KR970053123A - 반도체 웨이퍼 세정장치 - Google Patents

반도체 웨이퍼 세정장치 Download PDF

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KR970053123A
KR970053123A KR1019950061967A KR19950061967A KR970053123A KR 970053123 A KR970053123 A KR 970053123A KR 1019950061967 A KR1019950061967 A KR 1019950061967A KR 19950061967 A KR19950061967 A KR 19950061967A KR 970053123 A KR970053123 A KR 970053123A
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KR
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cleaning
semiconductor wafer
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filter
particles
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KR1019950061967A
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Inventor
송주헌
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

이 발명은 파티클을 모니터링 할 수 있는 파티클카운터가 결합된 반도체 웨이퍼 세정장치에 관한 것이다.
이 발명의 구성은, 세정용액을 가지고 웨이퍼를 세정하는 세정조; 상기의 세정조에 포함된 세정용액을 순환시키는 순화펌프; 순환펌프로부터 순환되는 세정용액을 일정한 온도로 유지하는 항온조; 항온조의 세정용액을 여과하여 상기의 세정조에 다시 제공하는 필터; 필터에 의해 여과된 세정용액의 파티클을 카운트하는 파티클카운터로 이루어진다.
이 발명의 효과는, 세정액의 파티클을 항상 모니터링하므로 설비 보전작업이 용이하고, 세정 공정중 웨이퍼 세정의 안정성을 확보하여 세정시 파티클 오염에 의한 웨이퍼의 불량화를 방지할 수 있는 파티클카운터가 결합된 반도체 웨이퍼 세정장치를 제공할 수 있다.

Description

반도체 웨이퍼 세정장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 이 발명의 실시예에 따른 파티클카운터가 결합된 반도체 웨이퍼 세정장치의 구성도이다.

Claims (1)

  1. 반도체 웨이퍼 세정장치에 있어서, 세정용액을 가지고 웨이퍼를 세정하는 세정조; 상기의 세정조에 포함된 세정용액을 순환시키는 순환펌프; 상기의 순환펌프로부터 순환되는 세정용액을 일정한 온도로 유지하는 항온조; 상기의 항온조의 세정용액을 여과하여 상기의 세정조에 다시 제공하는 필터; 상기의 필터에 의해 여과된 세정용액의 파티클을 카운트하는 파티클카운터로 이루어지는 것을 특징으로 하는 파티클카운터가 결합된 반도체 웨이퍼 세정장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950061967A 1995-12-28 1995-12-28 반도체 웨이퍼 세정장치 KR970053123A (ko)

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