KR980002310A - 단결정의 제조방법 및 그 장치 - Google Patents

단결정의 제조방법 및 그 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR980002310A
KR980002310A KR1019970023154A KR19970023154A KR980002310A KR 980002310 A KR980002310 A KR 980002310A KR 1019970023154 A KR1019970023154 A KR 1019970023154A KR 19970023154 A KR19970023154 A KR 19970023154A KR 980002310 A KR980002310 A KR 980002310A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
single crystal
producing
silicon single
heat shield
heat
Prior art date
Application number
KR1019970023154A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100222378B1 (ko
Inventor
도른베르게르 에리히
욀크루그 한스
폰 암몬 빌프리드
그래프 디테르
Original Assignee
알. 뢰머, 게르트 켈러
와커-실트로닉 게셀샤프트 퓌르 할브라이테르마테리아리엔 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 알. 뢰머, 게르트 켈러, 와커-실트로닉 게셀샤프트 퓌르 할브라이테르마테리아리엔 아게 filed Critical 알. 뢰머, 게르트 켈러
Publication of KR980002310A publication Critical patent/KR980002310A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100222378B1 publication Critical patent/KR100222378B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/06Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/14Heating of the melt or the crystallised materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10Apparatus
    • Y10T117/1024Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
    • Y10T117/1032Seed pulling
    • Y10T117/1068Seed pulling including heating or cooling details [e.g., shield configuration]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

본 발명은 소정의 온도범위에서 소정의 드웰시간(dwell time)동안 생장 단결정을 유지하는 실리콘 단결정의 제조방법에 있어서, 그 온도범위를 850∼1100℃로 선택하여, 그 선택온도범위에서 생장단결정의 드웰시간이 250분 이상 또는 80분 이하로 함을 특징으로 하는 제조방법이다.
또, 본 발명은 하부림(lowerrim)과 상부림(upperrim) 사이에서 환상영역(annular zones) 으로 분리시켜, 인접영역이 열방사에 대한 열전도도 및 열투과도를 서로 달리하는 열실드(heat shield)에 의해 그 생장 단결정의 냉각속도가 조정되는 방법 및 장치에 관한 것이다.

Description

단결정의 제조방법 및 그 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (9)

  1. 생장 단결정(growing monocrystal)을 소정의 온도범위에서 소정의 드웰시간(dwell time)동안 유지시키는 실리콘 단결정의 제조방법에 있어서, 그 온도범위를 850∼1100℃로 선택하여, 그 선택온도범위에서 생장단결정의드웰시간을 250분 이상 또는 80분 이하로 함을 특징으로 하는 실리콘 단결정의 제조방법.
  2. 생장단결정의 냉각속도가 그 생장단결정을 둘러싼 열실드(heat shield)에 의해 조정되고, 그 열실드는 하부림(lower rim)과 상부림(upper rim) 사이에서 환상영역(annular zones)으로 분리시키며, 인접영역은 방열(heat radiation)에 의한 열 전도도와 열투과도를 달리함을 특징으로 하는 실리콘 단결정의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 그 열실드의 하부림에 있는 영역은 열방사계수 0.3∼0.9과 열전도도 0.02∼5Wm-1K-1을 가짐을 특징으로 하는 실리콘단결정의 제조방법.
  4. 생장 단결정을 둘러싼 열실드를 가진 실리콘 단결정의 제조장치에 있어서, 그 열실드는 하부림(lowerrim)과 상부림(upper rim) 사이에 적어도 2개의 환상영역으로 분리시키며, 인접영역은 방열에 대한 열전도도와 열투과도를 서로 달리함을 특징으로 하는 실리콘 단결정의 제조장치.
  5. 제4항에 있어서, 그 열실드의 하부림에 있는 영역은 열방사계수 0.3∼0.9과 열전도도 0.02∼5Wm-1K-1을 가짐을 특징으로 하는 실리콘 단결정의 제조방법.
  6. 제4항에 있어서, 이들의 영역 중 적어도 하나는 냉각장치에 의해 냉각시킬 수 있도록 함을 특징으로 하는실리콘 단결정의 제조장치.
  7. 제4항에 있어서, 이들의 영역 중 적어도 하나는 가열장치에 의해 가열시킬 수 있도록 함을 특징으로 하는실리콘 단결정의 제조장치.
  8. 제4항에 있어서, 이들 영역의 총수는 2∼5개임을 특징으로 하는 실리콘 단결정의 제조장치,
  9. 제4항에 있어서, 그 열실드는 그라파이트(graphite), 그라파이트펠트(graphite felt), 석영, 실리콘, CFC, 몰리브덴, 은 및 위 재료 2종이상으로 된 적층 복합체구조물(laminated composite structures)로 구성되는 재료의 그룹에서 선택한 적어도 하나의 재료로부터 제조함을 특징으로 하는 실리콘 단결정의 제조장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970023154A 1996-06-05 1997-06-04 단결정의 제조방법 및 그 장치 KR100222378B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19622664.3 1996-06-05
DE19622664A DE19622664A1 (de) 1996-06-05 1996-06-05 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR980002310A true KR980002310A (ko) 1998-03-30
KR100222378B1 KR100222378B1 (ko) 1999-10-01

