LT4534B - Šviesai jautri vandeniniais bazių tirpalais ryškinama kompozicija - Google Patents
Šviesai jautri vandeniniais bazių tirpalais ryškinama kompozicija Download PDFInfo
- Publication number
- LT4534B LT4534B LT97-161A LT97161A LT4534B LT 4534 B LT4534 B LT 4534B LT 97161 A LT97161 A LT 97161A LT 4534 B LT4534 B LT 4534B
- Authority
- LT
- Lithuania
- Prior art keywords
- composition
- weight
- organic
- polymer
- glass
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 77
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 33
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 21
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 16
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical group OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 12
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 11
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 10
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 claims description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000008427 organic disulfides Chemical class 0.000 claims description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- -1 alkyl methacrylates Chemical class 0.000 claims description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 claims description 4
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PJSFSGDOJMHKHC-UHFFFAOYSA-N (2,6-dimethoxyphenyl)-diphenylphosphanylmethanone Chemical group COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PJSFSGDOJMHKHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GAYUSSOCODCSNF-UHFFFAOYSA-N 1-(dodecyldisulfanyl)dodecane Chemical group CCCCCCCCCCCCSSCCCCCCCCCCCC GAYUSSOCODCSNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 5
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 abstract description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical group C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 4
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- RUJPNZNXGCHGID-UHFFFAOYSA-N (Z)-beta-Terpineol Natural products CC(=C)C1CCC(C)(O)CC1 RUJPNZNXGCHGID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Polymers OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 2
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- QJVXKWHHAMZTBY-GCPOEHJPSA-N syringin Chemical compound COC1=CC(\C=C\CO)=CC(OC)=C1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 QJVXKWHHAMZTBY-GCPOEHJPSA-N 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 2
- NDXRPDJVAUCBOH-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxybenzoyl chloride Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(Cl)=O NDXRPDJVAUCBOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000005456 glyceride group Chemical group 0.000 description 1
- KZMGQXAJNFLCDE-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid ruthenium(4+) Chemical group [Ru+4].ClO KZMGQXAJNFLCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004059 quinone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
Išradimas priklauso mikroelektronikos sričiai ir yra skirtas storasluoksnių hibridinių mikroschemų elementų (laidininkų, rezistorių, kondensatorių), daugiasluoksnių komutacinių plokščių ir specialios paskirties gaminių (temperatūros, drėgmės, dujų daviklių ir t.t.) charakteristikų pagerinimui bei funkcinių galimybių išplėtimui.
Charakteringas audringo šiuolaikinės mikroelektronika vystymosi bruožas nuolat didėjanti gaminių miniatiūrizacija, naujų medžiagų bei technologijų panaudojimas. Vis didesni reikalavimai keliami ir seniai žinomoms, klasikinėmis tapusiomis technologijoms, tame tarpe ir storasluoksnei technologijai, kuri, dėka savo paprastumo ir didelio našumo, šiuolaikinėje hibridinėje mikroelektronikoje yra išsikovojusi tvirtas pozicijas ir nesiruošia jų užleisti.
Storasluoksnės technologijos esmė - specialių daugiakomponenčių kompozicijų, vadinamų pastomis, tepimas per trafaretus ant keraminių pagrindų ir tolesnis jų terminis apdorojimas aukštose temperatūrose (600-1000° C). Pastos, savo ruožtu tai labai smulkių neorganinių komponentų miltelių dispersija inertinėje organinėje terpėje, kuri užtikrina reikiamą visos kompozicijos klampumą, Teologines ir tiksotropines savybes. Terminio apdorojimo metu organinė terpė išdega, ir ant keraminio pagrindo lieka trafaretinio spausdinimo būdu suformuoti hibridinių mikroschemų elementai. Priklausomai nuo pastų neorganinių komponentų sudėties bei jų tarpusavio santykio, šiuo metodu formuojami laidininkai, rezistoriai, kondensatoriai, izoliaciniai sluoksniai, gaminamos daugiasluoksnės komutacinės plokštės bei kiti gaminiai. Pagrindinis storasluoksnės technologijos trūkumas slypi trafaretinio spausdinimo principe. Nepaisant didelės pažangos šioje srityje, trafaretinio spausdinimo būdu praktiškai- neįmanoma suformuoti plonesnius nei 100 mikronų laidininkus, gauti siauresnius nei 100 mikronų tarpus tarp laidininkų arba mažesnes nei 200 mikronų kiaurymes izoliaciniuose sluoksniuose. Masinės gamybos sąlygomis nurodytos ribinės reikšmės yra gerokai didesnės. Todėl, įvertinant gerąsias storasluoksnės technologijos puses, labai aktualu ieškoti galimybių padidinti jos skiriamąją gebą. Viena iš tokių galimybių - disperguoti pastų neorganinių komponentų miltelius šviesai jautrioje organinėje terpėje. Švitinant tokios pastos sluoksnį ant keraminio padėklo didelio intensyvumo ultravioletiniais spinduliais per fotošabloną, kurio skaidrios spinduliavimui zonos atitinka būsimą plėvelinių elementų išsidėstymą, apšviestose vietose vyksta organinės terpės fotopolimerizacija. Eksponuoti tokios šviesai jautrios pastos plotai, skirtingai nuo neapšvitintų, praranda tirpumą ir, paveikus atitinkamu tirpikliu, lieka ant keraminio padėklo. Sekanti technologinė operacija (terminis apdorojimas) nesiskiria nuo įprastinės. Tuo būdu, pakeitus trafaretinį spausdinimą fotocheminiu procesu, žymiai padidėja storasluoksnės technologijos skiriamoji geba. Pirmoji tokio tipo fotopolimerinė kompozicija (pasta) užpatentuota 1975 m. (JAV patentas Nr. 3877950). Šiame patente aprašyta kompozicija, susidedanti iš:
1) aukso miltelių, kurių dalelių dydis yra nuo 0.4 mikronų iki 4 mikronų;
2) stiklo miltelių, kurie užtikrina aukso adheziją ant keramikos;
3) inertinio organinio polimero (polimetilmetakrilatas, polietilakrilatas arba jų mišinys);
4) fotoinicijuojaneios sistemos;
5) polifunkcionalaus monomero;
6) organinio tirpiklio.
