JP3507319B2 - 光学的特性測定装置 - Google Patents

光学的特性測定装置

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JP3507319B2
JP3507319B2 JP33753797A JP33753797A JP3507319B2 JP 3507319 B2 JP3507319 B2 JP 3507319B2 JP 33753797 A JP33753797 A JP 33753797A JP 33753797 A JP33753797 A JP 33753797A JP 3507319 B2 JP3507319 B2 JP 3507319B2
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21Polarisation-affecting properties
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    • GPHYSICS
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    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/55Specular reflectivity
    • G01N21/552Attenuated total reflection

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般的には、被検
体の界面近傍における光学的特性を測定する光学的特性
測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、光の全反射を利用して種々の
光学的特性を測定する方法としては、以下のものが知ら
れている。 TIR法(全反射法、J.Z.Xue,N.A.C
lark and M.R.Meadows,App
l.Phys.Lett.53,p.2397(198
8)) 校正曲線法(特開平6−82239号公報) 以下、それぞれの方法を利用した光学的特性測定装置の
一例として、液晶素子におけるプレティルト角の算出を
行う光学的異方性測定装置について説明する。 −1 TIR法を利用した光学的異方性測定装置(従
来例1) 図1は、TIR法を利用した光学的異方性測定装置の構
造の一例、並びに光学的異方性測定方法を示す模式図で
ある。この光学的異方性測定装置1は、半球状のガラス
部材(以下、“半球ガラス”とする)2を備えており、
この半球ガラス2は、図2に詳示するように平面部2a
と球面部2bとを有している。そして、この平面部2a
に対向する位置にはガラス基板3が配置されているが、
これらのガラス基板3及び平面部2aの表面には透明電
極5や配向膜6がそれぞれ形成されている。また、ガラ
ス基板3と平面部2aとはシール部材7によって貼り合
わされており、それらの間には、被検体としての液晶9
が挟持されている。
【0003】なお、この半球ガラス2は、不図示の回転
装置によって支持されており、その平面部2aと直交す
る回転軸Cを中心に回転するように構成されている。ま
た、半球ガラス2の屈折率は、配向膜6や液晶9の屈折
率よりも大きいように設定されており、配向膜6の膜厚
は、照射される光束A1(詳細は次述)の波長よりも薄
く設定されている。
【0004】一方、この半球ガラス2の片側(図示左側
下方)にはHe−Neレーザ装置10が配置されてお
り、平面部2aに対して斜め下から光束A1(以下、H
e−Neレーザ装置10から出射されて液晶9に入射さ
れる光束A1を“入射光束A1”とする)を出射するよ
うに構成されている。また、半球ガラス2の他側(図示
右側下方)には光検知器11が配置されており、液晶9
の界面にて全反射された光束B1(以下、このように全
反射される光束B1を“反射光束B1”とする)を検知
するように構成されている。
【0005】さらに、半球ガラス2とHe−Neレーザ
装置10との間には偏光子12が配置されており、He
−Neレーザ装置10からの入射光束A1を直線偏光す
るように構成されている。またさらに、半球ガラス2と
光検知器11との間には検光子13が配置されており、
この検光子13は、偏光子12と直交する偏光方向を有
している。
【0006】次に、上述した光学的異方性測定装置1に
よる光学的異方性測定方法(プレティルト角の算出方
法)について説明する。
【0007】He−Neレーザ装置10から出射された