Family

ID=7796275

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970023154A KR100222378B1 (ko) 1996-06-05 1997-06-04 단결정의 제조방법 및 그 장치

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5951753A (ko)
EP (1) EP0811707B1 (ko)
JP (1) JPH1036190A (ko)
KR (1) KR100222378B1 (ko)
DE (2) DE19622664A1 (ko)
MY (1) MY129966A (ko)
SG (1) SG52986A1 (ko)
TW (1) TW475009B (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100671287B1 (ko) * 2005-02-26 2007-01-19 네오세미테크 주식회사 비소 원료 장입장치
KR100741848B1 (ko) * 2005-02-26 2007-07-24 네오세미테크 주식회사 탄화규소 단결정 성장 장치
KR100826592B1 (ko) * 2006-12-28 2008-04-30 주식회사 실트론 실리콘 단결정 잉곳 제조 장치 및 제조 방법

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19637182A1 (de) * 1996-09-12 1998-03-19 Wacker Siltronic Halbleitermat Verfahren zur Herstellung von Halbleiterscheiben aus Silicium mit geringer Defektdichte
JP3346249B2 (ja) * 1997-10-30 2002-11-18 信越半導体株式会社 シリコンウエーハの熱処理方法及びシリコンウエーハ
DE19756613A1 (de) * 1997-12-18 1999-07-01 Wacker Siltronic Halbleitermat Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristalls
JP3685026B2 (ja) * 2000-09-26 2005-08-17 三菱住友シリコン株式会社 結晶成長装置
US6482263B1 (en) * 2000-10-06 2002-11-19 Memc Electronic Materials, Inc. Heat shield assembly for crystal pulling apparatus
US6797062B2 (en) * 2002-09-20 2004-09-28 Memc Electronic Materials, Inc. Heat shield assembly for a crystal puller
TWI263713B (en) * 2004-11-04 2006-10-11 Univ Nat Central Heat shield and crystal growth equipment
CN101792933B (zh) * 2010-03-10 2012-06-06 嘉兴明通光能科技有限公司 太阳能级硅单晶混合掺杂配料方法
US10190235B2 (en) * 2013-05-24 2019-01-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Wafer supporting structure and method for forming the same
US10060046B2 (en) 2014-09-19 2018-08-28 Corner Star Limited Crystal puller for inhibiting melt contamination
JP2022149310A (ja) * 2021-03-25 2022-10-06 Tdk株式会社 結晶製造方法、結晶製造装置、及び単結晶

