KR970077292A - 반도체소자 제조용 식각장치 - Google Patents

반도체소자 제조용 식각장치 Download PDF

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KR970077292A
KR970077292A KR1019960014232A KR19960014232A KR970077292A KR 970077292 A KR970077292 A KR 970077292A KR 1019960014232 A KR1019960014232 A KR 1019960014232A KR 19960014232 A KR19960014232 A KR 19960014232A KR 970077292 A KR970077292 A KR 970077292A
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KR1019960014232A
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유왕희
박성호
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 반도체소자의 제조장비에 사용되는 공정과정에서 웨이퍼에 형성된 막질중 필요없는 부위를 식각하기 위한 습식식각장치에 관한 것으로 특히 식각장치내 공정조를 최적화하기 위한 반도체소자 제조용 식각장치에 관한 것이다.
본 발명의 따른 식각장치는 화학용액이 하부에서 공급되어 상부로 오버 플로우되는 공정조와 이 공정조 내에 웨이퍼를 투입하여 식각 공정을 수행하고, 또한 상기 공정조내에 웨이퍼가 적재되는 캐리어가 얹혀져 안착될 수 있도록 평행하게 위치한 한 쌍의 정렬편과, 이 정렬편이 일정위치에 고정되도록 하고 상기 유동수단에 연결되도록 상기 공정조 밖으로 연장된 지지아암으로 구성된 웨이퍼 지지수단과; 상기 캐리어 지지대의 일단에 연결되어 캐리어를 소정간격으로 왕복운동되도록 하는 엑추에이터와 모터에 의해 구동되는 왕복부재 중 어느하나를 사용하여 상기 지지수단을 수평방향으로 유동시켜 주는 유동수단을 포함하여, 식각과정에서 발생한 기포로 인한 공정불량의 요인을 제거하여 공정의 균일도를 높여 줌으로서 수율 향상과 아울러 제품의 품질을 향상되도록 한 것이다.

Description

반도체소자 제조용 식각장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 습식 식각장치의 사시도.

Claims (3)

  1. 화학용액이 하부에서 공급되어 상부로 오버플로우되는 공정조(10)와 이 공정조 내에 웨이퍼(100)를 투입하여 식각 공정을 반도체 웨이퍼의 습식식각장치에 있어서, 상기 공정조(10)내에 웨이퍼가 일정위치에 고정되도록 하는 웨이퍼 지지수단과; 상기 웨이퍼 지지수단에 연결되어 이 지지수단을 수평방향으로 유동시켜 주는 유동수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 식각장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼 지지수단은 웨이퍼가 적재되는 캐리어(50)가 얹혀져 안착될 수 있도록 평행하게 위치한 한 쌍의 정렬편(61)과, 이 정렬편이 일정위치에 고정되도록 하고 상기 유동수단에 연결되도록 상기 공정조(10) 밖으로 연장된 지지아암(62)으로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 식각장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 유동수단(70)은 상기 캐리어 지지아암(62)의 일단에 연결되어 캐리어(50)를 소정간격으로 왕복운동되도록 하는 엑추에이터와 모터에 의해 구동되는 왕복부재 중 어느 하나를 사용한 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 식각장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2008136895A1 (en) * 2007-05-02 2008-11-13 Lam Research Corporation Substrate cleaning techniques employing multi-phase solution

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