入射光束A1は、偏光子12によって全反射面への入射
面に対しp偏光に直線偏光された上で半球ガラス2に入
射される。そして、この入射光束A1は、透明電極5と
配向膜6との界面にて全反射され、その全反射の際に発
生したエバネッセント光は、液晶9の内部に一旦侵入し
た後に反射される。なお、このエバネッセント光は、界
面近傍の液晶分子の光学的異方性によりその偏光状態が
変化する。
【0008】そして、半球ガラス2から出射された反射
光束B1は、偏光子12と直交する偏光方向を有する成
分(s偏光成分)のみが検光子13を通過し、光検知器
11に到達する。
【0009】いま、半球ガラス2をガラス基板3等と共
に回転軸Cを中心にして回転させた場合、入射光束A1
の電場ベクトルの向きに対し、液晶9の液晶分子の向き
を表す単位ベクトルであるダイレクタの向きが相対的に
変化する。このため、半球ガラス2の回転角に応じて、
半球ガラス2から出射される反射光束B1の偏光状態が
変化する。そして、半球ガラス2の回転角に対して光検
知器11の出力をプロットすると、例えば図3に示すよ
うな液晶の光学的異方性を示す特性曲線が得られる。こ
こで、強度の極大値をImaxとし、極小値をImin
とした場合、それらの比(Imax/Imin)からプ
レティルト角の大きさを算出することができる。なお、
プレティルト角が大きいとImax/Iminは小さく
なり、プレティルト角が小さいとImax/Iminは
大きくなる。
【0010】このように、上述した光学的異方性測定装
置1は、全反射の際に生ずるエバネッセント光と液晶分
子との相互作用に伴う反射光束B1の偏光状態の変化か
ら、液晶9の光学的異方性を測定しプレティルト角を算
出するものである。
【0011】ところで、上記光学的異方性測定装置1に
おける測定領域の大きさ(短径が約0.6mmで長径が約
3mm程度の楕円形)は、ディスプレイ等に用いられる一
般的な液晶素子の1つの画素の大きさ(30〜50μm
角)に比べて大きく、1つの画素における配向状態を画
素単位に測定して画素間の配向状態を比較することがで
きなかった。また、1つの画素における配向状態のムラ
を検知することもできなかった。さらに、例えば8μm
以下の微小欠陥を発見することもできず、欠陥発生部分
と他の部分との配向状態の比較も困難であった。そのた
め、液晶9の配向状態を正確に検知することができず、
また、欠陥発生のメカニズムの解明が困難であった。 −2 TIR法を利用した光学的異方性測定装置(従
来例2) そこで、図4に示すように、He−Neレーザ装置10
と半球ガラス2との間に入射側光学系21を配置し、入
射光束A1を収束させて測定領域の微小化(長径が約1
0〜30μm程度)を図った装置20が提案されている
(特開平9−105704号公報)。なお、図中の符号
22は液晶素子を示し、符号A2は、入射側光学系21
によって収束された入射光束を示す。
【0012】本装置20においては、測定領域径(長
径)は8μm程度であった。 −3 TIR法を利用した光学的異方性測定装置(従
来例3) 従来例1においては、半球ガラス2に直接配向膜6を形
成すると共に、この配向膜6にはラビング処理を施して
いるが、良好な試料を作成することは極めて困難であっ
た。
【0013】そこで、液晶素子と半球ガラス2とを別体
として、良好な試料の作成を可能とした装置が提案され
ている(特開平9−105704号公報)。なお、この
装置においては液晶素子が半球ガラス2に対して移動可
能となるため、プレティルト角のバラツキの測定が可能
となる(Y.Ohsaki,T.Suzuki,inT
echnical Digest,The 5th M
icrooptics Conference(MO
C′95 Hiroshima),G10,p.14
4)。 −4 TIR法を利用した光学的異方性測定装置(従
来例4) また、従来例2では測定領域径(長径)が8μm程度で
あるが、より一層の微小化が望まれ、図5に示すような
光学的異方性測定装置30が、特願平9−148283
号にて提案されている。
【0014】この光学的異方性測定装置30は半球ガラ
ス2を上下に2つ備えている(以下、特に区別するとき
は“上側半球ガラス2”及び“下側半球ガラス2”とす
る)。これらの半球ガラス2は、平面部2aと球面部2
bとをそれぞれ有しており、これらの平面部2a,2a
が所定距離を開けて対向するように、配置されている。
【0015】また、これらの半球ガラス2の間には液晶
素子22が配置されている。この液晶素子22は、図6
