |
| US7699970B2 (en) | Production of structured hard chrome layers | |
| JP4542134B2 (ja) | 構造化硬質クロム層の製造およびコーティングの製造 | |
| Aruna et al. | Comparative study on the effect of current density on Ni and Ni–Al2O3 nanocomposite coatings produced by electrolytic deposition | |
| MD4720C1 (ro) | Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent | |
| Bobanova et al. | The effect of the pH on the composition and properties of Co-W alloys manufactured from gluconate electrolyte | |
| RU2169798C1 (ru) | Способ получения композиционных покрытий на основе цинка | |
| EP3607116A1 (en) | Method for electrolytically depositing a chromium or chromium alloy layer on at least one substrate | |
| Pan et al. | Effects of saccharin and tetramethylammonium bromide on the microstructure and microhardness of thick cobalt electrodeposits | |
| US4388379A (en) | Electrodeposition of low stress, hard iron alloy and article so produced | |
| Basirun et al. | Studies of platinum electroplating baths Part VI: Influence of some experimental parameters on deposit quality | |
| Ramesh et al. | Electrochemical study of Zn-Fe alloy coatings on mild steel for automotive applications | |
| Abdel Hamid et al. | Electrodeposition and characterization of chromium–tungsten carbide composite coatings from a trivalent chromium bath | |
| US8425751B1 (en) | Systems and methods for the electrodeposition of a nickel-cobalt alloy | |
| US3736108A (en) | Articles and method of electrodepositing a decorative nickel/chromium coating on a metal substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG4A | Patent for invention issued | ||
| TC4A | Change of name of proprietor (patent for invention) |
Owner name: INSTITUTIA PUBLICA UNIVERSITATEA DE STAT DIN MOLDOVA, MD STR. A. MATEEVICI NR. 60, MD-2009, CHISINAU, REPUBLICA MOLDOVA Free format text: PREVIOUS NAME OF PROPRIETOR: INSTITUTUL DE FIZICA APLICATA, MD STR. ACADEMIEI NR. 5, MD-2028, CHISINAU, REPUBLICA MOLDOVA |
|
| KA4A | Patent for invention lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration) |