KR980003561A - 광학적 이방성을 측정하기 위한 장치 및 방법 - Google Patents

광학적 이방성을 측정하기 위한 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

액정 셀내의 액정과 같은 시험 대상물로 입사되도록 He-Ne 레이저로부터 광속을 방사하여, 대상물의 광학적 이방성을 측정하기 위해서 시험 대상물로부터 전반사된 광속을 검출하는 광학적 이방성 측정 장치에서, 광속의 부분은 전반사의 임계각보다 더 작은 각으로 입사되도록 설계된다. 그 결과, 결계에서의 전반사를 발생하는 광속 입사 영역은 원에 근사하는 모양을 가지고 축소된 크기를 가지게 되므로, 예를 들면 액정 디바이스내의 미세한 결함에 의해 발생된 광학적 이방성의 국부적인 정렬 변화의 검출이 가능해진다 더우기 입사 광속의 전달된 부분을 검출하는 것에 의해, 대상물의 경계가 아닌 위치에서 시험 대상물의 광학적 이방성이 동시에 측정될 수 있다.

Description

광학적 이방성을 측정하기 위한 장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제6도는 본 발명에 따른 광학적 이방성 측정 장치의 제1실시예를 도시한 개략도.
제8도는 본 발명에 따른 광학적 이방성 측정 장치의 제2실시예를 도시한 개략도.
제9도는 본 발명에 따른 광학적 이방성 측정 장치의 제3실시예를 도시한 개략도.
제7도는 입사 광속의 전반사 및 전달을 도시한 개략도.

Claims (14)

  1. 광학적 이방성(optical anisotropy) 측정 장치에 있어서, 광학적 이방성이 시험되는 대상물, 상기 시험 대상물을 지지하기 위한 대상물 지지 수단(object-holding means), 상기 시험 대상물을 향해 광속(lightflux)을 방사하기 위한 광원, 상기 광원으로부터 방사된 광속을 수렴하도록 상기 광원과 상기 대상물 사이에 배치된 입사 광학 시스템, 및 상기 시험 대상물에 의해 전반사되는 광속을 검출하기 위한 제1광검출기를 구비하며, 상기 광원과 상기 입사 광학 시스템은 임계각보다 작은 각으로 입사되고 상기 시험 대상물을 통해 전달되는 광속의 부분을 발생하도록 배치되는 광학적 이방성 측정 장치.
  2. 제1항에 있어서 상기 입사 광학 시스템은 θc로 표시된 상기 임계각과 다음의 관계 N.A.≤sin〔(90+θc)/2〕를 만족시키는 개구수 N.A. (numerical aperture)를 갖도록 설계된 것을 특징으로 하는 광학적 이방성 측정장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 입사 광학 시스템의 N.A.는 0.94 이하인 광학적 이방성 측정 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 시험 대상물을 통해 전달되는 광속을 검출하도록 배치된 제2광검출기를 더 포함하여, 상기 시험 대상물의 광학적 이방성이 상기 제1 및 제2광검출기들에 의해 검출되는 것을 특징으로 하는 광학적 이방성 측정 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 시험 대상물은 상기 액정의 정렬 상태의 검출이 가능하도록 상기 대상물 지지 수단과 유리 기판 사이에 배치된 액정을 포함하는 광학적 이방성 측정 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 시험 대상물은 액정 셀을 형성하도록 유리 기판들 사이에 배치된 액정을 포함하며,상기 액정 셀은 상기 대상물 지지 수단에 의해 지지되고, 굴절률 조절액이 상기 액정 셀과 상기 대상물 지지수단 사이의 갭을 채우도록 배치되고, 상기 유리 기판들, 상기 대상물 지지 수단 및 상기 굴절률 조절액은상기 액정의 정렬 상태의 검출이 가능하도록 실질적으로 동일한 굴절률들을 갖는 광학적 이방성 측정 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 대상물 지지 수단은 한 쌍으로 배치되고, 상기 액정 셀은 상기 한쌍의 대상물 지지수단 사이에 샌드위치 형태로 지지되는 광학적 이방성 측정장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 액정 셀은 측정 위치의 변화가 가능하도록, 상기 대상물 지지 수단에 관하여 이동가능하게 배치되는 광학적 이방성 측정 장치.
  9. 제5항에 있어서, 상기 액정은 그 구동 상태에서 정렬 상태의 검출이 가능하도록 배치되는 광학적 이방성 측정 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 대상물 지지 수단은 구면과 편평면을 갖는 반구형 유리 부재를 포함하고, 상기 광원으로부터의 광속은 상기 시험 대상물에 입사되도록 상기 대상물 지지 수단을 통해 전달되는 광학적 이방성 측정 장치.
  11. 광학적 이방성 측정 방법에 있어서, 입사 광학 시스템을 통해 시험 대상물로 광속을 입사시키는 단계, 및 상기 시험 대상물의 광학적 이방성을 측정하기 위해 제1광검출기를 사용하여 상기 시험 대상물로부터 전반사된 광속을 검출하는 단계를 포함하고, 상기 광원과 상기 입사 광학 시스템은 상기 광속의 일부가 임계각보다 작은 각으로 입사되고 상기 시험 대상물을 통해 전달되도록 배치되는 광학적 이방성 측정 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 시험 대상물을 통해 전달된 상기 광속의 일부는 제2광검출기에 의해 검출되는 광학적 이방성 측정 방법.
  13. 제11항에 있어서, 상기 시험 대상물은 액정 셀을 형성하도록 유리 기판들 사이에 배치된 액정을 포함하며, 상기 액정 셀은 상기 대상물 지지 수단에 의해 지지되고, 상기 유리 기판 및 상기 대상물 지지 수단의 굴절률과 실질적으로 동일한 굴절률을 가진 굴절률 조절액이 상기 액정 셀과 상기 대상물 지지 수단 사이의 갭을 채우도록 배치되고, 상기 액정 셀은 다양한 위치에서 상기 액정의 정렬 상태의 측정이 가능하도록 상기 대상물 지지 수단에 관하여 이동되는 광학적 이방성 측정 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 액정은 그 구동 상태에서 정렬 상태가 측정되는 광학적 이방성 측정 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970023325A 1996-06-05 1997-06-05 광학적 이방성을 측정하기 위한 장치 및 방법 KR100205671B1 (ko)

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