に詳示するように、一対のガラス基板23を有してお
り、これらのガラス基板23の表面には透明電極5や配
向膜6がそれぞれ形成されている。また、これらのガラ
ス基板23はシール部材7によって貼り合わされてお
り、それらの間には、被検体としての液晶9が挟持され
ている。
【0016】さらに、液晶素子22と各半球ガラス2と
の間には、それらとほぼ等しい屈折率の屈折率マッチン
グ液25が充填されており、液晶素子22と各半球ガラ
ス2との間の界面で反射が生じないように構成されてい
る。
【0017】一方、偏光子12と下側半球ガラス2との
間には入射側光学系31が配置されている。そして、H
e−Neレーザ装置10や偏光子12や入射側光学系3
1は、一部の光束A3が、臨界角θcよりも小さな角度
で入射されるように配置されている。なお、この光束A
3の一部は液晶9を透過するが、このように液晶9を透
過する光束を“透過光束B3”とする。
【0018】また一方、下側半球ガラス2を挟んで反対
側には、出射側光学系(第2の受光系)32や検光子1
3や光検知器11が配置されており、液晶界面で全反射
された反射光束B2を光検知器11によって検知して、
光学的異方性を測定し、液晶界面での配向状態を検知で
きるように構成されている。
【0019】本装置30においても、上記従来例1と同
様の方法によってプレティルト角を算出できる。
【0020】但し、測定に供される光束は、臨界角θc
よりも大きな角度で液晶界面に入射されて全反射される
光束B2である。また、一部の光束A3は、臨界角θc
よりも小さな角度で液晶9に入射するので、全反射する
ことなく、大部分が液晶9を透過して透過光束B3とな
り、残りが通常の反射光となる。ここで、この通常の反
射光は全反射したエバネッセント光とは異なり、偏光状
態が変化していないため、検光子13を透過することが
できず、光検知器11に検知されない。また、液晶素子
22の上側には、屈折率マッチング液25を挟んで、球
面部2bに反射防止膜を施した上側半球ガラス2が配置
されているため、透過光束B3は、それらの界面で反射
されることもなく、したがって光検知器11に検知され
ることもない。
【0021】一方、本装置30においては、一部の光束
A3が臨界角θcよりも小さな角度で入射されるように
構成されているため、N.A.(Numerical
Aperture)が大きくなり、液晶界面での光束照
射領域は従来の楕円形状から円形状に近づくこととな
る。したがって、液晶9に入射される光束A2は従来よ
りもさらに収束され(具体的には、光束径を2μm以下
にすることも可能となる)、それに伴って測定領域も微
小化される。
【0022】すなわち、このようなコヒーレント照明に
おいて、入射光学系31のレンズのFNo.をNとし、
入射光束A2の波長をλとし、ガラス基板23の屈折率
をnとした場合、焦点(測定領域)の直径は、
【0023】
【式1】 で与えられる。ここで、液晶9の屈折率を1.5、半球
ガラス2及びガラス基板23の屈折率を1.8とすれ
ば、全反射の臨界角θcはsinθc=1.5/1.
8、すなわちθc=56.4°となる。また、λ=0.
63μm、入射角θ=45°とすれば、焦点(測定領
域)の直径は、N=1のとき約0.8μmとなり、N=
1.5のとき約1.1μmとなる。
【0024】このように測定領域の大きさが、液晶素子
の1つの画素の大きさに比べてかなり微小化されるた
め、1つの画素におけるプレティルト角の分布や、長さ
が5〜10μm程度の微小な欠陥の内部やその近傍にお
ける液晶9の配向状態を測定できる。したがって、本装
置30は、液晶9や配向膜6の開発にとどまらず、配向
法そのものの開発にとって極めて有力な手段となる。 −1 校正曲線法を利用した光学的異方性測定装置
(従来例5) 本装置は、全反射を利用するため上記従来例1の装置
(図1)とほぼ同様の構造であるが、半球ガラス2を回
転させる必要が無い点で異なる。また、検光子13は不
必要である。そして、p偏光とs偏光のそれぞれを入射
光束A2としたときの全反射光の反射率を測定し、それ
らの対数の比(吸光度の二色比)を計算する。その値
を、予め別のプレティルト角測定法によって求めておい
た二色比とプレティルト角との関係を示す校正曲線に照
らし合わせ、プレティルト角の値を得る。従って、光源
としては、He−Neレーザー10ではなく、液晶の吸
収スペクトルに対応して赤外光源や紫外光源が用いられ
る。用いる光の波長に対応して、半球ガラス2の材料
も、赤外光の場合はシリコン、ゲルマニウムなど、紫外
光の場合はサファイアが用いられる。