Polimeras, fotoinicijuojaneios sistemos komponentai ir polifunkcionalus monomeras ištirpinami organiniame tirpiklyje.
Dispergavus tokiu būdu paruoštoje šviesai jautrioje terpėje aukso ir stiklo miheli'us. gaunama šviesai jautri pasta, kurią tepa per ploną tinkleli ant keraminių pagrindų, džiovina, eksponuoja ultravioletiniais spinduliais per fotošabloną, nuplauna neeksponuotas vietas suslėgto tetrachloretileno srove ir termiškai apdoroja ūkusią ant pagrindo pastą aukštoje temperatūroje konvejerinėje krosnyje.
Vienas iš šios kompozicijos trūkumų yra tai, kad neeksponuotos pastos pašalinimui nuo keraminio padėklo, vadinamam ryškinimui, naudojamas neekologiškas ir sveikatai kenksmingas organinis tirpiklis - tetrachloretilenas.
Šio trūkumo neturi 0.8 % natrio karbonato vandeniniais tirpalais ryškinamos šviesai jautrios aukso laidininkų (JAV patentas Nr.5032478) bei sidabro laidininkų (JAV patentas Nr. 5049480) kompozicijos (pastos).
Pagal sudėtį ir pasiekiamą rezultatą jos yra artimiausios patentuojamai fotopolimerinei kompozicijai. Abiejų nurodytų patentų išradimo apibrėžtys yra identiškos, išskyrus pirmąjį punktą, kuriame minimi arba aukso, arba sidabro milteliai, todėl abu nurodyti analogai gali būti nagrinėjami kartu. Analoguose aprašytos fotopolimerinės kompozicijos susideda iš:
1) aukso (arba sidabro) miltelių, kurių lyginamasis paviršius yra mažesnis nei 20 m2/g ir ne mažiau kaip 80 % aukso (arba sidabro) dalelių dydis yra 0.5-10 mikronų ribose ir
2) stiklo miltelių (lydymosi temperatūra tarp 500 °C ir 825 °C), kurių lyginamasis paviršius ne didesnis kaip 10 m2/g ir mažiausiai 90 % stiklo dalelių yra mažesnės nei 10 mikronų, disperguotų organiniame rišiklyje, susidedančiame iš
3) organinio polimero;
4) fotoinicijuojaneios sistemos;
5) polifunkcionalaus monomero ir
6) organinės terpės, kurioje
a) organinis polimeras yra alkilakrilatų, alkilmetakrilatų, stirolo arba jų mišinio ir nesočiųjų karboksirūgščių (akrilo, metakrilo) kopolimeras, kurio molekulinė masė mažesnė nei 50000, o komonomero su laisvomis karboksilo grupėmis kiekis kopolimere yra ne mažesnis kaip 15 masės %, kas užtikrina polimero tirpumą vandeniniame dinatrio trioksokarbonato tirpale;
b) fotoinicijuojančią sistemą sudaro benzofenonas ir Michlerio ketonas;
c) polifunkeionalus monomeras yra trimetilolpropano triakrilatas arba polioksietilinto trimetilolpropano triakrilatas;
d) organinę terpę sudaro organinis tirpiklis (karbitolacetatas arba βterpineolis) bei kiti organiniai komponentai, kurie Įeina (arba gali įeiti) į kompozicijos sudėti (plastifikatoriai, dispersantai, terminės polimerizacijos inhibitoriai, adhezijos promotoriai, pigmentai ir t.t.).
Organinis rišiklis paruošiamas tirpinant organiniame tirpiklyje polimerą, fotoiniciatorius ir terminės polimerizacijos inhibitorių. Sprendžiant iš analoguose pateiktų pavyzdžių, geriausi rezultatai gaunami, esant tokiam komponentų santykiui, masės % :
c/c mctilmetakrilato ir 50.00 % metakrilo rūgšties kopolimeras (M=10000)
Karbitolacetatas 42.38
Benzofenonas 5.94
Michlerio ketonas 1.00
2,6-di-tret-butil-4-metilfenolis 0.68
Aukso (arba sidabro) laidininkų formavimui skirtos pastos paruošiamos maišant organinį rišiklį ir polifunkcionalų monomerą (arba jų mišinį) su neorganinių komponentų milteliais. Geriausi rezultatai gaunami, esant tokiam komponentų santykiui, masės dalimis :
Lentelė
| Komponentai | Sidabro pasta | Aukso pasta |
| Sidabro milteliai | 70.8 | - |
| Aukso milteliai | - | 78.0 |
| Stiklo milteliai | 5.3 | 4.6 |
| Organinis rišiklis | 17.1 | 13.0 |
| Trimetilolpropano triakrilatas | 1.0 | 0.8 |
| Polioksietilinto trimetilolpropano triakrilatas | 4.2 | 3.4 |
Po to pastas tepa per ploną tinklelį ant keraminių pagrindų ir džiovina 75-100°C temperatūroje. Šviesai jautrių pastų sauso sluoksnio storis svyruoja tarp 16 mikronų ir 20 mikronų.
