KR970703449A - 금속 재료의 산세척 공정 - Google Patents

Abstract

산소-함유 가스를 분사 엔클로져 안으로 공급함으로써 산소가 공급되는 제한된 공기 내에서 산세척 용액이 금속 부품에 분사되며, 이 산세척 용액은 폐쇄된 산세척 용액 서킷 내에서 재순환되는 방법, 금속 표면을 산세척하기 위한 본 장치는 수집 탱크(2)를 보유하는 분사 엔클로져(1)와, 상기 엔클로져내에서 산세척 용액(S)을 분사하는 수단(6)과, 상기 탱크(2)와 상기 분사 수단(6) 사이에서 상기 용액을 재순환시키는 수단(11)과, 산소-함유 가스를 상기 엔클로져로 통과시키는 수단(8 및 9)을 포함하며, 선택적으로 상기 용액의 온도를 유지하는 수단(13)과 제어수단을 포함한다. 본 발명의 방법은 시약을 절약하면서 스테인레스나 합금강 단편들의 산세척 라인의 생산성을 향상시키도록 설계된다.

Description

금속 재료의 산세척 공정

[도면의 간단한 설명]

제1도는 본 발명에 따른 분사를 이용하는 금속 스트립의 연속적인 산세척을 위한 장치의 개략도이며,

제2도는 본 발명에 따른 산세척 장치의 두개의 분사 비(bar)를 도시하는, 제2도의 장치의 단면도이며,

제3도는 본 발명에 따른 산세척 장치의 일부를 형성하는 와이어 코일에 분사하기 위한 장치의 측면도이다.

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (25)

1. 염산, 특히 불화수소산, 무기산, 특히 유황산 또는 인산 및 철-산화제가 아닌 유기산들, 특히 포름산 또는 초산 중 적어도 하나는 포함하는 산성매개물 내에 철 이온을 함유하는 산세척 용액(S)을 이용하여 금속재료, 특히 합금강이나, 스테인레스 스틸, 또는, 티타늄 강으로 만든 금속 재료의 산세척 공정을 제공하는 것으로, 본 공정에서 상기 용액은 폐쇄된 산세척-용액 서킷내에서 재료 위에 분사되고, 재생되고, 재순환되며, 상기 분사는 챔버 안으로 산소-함유 가스(G)를 유입시킴으로써 산소를 유입하는 분사 챔버의 제한된 공기 내에서 수행되는 것을 특징으로 하는 산세척 공정.
2. 제1항에 있어서, 분사 챔버 내의 산소-함유 가스의 유량이 한결같이 유지되는 것을 특징으로 하는 공정.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 산소-함유 가스의 산소 함유량이 10% 이상인 것을 특징으로 하는 공정.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산소-함유 가스의 유량 비율이 적어도 상기 용액의 분사 유량 비율과 같은 것을 특징으로 하는 공정.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가스의 유량 비율이 대략 최소 15분마다, 그리고 바람직하게는 매5분마다 분사 챔버 내 공기를 환기시킬 수 있게 하는 것을 특징으로 하는 공정.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 공정의 산소 함유량이 적어도 10% 이상을 유지하는 것을 특징으로 하는 공정.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 리터／분으로 표현되는 상기 용액의 분사 유량 비율과 평방미터／분으로 표현되는 단위 시간당 산세척되는 표면 면적 사이의 비율이 적어도 5인 것을 특징으로 하는 공정.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 산세척 용액의 일부가 분사 작용에 의해 상기 챔버 내로 유입되는 것을 특징으로 하는 공정.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 산세척 용액의 산화 환원 반응 잠재성이 미리 설정된 값으로 유지되는 것을 특징으로 하는 공정.
10. 제9항에 있어서, 상기 산소-함유 가스 유입의 유량 비율로 조절하여 상기 산화 환원 반응 잠재성을 상기 미리 설정된 값에 맞추는 것을 특징으로 하는 공정.
11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 산세척 용액에 산화제를 첨가함으로써 상기 산화 환원 반응 잠재성을 상기 미리 설정된 값에 맞추는 것을 특징으로 하는 공정.
12. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 용액의 분사 유량 비율을 조절하여 상기 산화 환원 반응 잠재성을 상기 미리 설정된 값에 맞추는 것을 특징으로 하는 공정.
13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 뜨거운 산소-함유 공기의 흐름이 산세척 용액 안으로 불어 넣어지는 것을 특징으로 하는 공정.
14. 수집 탱크(2)를 갖추고 있는 분사 챔버(1)와 상기 챔버 내에서 산세척 용액(S)을 분사하는 수단(6)과 상기 탱크(2)와 상기 분사 수단(6) 사이에서 상기 용액을 재순환시키는 수단(11)과 산소-함유 가스(G) 이용하여 상기 챔버를 환기시키는 환기수단(8 및 9)을 포함하는, 분사에 의해 금속 표면을 산세척하는 장치.
15. 제14항에 있어서, 상기 환기수단(8 및 9)이 매15분마다, 그리고 바람직하게는 매5분마다 환기되는 상기 챔버의 용적을 나타내는 최소 유량비율로 상기 산소-함유 가스를 운반하는 것을 특징으로 하는 장치.
16. 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 산세척 용액을 분사하는 상기 수단(6)이 공기 분무 타입인 것을 특징으로 하는 장치.
17. 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 산세척 용액을 분사하는 상기 수단(6)이 종래의 살포 타입 수단과 공기 분무 타입을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
18. 제14항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 용액의 온도를 유지시키는 수단(13)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
19. 제18항에 있어서, 온도를 유지시키는 상기 수단이 상기 용액 안으로 뜨거운 산소-함유 가스를 내뿜는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
20. 제14항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 액체가 놓여 있는 영역안으로 뜨거운 산소-함유 가스를 내뿜는 수단을 선택적으로 갖춘 액체／고체 분리수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
21. 제14항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 측정 관측기, 특히 온도, pH, 또는 상기 용액의 산화 환원 반응 잠재성을 측정하는 측정 관측기를 포함하는 모니터 수단을 더 포함하는데, 이 수단들이 상기 용액을 재순환시키는 서킷의 어느 한 지점에 설치되는 것을 특징으로 하는 장치.
22. 제21항에 있어서, 상기 모니터 수단이 상기 산세척 용액의 산화 환원 반응 잠재성을 측정하는 관측기를포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
23. 제22항에 있어서, 산화제, 특히 과산화 수소를 상기 용액을 재순환시키는 서킷 안으로 주입하는 수단을 더 포함하는데, 이 수단들이 잠재성을 측정하기 위한 상기 관측기에 종속적으로 작동하는 것을 특징으로 하는 장치.
24. 제22항 및 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환기수단이 가스(G) 유량 비율을 조절하기 위한 밸브를 갖추고 있는데, 이 밸브가 잠재성을 측정하기 위한 상기 관측기에 종속적으로 작동하는 것을 특징으로 하는 장치.
25. 제22항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 분사 수단이 용액(S)의 유량 비율을 조절하기 위한 밸브를 갖추고 있는데, 이 밸브가 잠재성을 측정하기 위한 상기 관측기에 종속적으로 작동하는 것을 특징으로 하는 장치.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.