【0025】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来例4の光学的異方性測定装置30は、測定領域を微小
化できる等、従来例1乃至3の装置には無い利点を有し
ている一方で、液晶素子22の上側にも半球ガラス2が
配置されているため、液晶素子22の上方から観察して
も、測定領域の位置を確認しにくいという問題があっ
た。
【0026】なお、上側半球ガラス2を取り外した状態
で測定領域の位置設定をし、その後、上側半球ガラス2
を取り付けた状態でプレティルト角の測定を行う方法も
考えられるが、その測定作業が煩雑になり、しかも、上
側半球ガラス2を取り付ける段階で位置ズレが生じるお
それがあるという問題があった。特に、従来例4のよう
にレンズのFNo.Nが小さい場合には、焦点の位置が
界面よりも少し光軸方向にずれただけで測定領域の面積
が大きく変わってしまい、測定精度が悪くなるという問
題があった。
【0027】また、作動距離の長い顕微鏡対物レンズを
用い、上側半球ガラス2を設置したまま、該半球ガラス
2を介して照明領域(測定領域)を観察する方法も考え
られる。しかし、この方法では、半球ガラス2の大きさ
や、顕微鏡対物レンズの倍率が制約を受けてしまい、装
置の価格が高くなったり、測定時の作業性が劣るという
問題があった。
【0028】そこで、本発明は、測定領域の位置確認を
可能とする光学的特性測定装置を提供することを目的と
するものである。
【0029】
【0030】
【0031】
【課題を解決するための手段】本発明は上記事情を考慮
してなされたものであり、被検体と、該被検体に光束を
照射する第1光源と、該第1光源からの光束を前記被検
体の特定界面に収束させる入射側光学系と、を備えて、
前記被検体の光学的特性を測定する光学的特性測定装置
において、前記第1光源から出射されて前記被検体を透
過してきた光を受光する第1の受光系、を備え、該第1
の受光系が受光する光は、前記被検体を照明する光束に
より該被検体内に生じると共に該被検体が有する光学的
不均質性により進行方向を曲げられたエバネッセント光
である、ことを特徴とする。
【0032】
【発明の実施の形態】以下、図7乃至図10を参照し
て、本発明の実施の形態について説明する。なお、図1
乃至図6に示すものと同一部分は同一符号を付して説明
を省略する。
【0033】本実施の形態に係る光学的特性測定装置5
0は、図7に示すように、光学的特性が測定される対象
である被検体9と、該被検体9に光束A1を照射する第
1光源10と、を備えている。また、この光学的特性測
定装置50は、該第1光源からの光束A1を直線偏光す
る偏光子12と、前記光束A1を収束させる入射側光学
系51と、を備えている。ここで、入射側光学系51の
光軸と、前記被検体の特定界面(被検体9の下側界面)
に立てた法線とのなす角をθとする。さらに、前記被検
体の特定界面にて全反射された光束B2の光路中には検
光子13が配置されている。またさらに、検光子13の
近傍には第2の光検知器11が配置されていて、該検光
子13を通過した光束B2を受光するようになってい
る。
【0034】なお、第1光源10としては、集光可能な
光束を出射するものであればどのようなものでも良く、
レーザ装置(例えば、He−Neレーザ装置やArレー
ザ装置や半導体レーザ装置)でも、レーザ装置以外でも
良い。また、入射側光学系51は、第1光源10からの
平行光束A1を発散させるレンズ52と、該発散された
光束を収束させるレンズ53と、によって構成しても良
い。
【0035】さらに、上述した被検体9と第2の光検知
器11との間に出射側光学系54を配置し、前記特定界
面で全反射されてきた光束B2(以下、“反射光束B
2”とする)を平行光束に変換するようにしてもよい。
この場合、出射側光学系54は、反射光束B1を収束さ
せるレンズ55と、該収束された光束を平行光束に変換
するレンズ56と、によって構成すればよい。
【0036】一方、前記第1光源10及び前記入射側光
学系51は、前記入射光束の一部A3が、前記特定界面
における臨界角θcよりも小さな角度で前記被検体9に
照射されるように、配置されている。従って、光束A3
は被検体9を通過し上側のガラス基板23と空気との界
面に到達するが、ガラス基板の屈折率を1.8とする
と、この界面での全反射角は33.7°となるので、光
束A3の一部はこの界面で全反射される。結局、この界
面で、光束A3の一部は、被検体9の側に反射され、残
りは透過光束B6となる。
【0037】また一方、前記被検体9と前記第2の光検
