KR970072028A - 처리액 도포장치 - Google Patents

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KR970072028A
KR970072028A KR1019970015223A KR19970015223A KR970072028A KR 970072028 A KR970072028 A KR 970072028A KR 1019970015223 A KR1019970015223 A KR 1019970015223A KR 19970015223 A KR19970015223 A KR 19970015223A KR 970072028 A KR970072028 A KR 970072028A
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KR
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edge portion
resist
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rectifying plate
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KR1019970015223A
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Inventor
다카유키 사토
Original Assignee
이시다 아키라
다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
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Publication date
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Publication of KR970072028A publication Critical patent/KR970072028A/ko
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

Abstract

본 발명은 기판 상부면에 레지스트(18)를 도포할 때 기판 사이즈마다 척 및 정류판을 필요로 하지 않고, 그 레지스트(18)가 기판 이면으로 돌아 들어가는 것을 확실하게 방지하는 처리액 도포장치에 관한 것으로, 본 발명은 기판(13)이 사이즈가 크고 얇은 경우, 기판(13)의 단 가장자리부와 진공척(12)과의 거리인 오버행(overhang)량이 많아져서, 스핀처리후에 기판(13)의 단 가장자리부가 아래로 처지려고 해도 적어도 가장 아래로 처지는 위치에 돌기부재(15)의 돌기부(16)가 위치하고 있으면, 기판(13)의 단가장자리부와 정류판(14) 상부면과의 간격이 소정치수로 확보되어 종래와 같이 그 접촉부 또는 간격에 액이 남지 않는다. 이에 따라 레지스트의 기판 이면으로의 돌아 들어가는 것이 방지되고, 기판(13) 사이즈마다 각종 사이즈의 진공척(12) 및 정류판(14)을 배설하여 교환장착작업을 할 필요도 없어진다.

Description

처리액 도포장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 일실시형태를 도시한 처리액 도포장치에 있어서 기판재치부의 평면도.

Claims (2)

  1. 기판을 수평으로 지지하는 기판지지부재가 중앙에 설치되고, 이 기판지지부재의 주위에 이 기판지지부재의 상부면 위치보다 상부면이 소정치수만큼 약간 낮은 위치에 배설된 정류부재가 설치되고, 상기 기판지지부재상에 지지된 기판을 회전시킴으로써 상기 기판상에 처리액을 도포하는 처리액 도포장치에 있어서, 상기 기판지지부재상에 지지된 기판의 이면과 상기 정류부재의 상부면과의 간격을 상기 소정 치수로 유지하기 위해, 상기 기판의 단 가장자리부의 이면에 닿는 돌기를 가진 돌기부재가 상기 정류부재측에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 처리액 도포장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 돌기부재는 상기 기판의 단 가장자리부중 적어도 4각부에 대응하는 상기 정류부재측에 각각 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 처리액 도포장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970015223A 1996-04-23 1997-04-23 처리액 도포장치 KR100227645B1 (ko)

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JP96-101305 1996-04-23
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KR100816008B1 (ko) * 2001-10-30 2008-03-24 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 판형 피처리물의 회전처리장치 및 회전처리방법
KR100695229B1 (ko) * 2005-10-26 2007-03-14 세메스 주식회사 스핀 척

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JP3821400B2 (ja) 2006-09-13
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