Organinio tirpiklio ir pastų paruošimo, pastų tepimo ir džiovinimo operacijos atliekamos geltonoje šviesoje, kadangi pastos yra jautrios matomai spektro daliai.
Eksponavimas ultravioletiniais spinduliais atliekamas specialiuose įrenginiuose, prapučiant azotu kamerą, kurioje randasi keraminis pagrindas su šviesai jautrios pastos sluoksniu ir fotošablonas, o po to sudarant joje vakuumą. Tai daroma todėl, kad pastos yra jautrios inhibitoriškam ore esančio deguonies poveikiui ir jų fotopolimerizacija ore nevyksta arba vyksta labai lėtai.
Neeksponuotos pastos sluoksnio sritys nuplaunamos nuo keraminio pagrindo purškiant suslėgtą 0.8 % dinatrio trioksokarbonato vandenini tirpalą, o likusi ant pagrindo pasta išdegama 900 °C temperatūroje konvejerinėje krosnyje.
Pateiktuose pavyzdžiuose nurodoma, kad aprašytos šv iesai jautrios kompozicijos (pastos) leidžia formuoti 25 mikronų pločio aukso ir sidabro laidininkus, kurių paviršiaus kvadrato varža yra atitinkamai 4.4 mOm/kv ir 2.7 mOm/kv.
Analoguose aprašytos šviesai jautrios kompozicijos turi visą eilę trūkumų:
1) Organinio rišiklio pagrindą sudarantys kopolimerai yra fotochemiškai inertiški ir jų makromolekulės yra grynai mechaniškai fiksuojamos trimatėje erdvinėje struktūroje, susidarančioje vykstant polifunkcionalių monomerų fotopolimerizacijai. Selektyvus tirpumo praradimas apšviestose vietose sistemoje inertinis polimeras - polifunkcionalus monomeras galimas tik esant pakankamai dideliam monomero kiekiui. Analoguose pateiktuose pavyzdžiuose 1 g polimero tenka nuo 0.6 g iki 0.65 g polifunkcionalių, monomerų, tačiau ir šiuo atveju polimeras ryškinimo metu brinksta.
2) Kompozicijos yra jautrios matomai spektro daliai, kas apsunkina darbą su jomis ir kelia specialius reikalavimus patalpų apšvietimui. Nepageidautiną jautrumą matomai spektro daliai nulemia fotoinicijuojanti sistema benzofenonas-Michlerio ketonas, kuri taip pat nepasižymi dideliu efektyvumu, palyginus su kitais žinomais fotoiniciatoriais.
3) Kompozicijos yra jautrios inhibitoriškam deguonies poveikiui, todėl jas eksponuoti reikia inertinėje atmosferoje arba vakuume, naudojant specialius sudėtingus Įrenginius.
Išradimo uždavinys - sukurti tobulesnę šviesai jautrią vandeniniais bazių tirpalais ryškinamą kompoziciją plėvelinių elementų formavimui storasluoksnės technologijos metodu, kuri būtų nejautri matomai spektro daliai ir inhibitoriškam deguonies poveikiui, pasižymėtų dideliu fotopolimerizacijos greičiu ir didesne skiriamąja geba. Šį uždavinį išsprendžia patentuojama kompozicija pagal apibrėžties 1 punkto bendrąją dalį tuo, kad organinės terpės pagrindą sudarantis polimeras yra fotochemiškai aktyvus, t.y. atlieka ne tik plėvelę sudarančio ir tirpumą vandeniniuose bazių tirpaluose užtikrinančio komponento vaidmenį, bet tuo pačiu yra ir stambiamolekulis polifunkcionalus monomeras, kurio fotopolimerizaciją efektyviai inicijuoja matomai spektro daliai nejautrus fotoiniciatorius, o polimero šoninės grandys su alilo grupėmis ir papildomai į organinę terpę pridėtas organinis disulfidas neutralizuoja inhibitorišką deguonies poveikį esant tokiam komponentų santykiui, masės dalimis:
| neorganinio užpildo milteliai | 100.00 | |
| polimeras | 9.00 | - 36.00 |
| fotoiniciatorius | 0.50 | - 3.50 |
| organinis disulfidas | 0.20 | - 2.00 |
| terminės polimerizacijos inhibitorius | 0.01 | - 0.35 |
| organinis tirpiklis | 5.50 | - 21.50 |
Patentuojamos kompozicijos pranašumai pasireiškia tuo, kad visos technologinės operacijos (šviesai jautrios organinės terpės paruošimas, jos sumaišymas su neorganinio užpildo milteliais, gautos kompozicijos tepimas ant keraminių pagrindų ir džiovinimas) gali būti atliekamos išsklaidytoje dienos šviesoje arba esant Įprastam dirbtiniam apšvietimui.