知器11との間にはフィルター手段57が配置されてお
り、前記特定界面にて全反射されてきた光束B2を通過
させると共に、該特定界面以外の界面、特に、光束A3
の一部が上側ガラス基板23と空気との界面で反射され
てきた光束B4を通過させないように構成されている。
【0038】ここで、フィルター手段57は、前記特定
界面以外の界面にて反射されてきた光束B4の光路中に
配置された遮蔽部57a(例えば、板状の部材)を有し
ており、この遮蔽部57aによって前記光束B4を遮蔽
するようになっている。なお、この遮蔽部57aを、前
記特定界面にて全反射されてきた光束B2の光路を囲む
ように配置すると共に、該光束B2の光路に相当する部
分に孔部57bを形成し、該孔部57bによって光束B
2を通過させるようにしてもよい。この孔部57bは、
レンズ55によって光束B2が集光される位置に形成す
ることが好ましい。
【0039】一方、前記被検体9は、透明な被検体保持
手段2によって保持するようにしてもよい。この場合、
被検体保持手段2を、平面部2aと球面部2bとを有す
るように略半球状に構成し、入射光束A2が前記被検体
保持手段2を介して前記被検体9に照射されるようにし
ても良い。この被検体保持手段2としては、被検体9の
屈折率よりも大きい材質のものが好適であり、被検体9
が液晶の場合には、1.7以上(好ましくは1.75以
上)の屈折率を有する材質のもの(例えば、重フリント
ガラス等)を用いれば良い。
【0040】また一方、図8に示すように、光束A2を
絞り込むことのできる絞り手段61を、入射側光学系5
1と被検体9との間に設けてもよい。これにより、光束
A2を絞ることによって測定領域を大きくし、光束A2
を絞らないことによって該領域を微小にでき、測定領域
の大きさを必要に応じて調整できる。なお、この絞り手
段61としては可変絞りを挙げることができる。また、
異なる大きさの小孔を有する固定絞りを複数用意してお
き、それらを差し替える方式のものでも良い。
【0041】一方、被検体9の上方に第1の受光系とし
て顕微鏡58を配置し、測定領域の位置を観察できるよ
うにしても良い。図中の符号58aは対物レンズを示
し、58bは接眼レンズを示す。肉眼で観測する代わり
に、CCDなどを第1の光検知器として顕微鏡に取り付
けて観察することもできる。
【0042】被検体9としては、液晶を挙げることがで
き、本装置によって液晶の光学的異方性を測定し、その
プレティルト角を算出するようにしてもよい。この液晶
を保持する方法としては、 * 前記被検体保持手段の平面部2aに対向する位置に
透光性基板23を配置し、該透光性基板23と前記平面
部2aとの間に前記液晶9を挟持させる方法、 * 前記液晶9を一対の透光性基板23の間に挟持させ
て液晶素子22を構成し、該液晶素子22を前記被検体
保持手段2に保持させる方法、が挙げられる。後者の場
合には、透光性基板23と被検体保持手段2との間に、
それらとほぼ等しい屈折率の屈折率マッチング液25を
充填し、透光性基板23と被検体保持手段2との界面で
反射が生じないようにするとよい。その場合、液晶素子
22を、不図示の移動装置にて移動自在に支持し、被検
体保持手段2に対して相対移動できるように構成すると
良い。さらに、この移動装置にマイクロメーターを付設
して液晶素子22の移動距離を測定するようにすると良
い。
【0043】一方、上述した液晶を、所定の信号を印加
して駆動できるようにしてもよい。
【0044】第2の光検知器11としては、オプティカ
ルパワーメーター、フォトマルチプライヤー等が用いら
れるが、ダイナミックレンジの広いものが好ましい。
【0045】次に、TIR法に基づく光学的特性測定方
法について説明する。
【0046】第1光源10から出射された光束A1は、
偏光子12を通過することによって直線偏光され、入射
側光学系51を通過することによって収束され、被検体
9に入射される。
【0047】そして、この光束A2の一部(A3以外)
は、臨界角θcよりも大きな角度で前記特定界面に入射
され、その界面で全反射される。また、この全反射の際
には入射光が被検体9の内部に一旦エバネッセント光と
して侵入するので、被検体9に光学的異方性が存在する
場合は、それによって偏光状態が変化された後に反射光
として出射される。
【0048】そして、このように反射された反射光束B
2は、検光子13によって、偏光子12と直交する偏光
方向を有する成分のみが抽出され、第2の光検知器11
に受光される。これにより、被検体9の特定界面近傍に
おいて、複屈折性等の光学的特性を測定できる。