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3342559A (en) * 1964-04-27 1967-09-19 Westinghouse Electric Corp Apparatus for producing dendrites
US4784715A (en) * 1975-07-09 1988-11-15 Milton Stoll Methods and apparatus for producing coherent or monolithic elements
US4597949A (en) * 1983-03-31 1986-07-01 Massachusetts Institute Of Technology Apparatus for growing crystals
JPS62138384A (ja) * 1985-12-11 1987-06-22 Shin Etsu Handotai Co Ltd 単結晶の引上方法
JPH0639352B2 (ja) * 1987-09-11 1994-05-25 信越半導体株式会社 単結晶の製造装置
US4981549A (en) * 1988-02-23 1991-01-01 Mitsubishi Kinzoku Kabushiki Kaisha Method and apparatus for growing silicon crystals
JPH0365593A (ja) * 1989-08-02 1991-03-20 Nippon Mining Co Ltd 単結晶成長装置
JP2709310B2 (ja) * 1989-11-11 1998-02-04 住友シチックス株式会社 単結晶引上げ装置
WO1992013705A1 (en) * 1991-02-06 1992-08-20 Oji Kenzai Kogyo Co., Ltd. Method of producing laminated product for honeycomb structure
JP3016897B2 (ja) * 1991-03-20 2000-03-06 信越半導体株式会社 シリコン単結晶の製造方法及び装置
WO1993000462A1 (en) * 1991-06-24 1993-01-07 Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. Device for pulling up single crystal
JP2940892B2 (ja) * 1992-06-03 1999-08-25 三菱マテリアル株式会社 単結晶引上装置
JP2827789B2 (ja) * 1993-02-23 1998-11-25 信越半導体株式会社 単結晶引上げ装置用不活性ガス整流・吹付け装置
JP2686223B2 (ja) * 1993-11-30 1997-12-08 住友シチックス株式会社 単結晶製造装置
JP3533812B2 (ja) * 1996-02-14 2004-05-31 信越半導体株式会社 チョクラルスキー法による結晶製造装置、結晶製造方法、およびこの方法から製造される結晶

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100671287B1 (ko) * 2005-02-26 2007-01-19 네오세미테크 주식회사 비소 원료 장입장치
KR100741848B1 (ko) * 2005-02-26 2007-07-24 네오세미테크 주식회사 탄화규소 단결정 성장 장치
KR100826592B1 (ko) * 2006-12-28 2008-04-30 주식회사 실트론 실리콘 단결정 잉곳 제조 장치 및 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
EP0811707B1 (de) 2001-10-31
TW475009B (en) 2002-02-01
DE19622664A1 (de) 1997-12-11
MY129966A (en) 2007-05-31
US5951753A (en) 1999-09-14
JPH1036190A (ja) 1998-02-10
DE59705140D1 (de) 2001-12-06
SG52986A1 (en) 1998-09-28
KR100222378B1 (ko) 1999-10-01
EP0811707A1 (de) 1997-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR980002310A (ko) 단결정의 제조방법 및 그 장치
KR960023272A (ko) 결정 결함이 적은 실리콘 단결정의 제조방법
YU150884A (en) Device for chemical vapour depositing
DE69009915T2 (de) Vorrichtung zur synthetischen Diamantherstellung mit gebogenen Filamenten und Substratkühlungseinrichtung.
KR970059321A (ko) Cz 실리콘 결정 성장 시스템의 급속냉각법
JPS6466929A (en) Method of forming defect-free single crystal thin layer of semiconductor material
US2855335A (en) Method of purifying semiconductor material
US6355910B1 (en) Heating element for heating crucibles and arrangement of heating elements
DE50302383D1 (de) Kochsystem mit direkt beheizter glaskeramikplatte
US3242015A (en) Apparatus and method for producing single crystal structures
Leamy Laser fabrication of silicon on dielectric substrates
US3649210A (en) Apparatus for crucible-free zone-melting of crystalline materials
JPH06287098A (ja) 単結晶引上げ用装置
KR890008943A (ko) 기판상의 단결정층 제조방법
GB1358817A (en) None-crucible zone melting of rods of crystalline material
Patel et al. Growth and etching of PbS whiskers from the vapour phase
KR910013486A (ko) 결함-없는 단결정 박막층 제조방법
JP2991585B2 (ja) 単結晶育成装置および単結晶の製造方法
Nikolov et al. The effect of variation of thermal field on the morphology of β-BaB2O4 single crystals grown by top-seeded solution growth
KR101886187B1 (ko) 사파이어 단결정 성장용 도가니 및 이를 구비한 성장장치
JPH03280418A (ja) 半導体膜の製造方法
JPS645012A (en) Vapor growth equipment
JPS5721834A (en) Semiconductor substrate
JPS57106598A (en) Semiconductor crystal growing device
JP2665778B2 (ja) 半導体単結晶引上げ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130627

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140626

Year of fee payment: 16

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150625

Year of fee payment: 17

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160623

Year of fee payment: 18

EXPY Expiration of term