Be to, žymiai supaprastėja ir eksponavimo procesas, kadangi nereikia imtis specialių priemonių, siekiant išvengti kompozicijos paviršiaus kontakto su ore esančiu deguonimi. Vykstant fotopolimerizacijai, linijinės polimero makromolekulės, turinčios šonines grandis su akrilo ir alilo grupėmis, sudaro tankią erdvinę struktūrą, todėl apšviestose vietose polimeras tampa visiškai netirpus vandeniniuose bazių tirpaluose. Dėka to atsiranda galimybė padidinti kompozicijos skiriamąją gebą, o panaudotas acilfosfinų klasės fotoiniciatorius leidžia sutrumpinti kompozicijos eksponavimo laiką.
Išradimas toliau aprašomas konkretizuojant išradimo apibrėžtyje minimus neorganinio užpildo bei organinės terpės komponentus ir pateikiant pavyzdžius su eksperimentų rezultatais.
A. Neorganiniai komponentai
1) Aukso milteliai, kurių dalelės yra sferinės formos. Specifinis paviršius 0.33 m“/g, dalelių dydis nuo 0.5 mikronų iki 2.0 mikronų, 90 masės % dalelių yra mažesnės nei 1.85 mikronų.
2) Sidabro milteliai, kurių dalelės yra netaisyklingos formos. Specifinis paviršius 0.8 m /g, dalelių dydis nuo 0.2 mikronų iki 2.0 mikronų, 50 masės % dalelių yra mažesnės nei 1.5 mikrono.
3) Paladžio milteliai, kurių dalelės yra netaisyklingos formos. Specifinis paviršius 5 m2/g, dalelių dydis nuo 0.1 mikrono iki 2.0 mikronų, 50 masės % dalelių yra mažesnės nei 1.0 mikronas.
4) Platinos milteliai, kurių dalelės yra netaisyklingos formos. Sperifinis paviršius 0.4 m2/g, dalelių dydis nuo 0.5 mikrono iki 4.0 mikronų, 50 masės % dalelių yra mažesnės nei 2.0 mikronai.
5) Stiklas Nr.l, lydymosi temperatūra 710-720 °C, esant tokiam komponentų santykiui, molio %:
| CdO | 9.8 |
| CuO | - 15.9 |
| Na?O | - 14.3 |
| B2O3 | - 27.0 |
| SiO2 | - 31.6 |
| B12O3 | 1.4 |
6) Stiklas Nr.2, lydymosi temperatūra 660-680 °C, esant tokiam komponentų santykiui, molio % :
| sio2 | - 33.4 |
| Ai203 | 2.6 |
| PbO | - 41.3 |
| b2o3 | S.O |
| ZnO | -. 14.7 |
7) Stiklas Nr.3, lydymosi temperatūra 780-795 °C, esant tokiam komponentų santykiui .molio % :
| SiO2 | - 57.6 |
| PbO | - 26.7 |
| B2O; | 1.4 |
| AI20; | 5.6 |
| BaO | 3.8 |
| CuO | 3.5 |
| K2O | 1.4 |
8) Stiklas Nr.4 - specialus besikristalinantis stiklas tarpsluoksninei izoliacijai, kristalizacijos temperatūra 850 °C.
Visi stiklai buvo malami šlapiu būdu firmos Fritsh planetariniame malūne agato būgnuose 20 valandų, o gauta suspensija frakcionuojama tos pačios firmos vibrosietais. Eksperimentams buvo panaudota smulkiausioji miltelių, nufiltruotų, praplautų acetonu ir išdžiovintų vakuume 50 °C temperatūroje, frakcija. Specifinis miltelių paviršius 6-8 m^/g. 50 masės % dalelių mažesnės nei 1.5 mikrono.
9) Rutenio oksido milteliai buvo gauti termiškai skaidant rutenio (IV) hidroksichloridą. Miltelių specifinis paviršius 10 m^/g, 50 masės % dalelių mažesnės nei 1.0 mikronas.
B. Organiniai komponentai
1) Polimerai.
Patentuojamos kompozicijos šviesai jautrios organinės terpės pagrindą sudarančiam polimerui keliama visa eilė reikalavimų. Jis turi būti tirpus vandeniniuose bazių tirpaluose, sudaryti kambario temperatūroje nelipnią plėvelę, užtikrinti reikiamą visos kompozicijos klampumą, aktyviai dalyvauti fotoinicijuotoje radikalinėje polimerizacijoje deguonies turinčioje aplinkoje, o polimero terminė destrukcija turi užsibaigti kaip galima žemesnėje temperatūroje.
Nustatyta, kad šiuos reikalavimus geriausiai atitinka akrilo arba vinilo monomerų ir nesočiųjų karboksirūgščių (akrilo, metakrilo) kopolimerai, kurių molekulinė masė yra nuo 10000 iki 20000, o nesočios karboksirūgšties kiekis kopolimere yra nuo 15 iki 30 masės %.
Yra žinoma, kad deguonis yra labai aktyvus laisvaradikalinių procesų inhibitorius, tačiau jo Įtaka mažėja, didėjant akrilo monomerų molekulinei masei.
Taip pat yra žinoma, kad alilo monomerų polimerizacijai, vykstančiai pagal kitą mechanizmą, deguonis Įtakos neturi.
Pasinaudojus šiais seniai žinomais principais ir esterifikavus dalj inertinio bazinio kopolimero laisvų karboksi grupių glicidilakrilatu arba glicidilmetakrilatu ir alilglieidiniu eteriu, buvo susintetinti polimerai, pasižymintys dideliu fotocheminiu aktyvumu ir mažai jautrūs inhibitoriškam deguonies poveikiui.