【0049】このとき、反射光束B2は小孔57bを通
過するため、フィルター手段57によって遮断されな
い。なお、検光子13に到達する光束B2には、被検体
9にて偏光状態が変化された光のみならず、偏光状態が
変化されないまま前記特定界面にて反射された光も僅か
に含まれるが、偏光状態が変化されていない光は、検光
子13を透過することができず、第2の光検知器11に
検知されない。
【0050】この状態で被検体9を回転軸Cを中心にし
て回転させ、該回転角に対する光検知器11の出力(光
強度I)をプロットすると、例えば図3に示したような
特性曲線が得られる。そして、被検体9が液晶の場合に
は、光強度の極大値Imaxと極小値Iminとの比
(Imax/Imin)より、プレティルト角を算出で
きる(H.P.Hinov et.al.,Revue
Phys.Appl.15(1980)1307−1
321、及び、Jiuzhi Xue et.al.,
Appl.Phys.Lett.53(1988)23
97−2399)。
【0051】また一方、測定領域においては上述のよう
にエバネッセント光が発生するが、このエバネッセント
光は被検体9に不均質性が存在すると、それにより散乱
/回折されるため、進行方向を曲げられ、被検体9の上
方から観察することが可能となる。このことは、本装置
50においては、第1光源10、入射側光学系51、第
1の受光系58及び不図示の被検体移動装置があれば、
エバネッセント光を含む局所的な照明光で照明すること
によって、被検体9の不均質性の分布が、高い分解能で
調べられることを意味する。特に、照明光の内、被検体
9をそのまま透過して来た光束B6が、第1の受光系5
8に入射しない場合は、暗視野照明の下での測定とな
り、被検体9の不均質性の分布が高いコントラストで観
測できる。言い換えるなら、上に示した要素系のみから
エバネッセント光を含む局所的な照明光で被検体9を走
査する光走査型顕微鏡が得られる。その場合、受光系を
通過した光束を光検知器で検出すると良い。
【0052】被検体9が液晶である場合、配向膜6には
不均質性が存在するので、そこからの散乱/回折光を、
被検体9の上方から観測することにより測定領域の位置
確認ができる。この位置確認は、第1の受光系58とし
て顕微鏡を使い肉眼で行ってもよく、またCCDなどを
光検知器とするTVカメラによって行ってもよい。
【0053】図9は、液晶素子22のスイッチング特性
をも測定するための光学的特性測定装置の構造の一例を
示す図である。この光学的特性測定装置70において
は、被検体9の下方に第2光源71や偏光子72やレン
ズ73が配置されており、測定領域に収束光を照射する
ように構成されている。また、第1の受光系58の上方
には検光子75や第1の光検知器76が配置されてお
り、第2光源71から出射され液晶9によって偏光方向
を変えられてきた光を検光子75を通過させ、第1の光
検知器76によって検出するようになっている。
【0054】一方、図10に示すように、顕微鏡対物レ
ンズ58aのN.A.を大きくすると共に、対物レンズ
58aと接眼レンズ58bとの間に可変絞り81を設け
るようにしても良い。これにより、顕微鏡58の視野の
明るさを調整して、より正確に測定領域の位置確認をす
ることができる。以下、その理由について説明する。
【0055】すなわち、被検体9から上方へは散乱光B
5と透過光B6とが出射されるが、顕微鏡対物レンズ5
8aのN.A.が小さい場合には、図7等に示すよう
に、対物レンズ58aを透過する光は散乱光B5のみで
ある。この場合、測定領域が比較的広くて散乱光B5を
発生させる不均質部分(例えば、被検体9として液晶を
用いる場合には、配向プロセスによって配向膜6に残る
跡)が多く存在すれば、散乱光B5のみでも顕微鏡視野
は充分に明るいため特に問題は生じないものの、測定領
域が微小の場合にはそのような不均質部分が存在する確
率は小さくなり、顕微鏡58の視野が暗くなって位置確
認が困難になるという問題があった。
【0056】これに対して、上述のように顕微鏡対物レ
ンズ58aのN.A.を大きくした場合には、図10に
示すように、散乱光B5のみならず透過光B6も対物レ
ンズ58aを透過することとなり、顕微鏡58の視野の
光量は多くなる。そして、上記可変絞り81によって透
過光B6を遮ることが可能であるため、顕微鏡58の視
野の光量を最適なものに調整でき、測定領域の大小にか
かわらず測定領域の位置確認を正確に行うことができ
る。
【0057】なお、顕微鏡対物レンズ58aのN.A.