Baziniai kopolimerai pagal apibrėžties 3 ir 4 punktus buvo susintetinti pagal bendrą metodiką, lašinant monomerų mišinį su ištirpintu terminės polimerizacijos iniciatoriumi Į maišomą verdanti izo-propilo spiritą ir tęsiant reakciją inertinėje atmosferoje 18 valandų. Po to į polimero tirpalą pridedami terminės polimerizacijos inhibitorius ir katalizatorius (tretinis aminas arba ketvirtinė amonio bazė), sulašinamas glicidinių monomerų mišinys ir reakcija tęsiama tirpiklio virimo temperatūroje 6 valandas. Reakcijos mišinys atšaldomas, atskiedžiamas izo-propilo spiritu ir. intensyviai maišant, išpilamas į dešimteriopai didesnį vandens tūri.
Polimero dribsniai filtruojami, plaunami ant filtro vandeniu ir džiovinami 40 °C temperatūroje vakuume 24 valandas. Pagal šią metodiką buvo susintetinti polimerai, sąlyginai pavadinti polimerais A ir B (komponentų kiekis nurodytas mases % ).
Polimeras A (M = 15000) Polimeras B fM = 15000)
| Stirolas | 24.0 | Butilmetakrilatas | 17.5 |
| Akrilo rūgštis | 36.0 | Metakrilo rūgštis | 42.5 |
| Glicidilmetakrilatas - | 30.0 | Glicidilakrilatas | 30.0 |
| Alilglicidino eteris | 10.0 | Alilglicidino eteris - | 10.0 |
2) Organinis disulfidas.
Patentuojamoje kompozicijoje aprašomi polimerai, turintys šonines grandis su akrilo.ir alilo grupėmis, žymiai sumažina organinės terpės jautrumą inhibitoriškam deguonies poveikiui, tačiau galutinai jo nepanaikina.
Yra žinoma,..kad deguonies poveikį neutralizuoja organiniai disulfidai, kurių bendra formulė
Ri - CH2 - S - S - CH2 - R2 , aprašyti EP Nr. 0028749, G03C 1/68, 1981.05.20, kurioje Rx ir R2 yra vienodi arba skirtingi alkilo, cikloalkilo, arilo, arilalkilo arba karbamoilalkilo radikalai.
Patentuojamoje kompozicijoje panaudotas didodecildisulfidas buvo susintetintas oksiduojant dodecilmerkaptaną geležies (III) chloridu organiniame tirpiklyje. Gauti adatų pavidalo bespalviai kristalai, lydymosi temperatūra 45 °C.
3) Fotoiniciatorius.
Šiuo metu yra žinoma labai daug organinių junginių, kurie yra termiškai stabilūs, tačiau generuoja laisvus radikalus pagal vienokį ar kitokį mechanizmą, absorbuodami šviesą· ultravioletinėje arba matomoje spektro dalyje. Galima paminėti antrachinono, fenantrenchinono ir kitų daugiabranduolinių chinonų darinius, λ-dikctonus ir jų dialkilketalius, aciloinus ir jų eterius, akridino, chinoksalino, oksazino, tioksantono darinius ir daugybę kitų įvairių organinių klasių atstovi}.
Vieni iš efektyviausių šiuo metu žinomų fotoiniciatorių yra acilfosfinų klasės junginiai, aprašyti EP Nr.0040721. CO7F 9/50, 1981.12.12.
Patentuojamoje kompozicijoje panaudotas 2,6-dimetoksibenzoildifenilfosfinas buvo susintetintas pagal šią metodiką:
Keturgurklčje kolboje su hermetine maišykle, grįžtamuoju šaldytuvu, lašinamuoju piltuvu ir vamzdeliu dujoms leisti oras išstumiamas sausu argonu ir 500 ml bevandenio dietilo eterio ištirpinama 46.5 g difenilfosfino ir 25 g trietilamino.
Maišant tirpalą ir palaikant ne aukštesnę kaip 20 °C temperatūrą sulašinamas 50 g 2,6- dimetoksibenzoilchlorido tirpalas 100 ml sauso dietilo eterio. Reakcijos mišinys virinamas inertinėje atmosferoje 5 valandas, po to atšaldomas, nufiltruojamas susidaręs trietilamino hidrochloridas, o filtratas nugarinamas rotaciniame garintuve. Abejingas likutis valomas chromatografiškai kolonėlėje su silikageliu, eliuentas - toluenas/eteris (2:1).
Išeiga 17 g (10 % teorinės). Lydymosi temperatūra 113-115 °C λ max=336 nm.
Apskaičiuota, %: C 72.0 H 5.43 P 8.86
Rasta, %: C 71.7 H 5.4 P 8.7
4) Tirpiklis
Šviesai jautrių kompozicijų sudėtyje esantis organinis tirpiklis turi gerai tirpinti visus organinius komponentus, jis turi būti mažai lakus kambario temperatūroje ir pakankamai greitai išgaruoti 80-100 °C temperatūroje. Dažniausiai naudojami tirpikliai yra terpenai (a ir β-terpineolis), karbitolacetatas, butilkarbitolacetatas, aukštesniųjų alkoholių esteriai. Nustatyta, kad patentuojamai kompozicijai tinkamiausias tirpiklis yra benzilo spiritas.