を大きくするだけで、上述のような可変絞り81を設け
なくとも良い。市販の顕微鏡対物レンズには各大きさの
N.Aを持ったレンズが取り揃えられているので、適度
に散乱光B5を透過させるようなN.A.を持った対物
レンズを選択して用いれば良い。但し、既に述べたよう
に、被検体9の持つ不均質分布を調べる目的で、暗視野
照明を必要とする場合は絞り81があると便利である。
【0058】以上はTIR法に基づく光学的特性の測定
方法について述べたが、校正曲線法に基づいて光学的特
性を測定するようにしてもよい。この場合、被検体保持
手段2の回転装置と、検光子13とは不要である。な
お、図示の部分によって得られたデータをコンピュータ
ーで処理する不図示の部分は、TIR法におけるそれと
は当然異なったものとなる。
【0059】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
【0060】 本実施の形態において、入射光束の一部
A3が、前記特定界面における臨界角θcよりも小さな
角度で前記被検体9に照射されるように構成した場合に
、前記特定界面での測定領域(光束照射領域)を円形
状に近づけ、かつ微小化できる。
【0061】また、前記被検体9の上方に第1の受光系
58を設けることにより、被検体9の持つ不均質性が高
分解能で観測できるばかりでなく、第1の受光系58の
N.A.を選択することにより、暗視野照明下で上記不
均質性の分布を高コントラストで観測できる。
【0062】さらに、前記被検体9及び前記第2の光検
知器11の間にはフィルター手段57が配置されてお
り、前記特定界面にて全反射されてきた光束B2を通過
させると共に、該特定界面以外の界面にて反射されてき
た光束B4を通過させないように構成されているため、
前記第2の光検知器11は、前記特定界面にて全反射さ
れてきた光束B2だけを受光することとなり、その結
果、光学的特性の測定が正確となる。
【0063】また、フィルター手段57を上述のように
配置したため従来例4にて述べたような上側半球ガラス
2が不要となる。その結果、測定領域の位置確認をした
後に上側半球ガラス2を取り付けたりする必要がなく、
簡単に、しかも精度良く測定領域の位置確認ができる。
【0064】ところで、従来例4のように、半球ガラス
2を上下に配置した構造のものでは、測定領域を移動す
る場合には上下の半球ガラスを一体として固定したまま
液晶素子22のみを移動させなければならず、移動装置
の構造が大型化・複雑化するという問題があった。しか
し、本実施の形態によれば、上側半球ガラス2が不要で
あるため移動装置の構造が簡単となる。
【0065】一方、上述のように液晶素子22を移動で
きるようにした場合には、測定領域を変更することによ
り光学的特性の分布ムラ等を容易に検知できる。また、
マイクロメーターを付設して液晶素子22の移動距離を
測定するようにした場合には、測定した光学的特性と測
定領域の位置とを関連付けることができる。
【0066】ところで、測定領域が小さい場合には、測
定精度を維持するために事前の調整作業を高い精度で行
う必要がある。したがって、測定領域が小さくなくてよ
い場合には、調整作業を高い精度で行わなければならな
い分だけ却って測定作業が煩雑になるという問題が生ず
る。ここで、入射側光学系51と被検体9との間に可変
絞り61を設けた場合には、測定領域の大きさを調整で
き、測定作業の効率を高めることができる。
【0067】一方、図9に示す装置70を液晶のプレテ
ィルト角測定に用いると共に、該測定に際して液晶を駆
動させた場合には、第2の光検知器11によって液晶界
面近傍のみの液晶のスイッチング特性を測定でき、第1
の光検知器76によってバルクとしてのスイッチング特
性を測定できる。したがって、これらの測定結果を比較
することにより液晶素子開発上有効な情報が得られる。
また、これらのスイッチング特性と、測定しておいたプ
レティルト角とを比較照合することにより、液晶素子の
性能と関連づけて、配向技術や、液晶材料そのものの開
発を行うことができる。
【0068】
【実施例】(実施例1)本実施例においては、図7に示
すように、被検体保持手段2として半球状のガラス部材
(以下、“半球ガラス2”とする)を用いた。そして、
この半球ガラス2の平面部2aには液晶素子22を載置
した。この液晶素子22は、一対のガラス基板23の表
面に透明電極5や配向膜6を形成し、それらの間隙に液
晶(被検体)9を挟持させて構成した。なお、この液晶
素子22と半球ガラス2との間には屈折率マッチング液
25を充填した。
【0069】また、第1光源10としてはHe−Neレ
ーザ装置を使用し、半球ガラス2と第2の光検知器11
との間には出射側光学系54を配置した。さらに、出射
側光学系54のレンズ55とレンズ56との間には、遮
蔽部57aと孔部57bとからなるフィルター手段57
を配置した。
【0070】また、液晶素子22の上方には顕微鏡58
を配置し、測定領域の位置を観察できるようにした。
【0071】そして、本装置50を用いて液晶素子22
のプレティルト角を算出したところ、上記実施の形態と
同様の効果が得られた。 (実施例2)本実施例においては、図8に示すように、
入射側光学系51と半球ガラス2との間に可変絞り(絞
り手段)61を配置し、入射光束A2を絞り込めるよう
にした。その他の構成は、上記実施例1と同様とした。
【0072】本実施例によれば、上記実施の形態と同様
の効果が得られた。 (実施例3)本実施例においては、図9に示すように、
半球ガラス2の下方に第2光源71や偏光子72やレン
ズ73を配置して、測定領域に収束光を照射するように
した。また、第1の受光系58の上方には検光子75や
第1の光検知器76を配置して、第2光源71から出射
され駆動下の液晶素子22にて偏光方向を変えられてき