5) Terminės polimerizacijos inhibitorius turi užtikrinti visos kompozicijos stabilumą, ypač džiovinimo metu. Nustatyta, kad tinkamiausias inhibitorius yra 2,6di-tret-butil-1,4- krezolis.
Šviesai jautri organinė terpė paruošiama tirpinant benzilo spirite likusius organinius komponentus 60 °C temperatūroje. Klampus tirpalas perkošiamas per tankų nerūdijančio plieno tinkleli ir atšaldomas.
Šiuo būdu buvo paruoštos tolimesniuose eksperimentuose panaudotos organinės terpės, esant tokiam komponentų santykiui, masės dalimis:
Lentelė
| Komponentai | Organinė terpė | |||
| I | II | III | IV | |
| Polimeras A | 100 | - | - | - |
| Polimeras B | - | 100 | 100 | 100 |
| 2,6-dimetoksibenzoildifenilfosfinas | 7.5 | 7.5 | 7.5 | - |
| Didodecildisulfidas | 5.0 | - | 5.0 | 5.0 |
| 2,6-di-tret-butil-l ,4-krezolis | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 |
| Benzilo spiritas | 60 | 60 | 60 | 60 |
| Benzofenonas | - | - | - | 12 |
| Michlerio ketonas | - | - | - | 12 |
Pastaba: Organinėje terpėje IV panaudota analoguose aprašyta fotoinicijuojanti sistema benzofenonas/Michlerio ketonas, siekiant palyginti fotoiniciatorių efektyvumą.
Šviesai jautrios kompozicijos pagal apibrėžties 9-14 punktus buvo paruoštos maišant neorganinių komponentų miltelius su šviesai jautria organine terpe. Pirminis sumaišymas atliekamas rankiniu būdu agato grūstuvėliuose, o galutinis specialioje trijų velenų maišyklėje, kuri užtikrina tolygų neorganinio užpildo miltelių pasiskirstymą organinėje terpėje.
Paruoštos tokiu būdu šviesai jautrios kompozicijos buvo tepamos per nerūdijančio plieno tinkleli (tinklelio storis 80 mikronų, siūlo storis 40 mikronų, akučių dydis 90x90 mikronų) ant aliuminio oksido keramikos pagrindų, naudojant įprastą technologinę įrangą.
Užteptos ant pagrindų kompozicijos buvo džiovinamos 10 minučių 100 °C temperatūroje elektrinėse krosnyse, o po to eksponuojamos per specialų fotošabloną, leidžiantį įvertinti tiriamų kompozicijų bei jų pagrindu suformuotų plėvelinių elementų charakteristikas (skiriamąją gebą, specifinę varžą, adheziją ir t.t.).
Šviesos šaltinis, panaudotas eksponavimo įrenginyje - Philips halogeninė 1000 W lempa HPA1000, kurios emisijos spektras sukoncentruotas 320-400 nm srityje. Optimalus eksponavimo laikas kiekvienai kompozicijai buvo nustatytas eksperimentiškai, įvertinant rezultatus, gautus išryškinus, t.y. nuplovus nuo padėklo neeksponuotas kompozicijos sluoksnio sritis.
Ryškinimas buvo atliekamas specialiame Įrenginyje, purškiant ant besisukančio 3000 aps/min greičiu padėklo su eksponuotos pastos sluoksniu 0.5 % monoetanolamino vandeninio tirpalo aerozolį. Paduodamo Į purškimo galvutę tirpalo ir suspausto oro slėgius galima reguliuoti plačiose ribose, n purškimo trukmę reguliuoti 0.1 sekundės tikslumu. Tipinis ryškinimo laikas yra nuo 2 iki 5 sekundžių, kai tirpalo slėgis 1.5 baro, o oro slėgis 2,5 baro. Pasibaigus ryškinimo ciklui, likusi ant padėklo kompozicija plaunama tame pačiame įrenginyje 2-3 sekundes distiliuotu vandeniu, o po to džiovinama 10-15 sekundžių, esant tam pačiam sukimosi greičiui.
Pagamintos tokiu būdu testinės struktūros buvo termiškai apdorotos elektrinėje konvejerinėje krosnyje, išlaikant jas maksimalioje 850 °C temperatūroje 15 minučių.
Eksperimentų rezultatai pateikti lentelėje Nr.3, komponentų kiekiai nurodyti masės dalimis.
Sugretinus kompozicijų Nr.2.3,4 ir 5, besiskiriančių tik organinės terpės sudėtimi, bandymų rezultatus, galima padaryti šias išvadas:
1) Polimerų, turinčių šonines grandis su akrilo grupėmis (kompozicija Nr.4), fotocheminis aktyvumas didesnis, nei polimerų su šoninėmis metakrilo grupėmis (kompozicija Nr.2).
2) Panaudojus tą patį polimerą, organinio disulfido priedas pilnai neutralizuoja inhibitorišką deguonies poveikį ir 3 kartus sutrumpina eksponavimo laiką (kompozicijos Nr.3 ir 4).
3) Patentuojamoje kompozicijoje panaudotas fotoiniciatorius yra žymiai efektyvesnis už analoguose aprašytą fotoinicijuojančią sistemą benzofenonas/Michlerio ketonas (kompozicijos Nr.4 ir 5).
Kompozicijos Nr.l, 4 ir 6 leidžia formuoti itin siaurus laidininkus storasluoksnės technologijos metodu, kas žymiai praplečia jos galimybes ir pritaikymo sritį.
Panaudojus kompozicijas Nr.l (arba Nr.5) ir Nr.8, galima formuoti pakaitomis einančius komutacinius ir izoliacinius sluoksnius ir pagaminti ypač didelio integracijos laipsnio daugiasluoksnes komutacines plokštes.
Kompozicijos Nr.7 ir Nr.9 gali būti panaudotos miniatiūrinių temperatūros daviklių su dideliu temperatūriniu varžos koeficientu gamybai.
Pastaba: Kompozicijai Nr.8 nurodyta skiriamoji geba reiškia, kad izoliaciniame sluoksnyje galima suformuoti 50x50 mikronų dydžio kiaurymę.
Claims (14)
- IŠRADIMO APIBRĖŽTIS1. Šviesai jautri vandeniniais bazių tirpalais ryškinama kompozicija plėvelinių elementų formavimui storasluoksnės technologijos metodu, susidedanti iš smulkių neorganinio užpildo miltelių, disperguotų šviesai jautrioje organinėje terpėje, susidedančioje iš plėvelę sudarančio polimero, fotoiniciatoriaus, terminės polimerizacijos inhibitoriaus ir organinio tirpiklio, besiskirianti tuo, kad organinės terpės sudėtyje nėra polifunkcinio monomero, o jos pagrindą sudarantis polimeras fotochemiškai aktyvus, be to, į organinę terpę papildomai pridėtas organinis disulfidas, kai yra toks komponentų santykis, masės dalimis:
neorganinio užpildo milteliai polimeras 100.00 9.00 - 36.00 fotoiniciatorius 0.50 - 3.50 organinis disulfidas 0.20 - 2.00 terminės polimerizacijos inhibitorius 0.01 - 0.35 organinis tirpiklis 5.50 - 21.50 - 2. Kompozicija pagal 1 punktą, besiskirianti tuo, kad plėvelę sudarantis polimeras yra alkilakrilatų arba alkilmetakrilatų, kurių alkilinis radikalas turi nuo 1 iki 12 anglies atomų, cikloalkil(met)akrilatų,arilalkil(met)akrilatų, stirolo, akrilonitrilo arba jų mišinio ir nesočiųjų karboksirūgščių kopolimeras, kurio laisvų karboksilo grupių dalis yra esterifikuota 2,3- epoksipropil(met)akrilatu ir alilglieidino eteriu.
- 3. Kompozicija pagal 2 punktą, besiskirianti tuo, kad plėvelę sudarantis polimeras yra stirolo ir akrilo rūgšties kopolimeras, kuriame yra 15 masės % neesterifikuotos akrilo rūgšties, 15 masės % akrilo rūgšties, esterifikuotos 2,3epoksipropilmetakrilatu, o 6 masės % - alilglieidino eteriu.
- 4. Kompozicija pagal 2 punktą, besiskirianti tuo, kad plėvelę sudarantis polimeras yra butilmetakrilato ir metakrilo rūgšties kopolimeras, kuriame yra 15 masės % neesterifikuotos metakrilo rūgšties, 20 masės % metakrilo rūgšties, esterifikuotos 2,3-epoksipropilmetakrilatu, o 7.5 masės % - alilglieidino eteriu.
- 5. Kompozicija pagal 1 punktą, besiskirianti tuo, kad fotoiniciatorius yra 2,6 dimetoksibenzoildifenilfosfinas.
- 6. Kompozicija pagal 1 punktą, besiskirianti tuo, kad organinis tirpiklis yra benzilo alkoholis.
- 7. Kompozicija pagal 1 punktą, besiskirianti tuo, kad į organinę terpę papildomai pridėtas disulfidas yra didodecildisulfidas.
- 8. Kompozicija pagal 1 punktą, besiskirianti tuo, kad terminės polimerizacijos inhibitorius yra 2,6- di-tret-butil-l,4-krezolis.
- 9. Kompozicija pagal 1 punktą, besiskirianti tuo, kad neorganinį užpildą sudaro aukso ir stiklo miltelių mišinys, kuriame 100 masės dalių aukso tenka nuo 1 iki 4 masės dalių stiklo.
- 10. Kompozicija pagal 1 punktą, besiskirianti tuo, kad neorganini užpildą sudaro sidabro ir stiklo miltelių mišinys, kuriame 100 masės dalių sidabro tenka nuo 1 iki 3 masės dalių stiklo.
- 11. Kompozicija pagal 1 punktą, besiskirianti tuo. kad neorganini užpildą sudaro sidabro, paladžio ir stiklo miltelių mišinys, kuriame 85 masės dalims sidabro tenka 15 masės dalių paladžio, o stiklo kiekis sudaro 3-5 %, skaičiuojant nuo bendro sidabro ir paladžio miltelių svorio.
- 12. Kompozicija pagal 1 punktą, besiskirianti tuo, kad neorganinį užpildą sudaro besikristalinančio stiklo milteliai.
- 13. Kompozicija pagal 1 Įjunktą, besiskirianti tuo, kad neorganini užpildą sudaro platinos ir stiklo miltelių mišinys, kuriame yra 55 masės K platinos ir 45 masės % stiklo.