た光を第1の光検知器76によって実時間で検出するよ
うにした。同時に、第1光源10から出射され、液晶9
の前記特定界面で全反射された光も第2の光検知器11
によって実時間で検出するようにした。その他の構成
は、上記実施例1と同様とした。
【0073】本実施例によれば、前記特定界面近傍のみ
の液晶のプレティルト角及びスイッチング特性と、バル
クとしての液晶のスイッチング特性とを比較検討するこ
とが可能となった。 (実施例4)本実施例においては、図10に示すよう
に、顕微鏡対物レンズ58aのN.A.を大きくすると
共に、対物レンズ58aと接眼レンズ58bとの間に可
変絞り81を設けた。その他の構成は、上記実施例1と
同様とした。
【0074】本実施例によれば、顕微鏡58の視野の明
るさを調整して、より正確に測定領域の位置確認をする
ことができる。
【0075】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると
被検体の上方に設けた第1の受光系を通し観測すること
により被検体の不均質分布を高分解能で観測できると同
時に、第1の受光系のN.A.を調節することにより、
実質的に暗視野照明となるようにした場合、高コントラ
ストでの観測が可能となる。
【0076】
【0077】
【0078】
【0079】
【図面の簡単な説明】
【図1】TIR法を利用した光学的異方性測定装置の構
造の一例、並びに光学的異方性測定方法を示す模式図。
【図2】TIR法を利用した光学的異方性測定装置の詳
細構造を示す模式図。
【図3】液晶の光学的異方性を示す特性曲線の図。
【図4】TIR法を利用した光学的異方性測定装置の構
造の他の例、並びに光学的異方性測定方法を示す模式
図。
【図5】TIR法を利用した光学的異方性測定装置の構
造のさらに他の例、並びに光学的異方性測定方法を示す
模式図。
【図6】TIR法を利用した光学的異方性測定装置の詳
細構造を示す模式図。
【図7】本発明に係る光学的特性測定装置の構造の一例
を示す模式図。
【図8】本発明に係る光学的特性測定装置の構造の一例
を示す模式図。
【図9】本発明に係る光学的特性測定装置の構造の一例
を示す模式図。
【図10】本発明に係る光学的特性測定装置の構造の一
例を示す模式図。
【符号の説明】
2 半球ガラス(被検体保持手段) 2a 平面部 2b 球面部 9 液晶(被検体) 10 He−Neレーザ装置(第1光源) 11 第2の光検知器 12 偏光子 13 検光子 22 液晶素子 23 ガラス基板(透光性基板) 25 屈折率マッチング液 50 光学的異方性測定装置(光学的特性測定装
置) 51 入射側光学系 54 出射側光学系(第2の受光系) 57 フィルター手段 57a 遮蔽部 57b 孔部 58 顕微鏡(第1の受光系) 58a 対物レンズ 58b 接眼レンズ 60 光学的異方性測定装置(光学的特性測定装
置) 61 絞り手段(可変絞り) 70 光学的異方性測定装置(光学的特性測定装
置) 71 第2光源 76 第1の光検知器 80 光学的異方性測定装置(光学的特性測定装
置) 81 可変絞り
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−110300(JP,A) 特開 平8−193946(JP,A) 特開 平9−243510(JP,A) 特開 平11−173947(JP,A) 特開 平10−206317(JP,A) 特開 平10−68673(JP,A) 特開 平9−325087(JP,A) 特開 平9−119886(JP,A) 特開 平9−105704(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01M 11/00 G01J 4/00 - 4/04 G01N 21/21 - 21/47 G01N 21/84 - 21/958 G02F 1/13

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検体と、該被検体に光束を照射する第
    1光源と、該第1光源からの光束を前記被検体の特定界
    面に収束させる入射側光学系と、を備えて、前記被検体
    の光学的特性を測定する光学的特性測定装置において、前記第1光源から出射されて前記被検体を透過してきた
    光を受光する第1の受光系、を備え、 該第1の受光系が受光する光は、 前記被検体を照明する
    光束により該被検体内に生じると共に該被検体が有する
    光学的不均質性により進行方向を曲げられたエバネッセ
    ント光である、 ことを特徴とする光学的特性測定装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の受光系を通過した光束を検出
    する第1の光検知器を設けた、 ことを特徴とする請求項1に記載の光学的特性測定装
    置。
  3. 【請求項3】 前記被検体を照明する光束が、直線偏光
    を有する、 ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光学的特性測
    定装置。
  4. 【請求項4】 前記第1光源からの光束は、前記被検体
    の表面の略円形状の領域に照射される、 ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載
    の光学的特性測定装置。
  5. 【請求項5】 前記第1光源及び前記第1の受光系は、
    前記被検体を挟むように別々の側に配置された、 ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載
    の光学的特性測定装置。
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