- 14. Kompozicija pagal 1 Įjunktą, besiskirianti tuo, kad neorganini užpildą sudaro rutenio oksido ir stiklo miltelių mišinys, kuriame yra 60 masės % rutenio oksido ir 40 masės % stiklo.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LT97-161A LT4534B (lt) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | Šviesai jautri vandeniniais bazių tirpalais ryškinama kompozicija |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LT97-161A LT4534B (lt) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | Šviesai jautri vandeniniais bazių tirpalais ryškinama kompozicija |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| LT97161A LT97161A (lt) | 1999-04-26 |
| LT4534B true LT4534B (lt) | 1999-08-25 |
Family
ID=19721902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| LT97-161A LT4534B (lt) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | Šviesai jautri vandeniniais bazių tirpalais ryškinama kompozicija |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| LT (1) | LT4534B (lt) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6803093B2 (en) * | 2000-03-14 | 2004-10-12 | Robert Bosch Gmbh | Ceramic blank with a photostructurable functional layer containing platinum and method for production thereof |
| LT5390B (lt) | 2005-10-24 | 2006-12-27 | Uždaroji Akcinė Bendrovė "Energetikos Tiekimo Bazė" | Reaktoriaus apšvitintų šilumą išskiriančių rinklių transportavimo komplektas |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US502478A (en) | 1893-08-01 | Attachment for machines for sewing looped fabrics | ||
| US3877950A (en) | 1974-03-21 | 1975-04-15 | Du Pont | Photosensitive gold compositions |
| EP0028749A2 (de) | 1979-11-07 | 1981-05-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial |
| EP0040721A2 (de) | 1980-05-27 | 1981-12-02 | BASF Aktiengesellschaft | Acylphosphinverbindungen und ihre Verwendung |
| US5049480A (en) | 1990-02-20 | 1991-09-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable silver conductor composition |
-
1997
- 1997-10-07 LT LT97-161A patent/LT4534B/lt not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US502478A (en) | 1893-08-01 | Attachment for machines for sewing looped fabrics | ||
| US3877950A (en) | 1974-03-21 | 1975-04-15 | Du Pont | Photosensitive gold compositions |
| EP0028749A2 (de) | 1979-11-07 | 1981-05-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial |
| EP0040721A2 (de) | 1980-05-27 | 1981-12-02 | BASF Aktiengesellschaft | Acylphosphinverbindungen und ihre Verwendung |
| US5049480A (en) | 1990-02-20 | 1991-09-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable silver conductor composition |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6803093B2 (en) * | 2000-03-14 | 2004-10-12 | Robert Bosch Gmbh | Ceramic blank with a photostructurable functional layer containing platinum and method for production thereof |
| LT5390B (lt) | 2005-10-24 | 2006-12-27 | Uždaroji Akcinė Bendrovė "Energetikos Tiekimo Bazė" | Reaktoriaus apšvitintų šilumą išskiriančių rinklių transportavimo komplektas |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| LT97161A (lt) | 1999-04-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2723975B2 (ja) | 感光性セラミックコーテイング組成物 | |
| DE3429615C1 (de) | Verfahren zur Erzeugung von aus Pulvern bestehenden Mustern | |
| KR100392867B1 (ko) | 플라즈마디스플레이패널장치및그의제조방법 | |
| US4613560A (en) | Photosensitive ceramic coating composition | |
| CN101031845B (zh) | 用在光图案化方法中的可水溶液显影的可光成像的组合物前体 | |
| JPH0619925B2 (ja) | 水性現像可能な感光性銅導電体組成物 | |
| JPH03205462A (ja) | 半水性現像可能な感光性銅導電体組成物およびその製造方法 | |
| KR100635430B1 (ko) | 수성 현상가능한 광화상화 후막 조성물 | |
| DE69607569T2 (de) | Fotoempfindliche paste und plasmaanzeigetafel, sowie verfahren zu deren herstellung | |
| JPH03171690A (ja) | 水性現像可能な感光性金導電体組成物 | |
| JP2723974B2 (ja) | 半水系現像可能な感光性セラミックコーテイング組成物 | |
| JP4303110B2 (ja) | フォトスピード促進剤を含有する水性現像可能な光画像形成性厚膜組成物 | |
| KR20040073991A (ko) | 전계방출형 표시장치용 전극 형성 조성물 및 이러한조성물의 사용 방법 | |
| KR100540967B1 (ko) | 광화상화 흑색 전극 제조용 수성 현상가능한 광화상화후막 조성물 | |
| KR100803498B1 (ko) | 흑색 전도성 조성물, 흑색 전극 및 그의 형성 방법 | |
| LT4534B (lt) | Šviesai jautri vandeniniais bazių tirpalais ryškinama kompozicija | |
| JP4214563B2 (ja) | 無機微粒子、感光性ペーストおよびプラズマディスプレイの製造方法 | |
| KR20110014673A (ko) | 감광성 페이스트 및 소결 층 | |
| JP2680726B2 (ja) | 半水性現像可能な感光性金導電体組成物 | |
| KR20000005964A (ko) | 격벽형성방법 | |
| JP2004345917A (ja) | 無機材料膜、無機材料膜構造物、およびその製造方法並びに転写フィルム | |
| JPH02230153A (ja) | 感光性セラミックコーティング用組成物及びその製造方法 | |
| Nebe et al. | Photo-defined and photo-imaged films | |
| JPH0574971A (ja) | 回路形成法 | |
| JPH11149872A (ja) | プラズマディスプレイ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PC9A | Transfer of patents |
Owner name: VALENTINAS BALTRUSAITIS, , , LT Effective date: 20041115 |
|
| MM9A | Lapsed patents |
Effective date: 20061007 |